圆偏振片及使用其的图像显示装置制造方法及图纸

技术编号:39834722 阅读:10 留言:0更新日期:2023-12-29 16:18
本发明专利技术提供一种可抑制由紫外线或光学面板的发光等导致的起偏器的劣化

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】圆偏振片及使用其的图像显示装置


[0001]本专利技术涉及一种圆偏振片及使用其的图像显示装置


技术介绍

[0002]在图像显示装置
(
例如液晶显示装置

有机
EL(
电致发光
)
显示装置
)
中,因其图像形成方式,在大多数的情况下在显示单元的至少一侧配置有偏振片

在此种偏振片中,存在由紫外线或光学面板的发光等导致起偏器劣化的问题

[0003]针对上述问题,提出了通过在起偏器上配置含有
UV(
紫外线
)
吸收剂的保护层来防止起偏器的劣化

然而,根据此种技术,保护层的厚度越增加,圆偏振片从光学面板剥离的现象变得越显著

因此,存在无法兼顾抑制由紫外线或光学面板的发光等导致的起偏器的劣化的问题

[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:日本特开
2010

139548
号公报
[0007]专利文献2:日本特开
2003

207640
号公报
[0008]专利文献3:日本特开
2004

226842
号公报
[0009]专利文献4:日本专利第
3815790

[0010]专利文献5:日本特开r/>2014

170221
号公报

技术实现思路

[0011]专利技术所要解决的课题
[0012]本专利技术是为了解决上述现有的问题而完成的,其主要目的在于提供一种可抑制由紫外线或光学面板的发光等导致的起偏器的劣化

且不易从光学面板剥离的圆偏振片

[0013]用于解决课题的手段
[0014]本专利技术的圆偏振片依次具备第1保护层

起偏器

第2保护层

第1相位差层

第2相位差层和粘合剂层
(
压敏粘合剂层
)
,该第1保护层和该第2保护层分别含有
UV
吸收剂,加湿
TMA(
热机械分析
)
试验中的起偏器的吸收轴方向的尺寸变化率为
0.30
%以上,波长
380nm
下的透射率低于
10
%,构成该粘合剂层的粘合剂在
60℃
下的损耗模量
G”为
0.06MPa
以上

[0015]在一个实施方式中,上述构成粘合剂层的粘合剂在
85℃
下的储能模量
G'

0.3MPa
以上

[0016]在一个实施方式中,上述第1保护层和上述第2保护层的透湿度为
300g/m2·
24
小时以上

[0017]在一个实施方式中,上述第1保护层和上述第2保护层由三乙酰纤维素系树脂膜制成

[0018]在一个实施方式中,上述第1保护层和上述第2保护层的厚度为
35
μ
m
以上

[0019]在一个实施方式中,上述圆偏振片的加湿
TMA
试验中的上述第1相位差层的慢轴方
向的尺寸变化率为
0.50
%以下

[0020]根据本专利技术的另一方面,提供一种图像显示装置

该图像显示装置具备上述圆偏振片

[0021]专利技术效果
[0022]根据本专利技术,能够获得一种圆偏振片,该圆偏振片依次具备第1保护层

起偏器

第2保护层

第1相位差层

第2相位差层和粘合剂层,该第1保护层和第2保护层分别含有
UV
吸收剂,加湿
TMA
试验中的起偏器的吸收轴方向的尺寸变化率为
0.30
%以上,波长
380nm
下的透射率低于
10
%,构成该粘合剂层的粘合剂在
60℃
下的损耗模量
G”为
0.06MPa
以上,由此可抑制由紫外线或光学面板的发光等导致的起偏器的劣化

且不易从光学面板剥离

附图说明
[0023]图1是本专利技术的一个实施方式所得到的圆偏振片的概略剖面图

具体实施方式
[0024]以下,对本专利技术的实施方式进行说明,但本专利技术并不限于这些实施方式

[0025](
用语及符号的定义
)
[0026]本说明书中的用语及符号的定义如下

[0027](1)
折射率
(nx、ny、nz)
[0028]“nx”是面内的折射率成为最大的方向
(
即慢轴方向
)
的折射率,“ny”是在面内与慢轴正交的方向
(
即快轴方向
)
的折射率,“nz”是厚度方向的折射率

[0029](2)
面内相位差
(Re)
[0030]“Re(
λ
)”是用
23℃
下的波长
λ
nm
的光测得的面内相位差

例如,“Re(550)”是用
23℃
下的波长
550nm
的光测得的面内相位差
。Re(
λ
)
是在将层
(

)
的厚度设定为
d(nm)
时,通过式:
Re(
λ
)

(nx

ny)
×
d
而求出

[0031](3)
厚度方向的相位差
(Rth)
[0032]“Rth(
λ
)”是用
23℃
下的波长
λ
nm
的光测得的厚度方向的相位差

例如,“Rth(550)”是用
23℃
下的波长
550nm
的光测得的厚度方向的相位差
。Rth(
λ
)
是将层
(

)
的厚度设定为
d(nm)
时,通过式:
Rth(
λ
)

(nx

nz)
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种圆偏振片,其依次具备第1保护层

起偏器

第2保护层

第1相位差层

第2相位差层和粘合剂层,该第1保护层和该第2保护层分别含有
UV
吸收剂,加湿
TMA
试验中的该起偏器的吸收轴方向的尺寸变化率为
0.30
%以上,波长
380nm
下的透射率低于
10
%,构成该粘合剂层的粘合剂在
60℃
下的损耗模量
G”为
0.06MPa
以上
。2.
根据权利要求1所述的圆偏振片,其中,所述构成粘合剂层的粘合剂在
85℃
下的储能模量
G'

0.3MP...

【专利技术属性】
技术研发人员:长田兴小岛理后藤周作
申请(专利权)人:日东电工株式会社
类型:发明
国别省市:

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