一种方便调节的电镀处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及电镀技术领域，且公开了一种方便调节的电镀处理装置；本方便调节的电镀处理装置，包括反应箱，所述反应箱顶部开设有对称分布的滑槽，所述滑槽内腔设置有对称分布的支撑架，本实用新型专利技术在支撑架设置双向螺杆，并通过开设条形槽安装夹持板，使双向螺杆贯穿夹持板，并使夹持板对称分布在双向螺杆外壁，双向螺杆转动过程中夹持板受条形槽限制，从而适配反应物大小，完成夹持的工作，设置螺纹杆连接连接杆，并通过连接杆连接两个支撑架，通过滑槽限制支撑架运动方向，在转动转块使螺纹杆转动时，连接杆带动支撑架升降，以便于安装或取出反应物，且转块和转杆均采用绝缘材料，避免工作人员在操作工程中触电

【技术实现步骤摘要】
一种方便调节的电镀处理装置


[0001]本技术属于电镀
，具体为一种方便调节的电镀处理装置
。

技术介绍

[0002]电镀就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化
(
如锈蚀
)
，提高耐磨性
、
导电性
、
反光性
、
抗腐蚀性
(
硫酸铜等
)
及增进美观等作用
。
现有的电镀装置在固定反应物时，常常采用夹子对其进行夹持，然而夹子夹持角度存在一定限制，对一些体积较大的反应物不便于夹持
。

技术实现思路

[0003]针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本技术提供一种方便调节的电镀处理装置，有效的解决了现有的电镀装置在固定反应物时，常常采用夹子对其进行夹持，然而夹子夹持角度存在一定限制，对一些体积较大的反应物不便于夹持
。
的问题
。
[0004]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种方便调节的电镀处理装置，包括反应箱，所述反应箱顶部开设有对称分布的滑槽，所述滑槽内腔设置有对称分布的支撑架，两个支撑架顶部均开设有贯穿设施的条形槽，两个条形槽内腔均设置有双向螺杆，两个双向螺杆外壁均设置有夹持板
。
[0005]优选的，两个双向螺杆前端分别贯穿两个支撑架设置有转杆，两个支撑架相对侧均设置有连接杆
。
[0006]优选的，所述反应箱内腔底部设置有贯穿所述连接杆的螺纹杆，所述螺纹杆顶部设置有转块
。
[0007]优选的，所述反应箱底部死角处均设置有支撑杆，所述反应箱底部开设有贯穿设置的出液口
。
[0008]优选的，所述反应箱底部对应所述出液口处设置有排液管，所述排液管处设置有阀门
。
[0009]优选的，两组夹持板外壁均设置有防滑套
。
[0010]与现有技术相比，本技术的有益效果是：本技术在支撑架设置双向螺杆，并通过开设条形槽安装夹持板，使双向螺杆贯穿夹持板，并使夹持板对称分布在双向螺杆外壁，通过转动转杆转动，带动双向螺杆转动，双向螺杆转动过程中夹持板受条形槽限制，沿条形槽方向朝相背侧或相对侧移动，从而适配反应物大小，完成夹持的工作
。
[0011]本技术设置螺纹杆连接连接杆，并通过连接杆连接两个支撑架，通过滑槽限制支撑架运动方向，在转动转块使螺纹杆转动时，连接杆带动支撑架升降，以便于安装或取出反应物，且转块和转杆均采用绝缘材料，避免工作人员在操作工程中触电
。
附图说明
[0012]附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制
。
[0013]在附图中：
[0014]图1为本技术结构示意图；
[0015]图2为本技术结构底视图；
[0016]图3为本技术支撑架示意图；
[0017]图中：
100、
反应箱；
101、
支撑杆；
102、
螺纹杆；
103、
支撑架；
104、
双向螺杆；
105、
夹持板；
106、
连接杆；
107、
排液管
。
具体实施方式
[0018]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚
、
完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例；基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围
。
[0019]请参阅图1，一种方便调节的电镀处理装置
。
[0020]请参阅图
1、2、3
，包括反应箱
100
，反应箱
100
顶部开设有对称分布的滑槽，滑槽内腔设置有对称分布的支撑架
103
，支撑架
103
与滑槽滑动连接，两个支撑架
103
顶部均开设有贯穿设施的条形槽，两个条形槽内腔均设置有双向螺杆
104
，开设条形槽安装双向螺杆
104
，且双向螺杆
104
与支撑架
103
开设的滑槽转动连接，两个双向螺杆
104
外壁均设置有夹持板
105
，夹持板
105
与双向螺杆
104
螺纹连接，且夹持板
105
与滑槽滑动连接，夹持板
105
在夹持反应物进行电镀时，外接电源从而对反应物导电，确保电镀工作正常进，受滑槽限制其移动方向，在双向螺杆
104
转动过程中，使夹持板
105
向相背侧或相对侧平移，两个双向螺杆
104
前端分别贯穿两个支撑架
103
设置有转杆，转杆与双向螺杆
104
前端固定连接，两个支撑架
103
相对侧均设置有连接杆
106
，连接杆
106
与两个支撑架
103
固定连接，反应箱
100
内腔底部设置有贯穿连接杆
106
的螺纹杆
102
，螺纹杆
102
与反应箱
100
底部转动连接，且与连接杆
106
螺纹连接，螺纹杆
102
顶部设置有转块，转块与螺纹杆
102
固定连接，通过转动转块带动螺纹杆
102
旋转，连接杆
106
与支撑架
103
固定连接，同时受到滑槽限制，在螺纹杆
102
转动过程中，进行升降运动，以便于取出反应物，从而避免工作人员不慎接触反应液的情况发生，反应箱
100
底部死角处均设置有支撑杆
101
，支撑杆
101
与反应箱
100
固定连接，用于支撑反应箱
100
，反应箱
100
底部开设有贯穿设置的出液口，反应箱
100
底部对应出液口处设置有排液管
107
，排液管
107
与反应箱
100
固定连接，排液管
107
处设置有阀门，通过设置阀门控制排液管
107
的启闭，两组夹持板
105
外壁均设置有防滑套，设置防滑套增加与本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种方便调节的电镀处理装置，包括反应箱（
100
），其特征在于：所述反应箱（
100
）顶部开设有对称分布的滑槽，所述滑槽内腔设置有对称分布的支撑架（
103
），两个支撑架（
103
）顶部均开设有贯穿设施的条形槽，两个条形槽内腔均设置有双向螺杆（
104
），两个双向螺杆（
104
）外壁均设置有夹持板（
105
）
。2.
根据权利要求1所述的一种方便调节的电镀处理装置，其特征在于：两个双向螺杆（
104
）前端分别贯穿两个支撑架（
103
）设置有转杆，两个支撑架（
103
）相对侧均设置有连接杆（
106
）
。3.
根据权利要求2所述的一种方便调节的电镀处理装置，其特征在于：所述反应箱（

【专利技术属性】
技术研发人员：邹健，
申请(专利权)人：广东伊菲特光学科技有限公司，
类型：新型
国别省市：