本发明专利技术关于一种光圈装置及应用其的投影装置，所述光圈装置具有本体，该本体上形成开口部，该光圈装置用于调整光束的光通量，所述开口部的边缘具有光线调整部，该光线调整部为斜面结构，该斜面结构用以改变开口部的边缘处光线的反射角度。本发明专利技术的光圈装置应用于投影装置中可改变光圈装置开口部的边缘处反射光的反射角度，使其远离光源，延长投影装置光源的使用寿命。更进一步，本发明专利技术在光圈装置上设置挡片，可提高光圈装置的耐热温度，提升投影装置的瓦特数。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光圈装置及投影装置，特别是关于一种开口部的边缘具有斜面结 构的光圈装置及应用该光圈装置的投影装置。
技术介绍
根据在屏幕上再现图像所采用的投影技术，将光学投影仪分类为CRT(阴极射线 管)、IXD (液晶显示)、DLP (数字光处理)和LCOS (硅基液晶)投影技术。在CRT投影仪中使用的主要组件是小型高分辫率CRT。CRT投影仪通过使用反射 镜来反射显示在CRT上的图像信息从而将图像再现在屏幕上。在LCD投影仪中使用的主要 组件是小型IXD屏幕。小型IXD屏幕的直径通常为四英寸。IXD投影仪通过使用小型IXD 屏幕来再现接收的外部图像信号从而将图像再现在屏幕上。另外，被LCD屏幕再现的图像 被从LCD的后部通过LCD的强光照亮。然后，所述穿过的光线通过使用透镜被放大并且被 镜子反射。在DLP投影仪中使用的主要组件是由成百上千个可运动的微镜集成的DMD (数字 微镜装置)半导体芯片。操作DLP投影仪使得外部输入的图像信号被DMD半导体芯片放大 和投射。在LCoS投影仪中使用的主要组件是LCos半导体芯片。LCos投影仪通过使用施加 到反射镜基底上的液晶来将图像再现在屏幕上。随着液晶的打开和关闭，光被从下方的镜 子反射或者被阻挡。这样，调节了光并且产生了图像。使用上述任何一种投影技术的投影仪都具有安装在光源和图像再现单元之间的 光路上的光圈，所述光圈用于阻挡当形成图像时不使用的光。如图1、图2和图3所示，图1是习知的投影装置的示意图，图2是习知的光圈装置 的示意图，图3是习知的投影装置的部分光线路径示意图，习知的投影装置100包含光源组 件1、光圈装置2、马达3、透镜4、透镜5、镜片6、TIR棱镜7以及镜头8等元件，光源组件1 包括反射罩Ia和光源lb，光源Ib设置于反射罩Ia中，光源Ib可为灯泡或发光二极管等， 光圈装置2包括本体21以及开口部22，光源Ib发出的光线经反射罩Ia反射并穿过光圈装 置2的开口部22后最终投射于屏幕9上。如图3所示，由光源Ib发射的部分入射光Ic经 反射罩Ia反射后入射到开口部22的边缘，该部分入射光Ic在开口部22的边缘反射后形 成的反射光Id —般会再返回光源组件1并照射在光源Ib上，这会增加光源Ib的温度，加 速光源Ib的老化并减少光源Ib的使用寿命。此外，光圈装置2的开口部22的边缘受到较 强的入射光Ic照射后受热容易变形，对于对比度为50000 1的高对比度投影装置来说， 光圈装置2的受热形变会明显影响产品的质量。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供一种光圈装置，其具有本体，该本体上形成开口部，该开口 部用于调整光束的光通量，所述开口部的边缘具有光线调整部，该光线调整部包含斜面结 构，该斜面结构改变入射光线入射至该斜面结构的反射角度。所述斜面结构具有相同的宽度。所述斜面结构的宽度随该开口部的宽度变大而减小。所述光圈装置为金属薄片。所述光圈装置进一步包含挡片，沿该开口部的边缘设置于该本体上，用于遮挡该 开口部的边缘处的光照。所述挡片具有缺口，该缺口的边缘具有斜面结构，该挡片平行于该本体。所述缺口的宽度大于该开口部的宽度。所述挡片卡扣、螺丝锁固、焊接或一体成型于该本体上。所述挡片为单层结构或多层结构。本专利技术提供一种投影装置，该投影装置包括光源，该投影装置还包括上述的光圈 装置，该斜面结构上反射的光线远离该光源。本专利技术的光圈装置其开口部的边缘具有斜面结构，该斜面结构可改变开口部的边 缘处光线的反射角度，本专利技术的光圈装置应用于投影装置中可改变光圈装置开口部的边缘 处光线的反射角度，使其远离光源，延长投影装置光源的使用寿命。另外，在光圈装置上设 置挡片可提高光圈装置的耐热温度，提升投影装置的瓦特数。于本专利技术的优点与精神可以由以下的附图说明及具体实施方式详述得到进一步 的了解。附图说明图1是习知的投影装置的示意图。图2是习知的光圈装置的示意图。图3是习知的投影装置的部分光线路径示意图。图4是本专利技术第一具体实施方式的光圈装置的示意图。图5是本专利技术第二具体实施方式的光圈装置的示意图。图6是图5中沿HH线的剖视图。图7是本专利技术第三具体实施方式投影装置的示意图。图8是图7中光圈装置作用原理图。具体实施例方式请参照图4，图4是本专利技术第一具体实施方式的光圈装置的示意图。本专利技术的光圈 装置20包括本体21和开口部22，开口部22的边缘具有光线调整部，该光线调整部包含斜 面结构23，斜面结构23所在平面与本体21所在平面相交并具有一定角度的夹角，入射光线 入射至该斜面结构23上，斜面结构23可改变开口部22的边缘处入射光线的反射角度。开 口部22用以选择通过光束，本体21用以遮挡不需要的光线，开口部22的宽度逐渐变宽，如 图4所示，在开口部22的某一处的宽度为Al，另一处的宽度为A2，A2大于Al，不同宽度的 开口部22可以通过不同的光通量，转动光圈装置20就可以调整和选择需要的光通量。本 专利技术的光圈装置20其开口部22的形状仅作为一种实施例，不以此为限，只要开口部22的 边缘具有斜面结构23皆为本专利技术的范围。如图4所示，本专利技术的光圈装置20为金属薄片，斜面结构23可以采用将开口部224的边缘冲压弯折而成，如果光圈装置20的厚度足够，斜面结构23可以将开口部22的边缘 削薄而成。对于斜面结构23的宽度B，可以是沿所有开口部22的边缘都具有相同宽度，或 者随该开口部22的宽度A变大而减小，只要斜面结构23能涵盖入射光束的宽度即可。请一同参照图5和图6，图5是本专利技术第二具体实施方式的光圈装置的示意图，图 6是图5中沿HH线的剖视图。本具体实施方式的光圈装置30包括本体21、开口部22以及 挡片24，如图5和图6所示，挡片24沿开口部22的边缘设置于本体21上，用于遮挡开口 部22的边缘处的光照。挡片24可以是多个小的挡片沿开口部22的边缘排列设置，也可以 是一个整体挡片。更进一步，挡片24对应于开口部22具有缺口 25，挡片24的缺口 25其 边缘也具有斜面结构24a，挡片24实质上平行于本体21。如图6所示，缺口 25的宽度C大 于其相对应的开口部22的宽度A，挡片24不影响光束的光通量，仅是为了提高光圈装置30 的耐热温度。挡片24固定于本体21上的方式可以采用卡扣、螺丝锁固、焊接或一体成型的 方式，较佳的，挡片24与本体21之间具有间隙，间隙可以减少挡片24向本体21特别是本 体21的斜面结构23传递热量。为了进一步增强耐热效果，挡片24还可以是双层或多层结 构。本具体实施方式的挡片24其材质与本体21同为金属，但不以此为限。请同时参照7和图8，图7是本专利技术第三具体实施方式投影装置的示意图，图8是 图7中光圈装置的作用原理图。本具体实施方式的投影装置200包含光源组件1、光圈装 置20或30、马达3、透镜4、透镜5、镜片6、TIR棱镜7以及镜头8等元件，马达3带动光圈 装置20转动，以调整和选择需要的光通量，光源组件1的光源Ib设置于反射罩Ia中，光源 Ib发出的光线经反射罩Ia反射并穿过光圈装置20的开口部22后最终投射于屏幕9上。 如图7所示，光源Ib发出的部分入射光Ic照射在开口部22的边缘23上，相对于传统的光 圈装置2，本专利技术的光圈装置20其开口部2本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种光圈装置，其具有本体，该本体上形成开口部，该开口部用于调整光束的光通量，其特征在于：所述开口部的边缘具有光线调整部，该光线调整部包含斜面结构，该斜面结构改变入射光线入射至该斜面结构的反射角度。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：林育臣，
申请(专利权)人：苏州佳世达光电有限公司，佳世达科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]
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