【技术实现步骤摘要】
本申请涉及光刻工艺的领域，尤其是涉及一种掩膜版。
技术介绍
1、掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，掩膜版是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。
2、目前市面上的掩膜版主要分为菲林掩膜版，铬掩模版以及干板和液体凸版四种。菲林掩模板因价格较低广泛应用于lcd、pcb、fpc等行业，菲林掩模版为软版常用于底光源接触式曝光机，具体流程为菲林掩模版贴附在曝光光源上部的石英平台，然后将需要曝光的产品放置在菲林掩膜版上方，进行曝光处理，此方案只能做精度较低的产品。
3、随着生产单位对产品精度要求的升高、设备自动化和产能要求的增加，通常采用接近式曝光机进行生产，由于铬掩模版相较于菲林掩膜版精度更高，接近式曝光机通常采用铬掩膜版进行量产图形转移，具体流程为将铬掩膜版装载在接近式曝光机上掩膜架上，然后将需要曝光的产品放置在铬掩膜版上方，进行曝光处理；在生产的过程中对应...
【技术保护点】
1.一种掩膜版，其特征在于：包括菲林片(1)与铬玻璃板(2)，所述菲林片(1)贴附在所述铬玻璃板(2)上，所述菲林片(1)与所述铬玻璃板(2)可拆卸连接，所述菲林片(1)包括图形区(11)与非图形区(12)，所述图形区(11)用于供所述菲林片(1)制作成不同产品所使用的图形，所述铬玻璃板(2)用于装载在掩膜架上。
2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于：所述菲林片(1)与所述铬玻璃板(2)上共同设有对位组件(3)，所述对位组件(3)供所述菲林片(1)与所述铬玻璃板(2)准确对位。
3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于：所述对位组件(3...
【技术特征摘要】
1.一种掩膜版，其特征在于：包括菲林片(1)与铬玻璃板(2)，所述菲林片(1)贴附在所述铬玻璃板(2)上，所述菲林片(1)与所述铬玻璃板(2)可拆卸连接，所述菲林片(1)包括图形区(11)与非图形区(12)，所述图形区(11)用于供所述菲林片(1)制作成不同产品所使用的图形，所述铬玻璃板(2)用于装载在掩膜架上。
2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于：所述菲林片(1)与所述铬玻璃板(2)上共同设有对位组件(3)，所述对位组件(3)供所述菲林片(1)与所述铬玻璃板(2)准确对位。
3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于：所述对位组件(3)包括设置在所述菲林片(1)上的空心标记(31)，还包括设置在所述铬玻璃板(2)上的实心标记(32)，所述空心标记(31)与所述实心标记(32)相匹配设置。
4.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于：所述空心标记(31)设置在所述菲林片(1)的所述非图形区(12)内。
【专利技术属性】
技术研发人员：陈兵，郝力强，王勇波，马中生，
申请(专利权)人：苏州清越光电科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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