与辣椒果面蜡质缺失相关的SNP位点、CAPS分子标记及应用制造技术

本发明专利技术涉及辣椒分子标记领域，公开了与辣椒果面蜡质缺失相关的SNP位点、CAPS分子标记及应用。申请人通过对辣椒果面蜡质缺失材料‘LXQ‑93‑5‑无1’和果面蜡质正常材料‘白辣椒‑M’构建F2分离群体，利用混池RNA测序（BSR‑seq）结合连锁作图的方法，确定了控制辣椒果面蜡质层缺失与否的基因及其关键变异位点，并根据变异位点设计基因标记。采用该标记进行鉴定不需要在辣椒坐果期，苗期即可准确检测辣椒果面蜡质层是否缺失，检测成本低、效率高。并且本发明专利技术的分子标记是位于基因内部，准确性高，显著提高育种效率并降低育种成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及辣椒分子标记领域，具体涉及与辣椒果面蜡质缺失相关的snp位点、caps分子标记及应用。

技术介绍

1、辣椒是一种重要的蔬菜作物和调味品。果面蜡质层是辣椒品质最重要的性状之一，不同类型辣椒品种对果面蜡质层要求存在差异。鲜食辣椒需要果面蜡质层厚度薄，炒食后皮肉不分离、食用口感化渣；而卤煮专用的加工辣椒品种需要蜡质层相对较厚，煮制中不易化渣、耐卤制。此外，果面蜡质层是保护果实的天然屏障，与果实的耐藏性和抗病性密切相关。因此，开展辣椒果面蜡质层性状相关研究，根据育种目标发掘不同蜡质层厚度的辣椒种质资源、发掘果面蜡质层调控基因、开发实用标记，对辣椒品质育种具有重要意义。

2、本专利技术涉及的果面蜡质层缺失材料‘lxq-93-5-无1’是在辣椒品种‘香楚3号’的后代单株中发现的自然突变体材料，通过连续定性选择获得纯合株系，是果面蜡质层厚度极薄的极端材料。不同育种目标和消费需求的辣椒品种对果面蜡质层厚度有不同的要求，因此应用该蜡质层缺失辣椒材料对开展辣椒品质育种具有重要意义，同时也为丰富辣椒蜡质层合成与调控机制理论研究提供新案例。为更好地开展不本文档来自技高网...

【技术保护点】

1. 检测与辣椒果面蜡质缺失相关的SNP位点的试剂在辣椒蜡质层有无性状育种中的应用，所述的SNP位点位于辣椒P12染色体的第221,019,529位，所述的辣椒,参考辣椒Zhangshugang参考基因组，Ver 2023-03-14，http://ted.bti.cornell.edu/ftp/pepper/genome/Zhangshugang/。

2.根据权利要求1所述的应用，所述的试剂为引物。

3. 根据权利要求2所述的应用，所述的引物为：F: 5’- TGTTTGGGGACACTTACAATCA -3’，R: 5’- GGGCAGCAGTTGGATTAC...

【技术特征摘要】

1. 检测与辣椒果面蜡质缺失相关的snp位点的试剂在辣椒蜡质层有无性状育种中的应用，所述的snp位点位于辣椒p12染色体的第221,019,529位，所述的辣椒,参考辣椒zhangshugang参考基因组，ver 2023-03-14，http://ted.bti.cornell.edu/ftp/pepper/genome/zhangshugang/。

2.根据权利要求1所述的应...

【专利技术属性】
技术研发人员：李宁，王飞，尹延旭，姚明华，高升华，徐凯，王小迪，詹晓慧，
申请(专利权)人：湖北省农业科学院经济作物研究所，
类型：发明
国别省市：