【技术实现步骤摘要】
本申请涉及晶圆片化学液涂布，具体涉及一种晶圆化学液涂布监测装置、fdc(fault detect control)系统及晶圆涂布系统。
技术介绍
1、光刻机进行例如光刻液等化学液涂布的过程中，是通过控制阀(control valve)打开传输管路，化学液喷向晶圆片表面，以此进行化学液涂布，在涂布结束后再通过控制阀关闭传输通路。但是控制阀会存在突然失效的可能性或者不能完全关闭传输通路的情况，从而导致化学液在非正常涂布阶段也会涂布到晶圆片的表面，从而导致制程处理异常(process abnormal)。
2、业界生产厂家在正常生产流程中会有缺陷检测(defect monitor)步骤，以对产品进行缺陷检测，通过检测结果来确定反应生产过程中是否有异常发生。但目前的监测方式可视为抽检方式，即，通过在所有晶圆片产品中抽检一部分产品方式进行监测，并不能对所有产品进行全部监测，从而可能导致没有监测到部分产品出现异常，影响后续产品的质量问题。
技术实现思路
1、鉴于此，本申请提供一种晶圆化学液...
【技术保护点】
1.一种晶圆化学液涂布监测装置，应用于晶圆涂布系统，所述晶圆涂布系统包括用于传输晶圆化学液的第一传输管路、以及与所述第一传输管路连通并用于朝向晶圆片喷涂所述晶圆化学液的喷嘴；
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括第二传输管路，所述第二传输管路连通于所述第一传输管路和所述喷嘴之间；
3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述流量检测件可移动设置于所述第二传输管路上。
4.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第二传输管路的外径等于所述第一传输管路的内径，所述第二传输管路插置于所述第一传输管路中以与所述第一传
...【技术特征摘要】
1.一种晶圆化学液涂布监测装置，应用于晶圆涂布系统，所述晶圆涂布系统包括用于传输晶圆化学液的第一传输管路、以及与所述第一传输管路连通并用于朝向晶圆片喷涂所述晶圆化学液的喷嘴；
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括第二传输管路，所述第二传输管路连通于所述第一传输管路和所述喷嘴之间；
3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述流量检测件可移动设置于所述第二传输管路上。
4.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第二传输管路的外径等于所述第一传输管路的内径，所述第二传输管路插置于所述第一传输管路中以与所述第一传输管路连通。
5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述第二传输管路与所述第一传输管...
【专利技术属性】
技术研发人员：李冰，董杰柱，赵汝斌，
申请(专利权)人：粤芯半导体技术股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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