【技术实现步骤摘要】
一种储液槽及设有该储液槽的清洗机
[0001]本专利技术属于清洗用辅助设备
，尤其是涉及一种硅片清洗用储液槽及设有该储液槽的清洗机
。
技术介绍
[0002]清洗硅片是硅片加工的重要工序之一，在清洗过程中有一工序是快排清洗，就是需要在1‑
2s
中快速向清洗槽内喷淋一定温度的溶液进行消泡，同时还要持续地对清洗槽进行溢流换水
。
现有储水箱只有一个内腔，加热
、
蓄水一体设置，喷淋和溢流同步工作时，储水箱中的溶液被快速排出，造成加热装置干烧，有时还会造成溢流断水，不仅会产生安全风险，而且影响硅片清洗效果
。
技术实现思路
[0003]本专利技术提供一种储液槽及设有该储液槽的清洗机，解决了现有储液槽中容易干烧加热装置
、
溢流断水的技术问题
。
[0004]为解决至少一个上述技术问题，本专利技术采用的技术方案是：
[0005]一种储液槽，包括具有内腔的本体，所述本体内构设有储液区一和储液区二，所述储液区一...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种储液槽，其特征在于，包括具有内腔的本体，所述本体内构设有储液区一和储液区二，所述储液区一与所述储液区二之间设有隔板；在所述储液区一中构造有用于加热溶液的加热装置；所述储液区二中设置有排液口
。2.
根据权利要求1所述的一种储液槽，其特征在于，所述加热装置配置在所述储液区一的端部并插值于所述储液区一内
。3.
根据权利要求1或2所述的一种储液槽，其特征在于，所述储液区二中也配置有所述加热装置，且所述储液区二中的所述加热装置与所述储液区一中的所述加热装置均构设在所述本体的同一端面
。4.
根据权利要求3所述的一种储液槽，其特征在于，所述加热装置包括若干加热管，所述储液区二中的所述加热管的数量不大于所述储液区一中的所述加热管的数量；所有所述加热装置的位置均低于所述隔板的高度；且所述隔板的高度低于所述本体的壁面高度
。5.
根据权利要求1‑
2、4
任一项所述的一种储液槽，其特征在于，所述储液区一和所述储液区二内均设有液位控件；所述储液区一中的所述液位控件的高度高于所述储液区一中的所述加热装置的高度且低于所述隔板的高度；所述储液区二中...
【专利技术属性】
技术研发人员：靳立辉，杨骅，任志高，王欢，任亮，艾传令，王大伟，武治军，岑红霞，危晨，
申请(专利权)人：天津环博科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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