【技术实现步骤摘要】
一种蓝宝石晶片表面清洗装置
[0001]本技术涉及蓝宝石晶片加工
,具体为一种蓝宝石晶片表面清洗装置
。
技术介绍
[0002]蓝宝石晶片加工制造过程中,特别是丝印后烘烤时,由于静电和其较好的吸附性,晶片表面极易吸附环境中的各种尘埃
、
杂质
、
污染物,在高温烘烤条件下将其固化在晶片表面,同时激光切割
、
打孔时,被加工部位,氧化铝
、
表层的油墨瞬间高温熔化或气化,孔内残留大量熔融杂质,孔周围附着大量粉尘;在对蓝宝石的表面进行清洗时,目前主要依靠人工清洗且清洗稳定性差
。
[0003]专利
CN215613602U
提出一种蓝宝石晶片清洗机,通过在放置板的上表面设置清洗槽,清洗槽的内壁设置有安置槽,实现了安置槽夹持宝石晶片边缘使宝石晶片相对竖直放置的效果,通过在清洗槽的底部设置有排水孔,能够有效将带有异物的清洗液及时排出,有效避免了带有异物的清洗液残留在宝石晶片上影响宝石晶片的清洗效果
。
[00 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种蓝宝石晶片表面清洗装置,包括浸泡箱(1),其特征在于:所述浸泡箱(1)外表面固定有四个支撑柱(2),且浸泡箱(1)底部一侧开设有排出管(
11
),所述浸泡箱(1)内部设有存放组件(5),所述浸泡箱(1)顶部设有顶板(3),且顶板(3)与支撑柱(2)固定
。2.
根据权利要求1所述的一种蓝宝石晶片表面清洗装置,其特征在于:所述存放组件(5)包括中心柱(
51
),所述中心柱(
51
)外表面圆心对称固定有五组第一放置框(
52
),且第一放置框(
52
)的外表面固定有第二放置框(
53
),所述第二放置框(
53
)的外表面固定有第三放置框(
54
)
。3.
根据权利要求2所述的一种蓝宝石晶片表面清洗装置,其特征在于:所述第一放置框(
52
)
、
第二放置框(
53
)和第三放置框(
54
)顶部镂空,且第一放置框(
52
)
、
第二放置框(
53
)和第三放置框(
54
)底部固定有滤板(
55
)
。4.
根据权利要求3所述的一种蓝宝石晶片表面清洗装置,其特征在于:所述第一放置框(
52
)
、
...
【专利技术属性】
技术研发人员:袁培雄,姜虽节,王新明,
申请(专利权)人:武汉晶芯光电有限公司,
类型:新型
国别省市:
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