一种多面体低聚倍半硅氧烷及其制备方法与应用技术

技术编号：39948854 阅读：24 留言：0更新日期：2024-01-08 23:08

本申请提供了一种多面体低聚倍半硅氧烷及其制备方法与应用，属于多面体低聚倍半硅氧烷技术领域，本申请多面体低聚倍半硅氧烷的结构式如式(1)所示：式(1)中，Ra、Rb、Rc、Rd、Re、Rf、Rg、Rh中至少有一个不同，且各自独立地为‑SCH2COOCH2CH(OH)CH2OOC(CH3)＝CH2、‑SCH2COOCH2CH(OH)CH2O(CH2)4Si(OCH3)3。将本申请的多面体低聚倍半硅氧烷应用于胶粘剂或涂层材料中，能够提高胶粘剂或涂层材料的硬度、耐磨性，以及降低树脂固化时的收缩率。

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【技术实现步骤摘要】

本申请涉及多面体低聚倍半硅氧烷，具体涉及一种多面体低聚倍半硅氧烷及其制备方法与应用。

技术介绍

1、多面体低聚倍半硅氧烷(poss)作为一种新型纳米有机-无机杂化材料，具备纳米尺度的刚性笼型结构，分子尺寸通常为1～3nm，由si-o-si形成无机框架核心，外围由有机基团所包围。poss侧基具有可反应性或可聚合的官能团、活性基团数量可控以及良好的有机物相容性等特点，可用于胶黏剂或涂层体系，与其他聚合物形成星形、串珠形或三维交联网状等多样结构，可增强涂层的附着力、耐温性、耐化学品性、绝缘性、收缩性、光泽、硬度及耐磨性等。poss将有机高分子材料的良好反应性、成型性、低成本和无机材料的耐高温、高强度、规整晶型等优异性能综合到单一材料中，为材料的设计和调整提供了极大的方便，在制备高性能胶黏剂或涂层新材料中有着重大潜力。

2、紫外光(uv)固化技术以其固化速度快、固化温度低、节能、环保、成膜性好等优点而得到广泛应用。当光敏树脂经过足够高辐射强度照射时样件才能达到性能最优，但对于不易uv照射的部位(例如阴影遮盖、填料遮盖等场景)，树脂固...

【技术保护点】

1.一种多面体低聚倍半硅氧烷，其特征在于，所述多面体低聚倍半硅氧烷的结构式如式(1)所示：

2.如权利要求1所述的多面体低聚倍半硅氧烷，其特征在于，所述多面体低聚倍半硅氧烷的结构式如式(2)或式(3)所示：

3.一种如权利要求1或2所述的多面体低聚倍半硅氧烷的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

4.如权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述光催化剂为2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2，2-二甲基-2-羟基苯乙酮中的至少一种；和/或，所述阻聚剂为吩噻嗪、对羟基苯甲醚、对苯二酚、N,N-二丁基二硫代氨基甲酸铜中的至少一种。