【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光催化消杀设备，具体涉及一种光催化消杀装置。
技术介绍
1、tio2紫外光催化反应的原理主要基于光生电子-空穴对的产生和利用。当tio2处于紫外光照射下时，其能带结构中的电子会被激发到导带中，形成电子-空穴对。这些电子-空穴对可以在tio2表面发生一系列催化反应，例如氧化还原反应、光解水等。
2、在tio2紫外光催化反应中，光生电子主要参与还原反应，而光生空穴则参与氧化反应。这是因为光生电子具有较强的还原能力，可以捕获溶液中的氧分子或其他有机物质，从而发生还原反应。而光生空穴则具有强氧化性，可以与溶液中的水分子或有机物质发生氧化反应。
3、在现有技术中，光催化消杀设备存在tio2在设备中是静态的，导致光催化效率不高，消杀不彻底的问题 。
技术实现思路
1、针对现有技术中的问题，本专利技术提供一种，其目的在于：提高二氧化钛光催化消杀的效率。
2、本专利技术采用的技术方案如下：
3、一种光催化消杀装置，包括：
4、净化槽...
【技术保护点】
1.一种光催化消杀装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光催化消杀装置，其特征在于，所述相邻的两个挡水板（2）上的疏水孔（11）错位设置。
3.根据权利要求2所述的光催化消杀装置，其特征在于，所述相邻的两个挡水板（2）中的其中一个挡水板（2）上的疏水孔（11）设置在下部的中心，另一个挡水板（2）的疏水孔（11）设置在下部的两侧。
4.根据权利要求1所述的光催化消杀装置，所述钛片（3）的材质为二氧化钛。
5.根据权利要求1所述的光催化消杀装置，其特征在于，所述净化槽（1）为U形结构，所述钛片（3）为圆形结构。<...
【技术特征摘要】
1.一种光催化消杀装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光催化消杀装置，其特征在于，所述相邻的两个挡水板（2）上的疏水孔（11）错位设置。
3.根据权利要求2所述的光催化消杀装置，其特征在于，所述相邻的两个挡水板（2）中的其中一个挡水板（2）上的疏水孔（11）设置在下部的中心，另一个挡水板（2）的疏水孔（11）设置在下部的两侧。
4.根据权利要求1所述的光催化消杀装置，所述钛片（3）的材质为二氧化钛。
5.根据权利要求1所述的光催化消杀装置，其特征在于，所述净化槽（1）为u形结构，所述钛片（3）为圆形结构。
6.根据权利要求1所述的光催...
【专利技术属性】
技术研发人员：叶志镇，黄建国，吴进明，王康，李自富，
申请(专利权)人：浙江锌芯友好环境材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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