钕铁硼磁体及其制备方法技术

技术编号:39901327 阅读:4 留言:0更新日期:2023-12-30 13:15
本发明专利技术提供了一种钕铁硼磁体及其制备方法

【技术实现步骤摘要】
钕铁硼磁体及其制备方法


[0001]本专利技术属于磁性材料
,特别地,涉及一种钕铁硼磁体及其制备方法


技术介绍

[0002]稀土类永磁体具有较好的磁特性,被广泛用于电动机

发动机

音圈马达

磁共振成像仪

通讯

控制仪表

音响设备等方面

稀土类永磁体中含有易氧化的
Fe
和稀土类元素,因此其在自然条件下容易被氧化腐蚀,目前解决该问题的主要方法是采用电镀

化学镀

物理气相沉积等手段在稀土类永磁体表面沉积一层防护性镀层

在某些应用中,钕铁硼磁体需与配套部件进行粘结,但常规工艺下电镀后的钕铁硼磁体的表面粗糙度较低,与配套部件的粘接面粘结后粘结力较小,因此会降低产品的可靠性和使用寿命

[0003]现有技术
CN109554735A
公开了一种用于提高电镀后钕铁硼磁钢表面粗糙度的工艺,通过干式振磨的物理粗化

粗化酸洗液的化学粗化等步骤,提高钕铁硼磁钢电镀前处理后的表面粗糙度,从而提高电镀后钕铁硼磁钢的表面粗糙度

但是在干式振磨进行物理粗化时,钕铁硼磁钢表面去除量较大,使得钕铁硼磁钢的磁性能下降,影响其使用

[0004]
技术介绍
部分的内容仅仅是专利技术人所知晓的技术,并不当然代表本领域的现有技术


技术实现思路

[0005]为了解决上述技术问题,本专利技术提供了一种钕铁硼磁体及其制备方法

[0006]本专利技术提供的钕铁硼磁体的制备方法包括:
[0007]将钕铁硼工件放入滚筒,在温度
180

240℃
的条件下进行滚筒处理,获得滚筒处理工件;
[0008]将所述滚筒处理工件进行电镀处理,获得钕铁硼磁体;
[0009]其中,所述滚筒的内壁设有挡条,所述滚筒内装有石英砂,所述钕铁硼工件与所述石英砂的体积比为
0.5

1:1
,所述钕铁硼工件与所述石英砂的体积之和占所述滚筒容积的
20
%~
30
%;
[0010]所述滚筒处理时的滚筒转速为
0.1

5rpm
,所述滚筒处理的时间为
10

40min。
[0011]在本专利技术的一些实施例中,所述钕铁硼工件为多线切割处理后获得的

[0012]在本专利技术的一些实施例中,所述滚筒处理工件的表面具有微裂纹区,所述微裂纹区的深度为5~
35
μ
m。
[0013]在本专利技术的一些实施例中,所述挡条为多个,每个所述挡条均呈螺旋状设置在所述滚筒的所述内壁上,所述挡条的螺旋状升角为
40
°

60
°
,所述挡条为不锈钢材质,所述挡条包括沿平行于所述滚筒的中心轴线的第一方向延伸的第一尺寸和沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸的第二尺寸,所述第一尺寸为3~
10mm
,所述第二尺寸为
60

90mm
,相邻挡条间的轴向距离为
150

270mm。
[0014]在本专利技术的一些实施例中,所述电镀处理包括酸洗工序,所述酸洗工序所用的酸
为稀硫酸

稀盐酸和稀硝酸中的至少一种,所述酸的浓度为1~
5wt
%,
pH
值为1~5,酸洗时间为1~
120s。
[0015]在本专利技术的一些实施例中,所述石英砂的目数为
20

40


[0016]在本专利技术的一些实施例中,在将所述钕铁硼工件进行滚筒处理前,还包括:
[0017]采用除油剂在
80

110℃
对所述钕铁硼工件进行清洗

[0018]在本专利技术的一些实施例中,所述滚筒处理工件的表面粗糙度
Ra

0.25

0.4
μ
m。
[0019]本专利技术提供的钕铁硼磁体通过上述任一所述的制备方法制得

[0020]在本专利技术的一些实施例中,所述钕铁硼磁体的表面粗糙度
Ra

0.4

0.6
μ
m。
[0021]在本专利技术的一些实施例中,所述钕铁硼磁体包括
28wt
%~
33wt
%的
R、0.8wt
%~
1.5wt
%的
B、0

3wt
%的
M
以及余量的
Fe
,其中,
R
为稀土元素,所述稀土元素
R
包括
Nd

M
选自
Cu、Al、Zr、Nb、Mn、Mg、Si、Cr

Ti
中的任意一种或至少两种的组合,其中典型但非限制性的组合为
Cu

Al
的组合,
Zr

Ti
的组合,
Nb

Mn
的组合,
Mn

Al
的组合,
Mg

Si
的组合,
Cr

Al
的组合

[0022]在本专利技术的一些实施例中,所述钕铁硼磁体中稀土元素
R
的含量为
28

33wt
%,例如可以是
28wt

、28.5wt

、29wt

、29.2wt

、29.5wt

、30wt

、30.5wt

、31wt

、32wt
%或
33wt
%等

[0023]在本专利技术的一些实施例中,所述钕铁硼磁体中元素
B
的含量为
0.8wt
%~
1.5wt
%,例如可以是
0.8wt

、0.85wt

、0.9wt

、0.95wt

、1.0wt

、1.1wt

、1.2wt

、1.3wt

、1.4wt
%或
1.5wt<本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种钕铁硼磁体的制备方法,其特征在于,包括:将钕铁硼工件放入滚筒,在温度
180

240℃
的条件下进行滚筒处理,获得滚筒处理工件;将所述滚筒处理工件进行电镀处理,获得钕铁硼磁体;其中,所述滚筒的内壁设有挡条,所述滚筒内装有石英砂,所述钕铁硼工件与所述石英砂的体积比为
0.5

1:1
,所述钕铁硼工件与所述石英砂的体积之和占所述滚筒容积的
20
%~
30
%;所述滚筒处理时的滚筒转速为
0.1

5rpm
,所述滚筒处理的时间为
10

40min。2.
根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述钕铁硼工件为多线切割处理后获得的
。3.
根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述滚筒处理工件的表面具有微裂纹区,所述微裂纹区的深度为5~
35
μ
m。4.
根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述挡条为多个,每个所述挡条均呈螺旋状设置在所述滚筒的所述内壁上,所述挡条的螺旋状升角为
40
°

60
°
,所述挡条为不锈钢材质,所述挡条包括沿平行于所述滚筒的中心轴线的第一方向延伸的第一尺寸和沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸的第二尺寸,所述第一尺寸为3~
10mm

【专利技术属性】
技术研发人员:徐道标魏方允刘洋吴斌张海武
申请(专利权)人:宁波科宁达鑫丰精密制造有限公司宁波科宁达和丰新材料有限公司宁波科宁达日丰磁材有限公司北京中科三环高技术股份有限公司
类型:发明
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