波纹度测量装置制造方法及图纸

本申请涉及一种波纹度检测装置

【技术实现步骤摘要】
波纹度测量装置


[0001]本申请涉及光学检测
，特别是涉及一种波纹度测量装置
。

技术介绍

[0002]在光学元件的制程中，通常需要对光学元件的表面波纹度进行检测，获取光学元件的表面与理想设计表面之间的偏差，从而检测光学元件的光学性能优劣
。VR
设备
、AR
设备等三维成像设备的光学镜组中通常包括表面设有反射式偏光片和半透半反射膜层的透镜，传统的制程中，通常采用斐索干涉仪对透镜上的反射式偏光片表面的波纹度进行检测
。
然而，在对透镜上的反射式偏光片进行波纹度检测时，斐索干涉仪通常会接收到来自半透半反膜层反射的干扰光线，导致检测精度降低
。

技术实现思路

[0003]基于此，有必要提供一种波纹度检测装置，以提升对三维成像设备中反射式偏光片的检测精度
。
[0004]一种波纹度检测装置，用于对光学组件表面的波纹度进行检测，所述光学组件包括光学元件以及设于所述光学元件表面上的半透半反膜层，所述波纹度检测装置包括：
[0005]光源，用于朝所述光学组件发射光线；
[0006]图像传感器，用于接收从所述光学组件反射的光线；以及，
[0007]挡光件，沿光路设于所述图像传感器和所述光学组件之间，所述挡光件在垂直于所述光学组件的轴线的平面上的位置与所述半透半反膜层的反射光线最强处相对应
。
[0008]上述波纹度检测装置，在对光学元件的表面进行波纹度检测时，图像传感器接收光学元件的表面反射的光线的同时，还会接收来自半透半反膜层反射的光线，在对应半透半反膜层的反射光线最强处设置挡光件，能够遮挡半透半反膜层的反射光线中亮度最大的部分干扰光线，避免图像传感器接收到的反射光线亮度过大而导致图像传感器的曝光时间过短，通过延长图像传感器的曝光时间，并降低反射光线中的干扰光成分，有利于图像传感器获取光学元件更加清晰的图像，从而提升波纹度检测装置对光学元件的波纹度检测的精度和准确性
。
[0009]在其中一个实施例中，所述光学元件的轴线与所述图像传感器的轴线大致重叠，所述挡光件在垂直于所述图像传感器的轴线的平面上的位置对应所述图像传感器的轴线位置
。
[0010]在其中一个实施例中，所述挡光件设于所述图像传感器的感光面上
。
[0011]在其中一个实施例中，所述挡光件大致呈圆形；和
/
或，
[0012]所述挡光件在垂直于所述图像传感器的轴线的平面上的径向尺寸大于或等于
1mm
，且小于或等于
2mm。
[0013]在其中一个实施例中，所述光学组件还包括设于所述光学元件背向所述半透半反膜层一侧的反射式偏光片，所述波纹度检测装置用于对所述反射式偏光片与所述光学元件
的交界面的波纹度进行检测，且在所述波纹度检测装置对所光学组件进行检测时，所述反射式偏光片位于所述光学元件背向所述图像传感器的一侧
。
[0014]在其中一个实施例中，所述光源和所述图像传感器设于所述光学组件的同一侧
。
[0015]在其中一个实施例中，所述波纹度检测装置还包括分束器，所述分束器沿光路设于所述光源和所述光学组件之间，以及所述图像传感器和所述光学组件之间，所述分束器用于将所述光源发射的至少部分光线透射至所述光学组件上，并用于将所述光学组件反射的至少部分光线反射到所述图像传感器上
。
[0016]在其中一个实施例中，所述挡光件具有背向所述图像传感器设置的吸光面，所述吸光面对光线的吸光率大于或等于
70%。
[0017]在其中一个实施例中，所述挡光件包括主体以及设于所述主体背向所述图像传感器一侧的吸光膜层
。
[0018]在其中一个实施例中，所述波纹度检测装置还包括壳体，所述图像传感器和所述光源设于所述壳体内，所述壳体设有收光孔，所述收光孔用于与所述光学组件相对
。
附图说明
[0019]图1为一些实施例中波纹度检测装置的结构示意图
。
[0020]图2为一些实施例中波纹度检测装置的光路示意图
。
[0021]图3为一些实施例中被测表面与参考表面相近的干涉图案示意图
。
[0022]图4为一些实施例中被测表面与参考表面存在偏差的干涉图案示意图
。
[0023]图5为一些实施例中挡光件设于图像传感器上的结构示意图
。
[0024]图6为一些实施例中设置挡光件后的干涉图案示意图
。
[0025]10、
波纹度检测装置；
11、
光源；
12、
图像传感器；
121、
感光面；
13、
挡光件；
131、
吸光面；
14、
分束器；
15、
壳体；
151、
收光孔；
20、
光学组件；
21、
半透半反膜层；
22、
反射式偏光片；
23、
光学元件；
30、
参考表面
。
具体实施方式
[0026]为使本申请的上述目的
、
特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本申请的具体实施方式做详细的说明
。
在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本申请
。
但是本申请能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本申请内涵的情况下做类似改进，因此本申请不受下面公开的具体实施例的限制
。
[0027]在本申请的描述中，需要理解的是，若有出现这些术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等，这些术语指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位
、
以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制
。
[0028]此外，若有出现这些术语“第一”、“第二”，这些术语仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量
。
由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征
。
在本申请的描述中，若有出现术
语“多个”，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定
。
[0029]在本申请中，除非另有明确的规定和限定，若有出现术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等，这些术语应做广义理解
。
例如，可以是固定本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种波纹度检测装置，其特征在于，用于对光学组件表面的波纹度进行检测，所述光学组件包括光学元件以及设于所述光学元件表面上的半透半反膜层，所述波纹度检测装置包括：光源，用于朝所述光学组件发射光线；图像传感器，用于接收从所述光学组件反射的光线；以及，挡光件，沿光路设于所述图像传感器和所述光学组件之间，所述挡光件在垂直于所述光学组件的轴线的平面上的位置与所述半透半反膜层的反射光线最强处相对应
。2.
根据权利要求1所述的波纹度检测装置，其特征在于，所述光学元件的轴线与所述图像传感器的轴线大致重叠，所述挡光件在垂直于所述图像传感器的轴线的平面上的位置对应所述图像传感器的轴线位置
。3.
根据权利要求2所述的波纹度检测装置，其特征在于，所述挡光件设于所述图像传感器的感光面上
。4.
根据权利要求1所述的波纹度检测装置，其特征在于，所述挡光件大致呈圆形；和
/
或，所述挡光件在垂直于所述图像传感器上的投影的径向尺寸大于或等于
1mm
，且小于或等于
2mm。5.
根据权利要求1所述的波纹度检测装置，其特征在于，所述光学组件还包括设于所述光学元件背向所述半透半反膜层一侧的反射式偏光片，所述波纹度检测装置用...

【专利技术属性】
技术研发人员：周蒋云，叶肇懿，麦宏全，洪凌桂，
申请(专利权)人：业成科技成都有限公司业成光电无锡有限公司英特盛科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：