增亮膜及其制备方法技术

本发明专利技术公开了增亮膜及其制备方法

【技术实现步骤摘要】
增亮膜及其制备方法、显示装置


[0001]本专利技术涉及光学膜
，尤其涉及一种增亮膜及其制备方法
、
显示装置
。

技术介绍

[0002]增亮膜是一种在膜片表面有一系列有规律的平行棱镜柱的膜片，其通过棱镜柱将大角度出射光转为正面光来提高屏幕亮度
。
随着
3C
产品的演进，很多设计会对部件阻抗表现有所要求，目的是终端产品电性考察，或膜材料的除静电避免异物杂质吸附
。
[0003]一般来说，为了维护棱镜微结构材料折射率的保持（棱镜层材料折射率直接影响产品的光学等级表现，折射率愈高则产品亮度表现愈佳），低阻抗功能主要来源的抗静电剂，会设计在对材料折射率较无要求的背涂层
。
或者，有保护膜类产品会使用抗静电保护膜，但必须付出较高的保护膜成本，对产品利润影响较大
。
[0004]涂料内添加抗静电助剂，会有产品长时间使用或储存的析出风险
。
析出主要是一般抗静电助剂为小分子无反应性材料
。
此类原料掺入光固化或热固化涂料内均不参与固化反应
。
于是抗静电助剂实际上为分散在涂层的交连结构空隙内
。
长时间使用或储存时，小分子抗静电材料会逐渐迁移至光学膜表面，即造成所谓析出风险，影响了产品膜面的外观及实际光学
、
抗吸附
、
抗静电等功能
。
[0005]有团队因此研发高分子量抗静电材料，藉由抗静电材料的大体积，期望能降低迁移比例，借此避免析出风险
。
但也由于此类抗静电材料的大体积，也使该配方在光学膜内的抗静电效率偏低，实际上无法达到需要的光学膜产品抗静电等级
。
[0006]亦有团队开发反应型抗静电材料，此类材料会出现与大分子量抗静电材料相类似问题，由于抗静电基团移动性低，也会降低了光学膜产品的抗静电等级
。
[0007]使用抗静电保护膜方案，仅局限于有保护膜类棱镜片产品，无法适用于无保护膜类棱镜片产品
。
除适用性低之外，对增亮膜制造企业成本的提高也是一大难点，对利润影响较大而逐渐不被业界接受
。
[0008]针对现有的增亮膜为确保低阻抗功能，采用在涂层内添加抗静电材料所导致析出
、
降低光学增益等缺点；以及，带保护膜类产品采用高成本抗静电保护膜对产品利润影响较大的状况
。
针对上述出现的问题，目前尚未提出有效的解决方案
。

技术实现思路

[0009]专利技术目的：提供一种增亮膜及其制备方法
、
显示装置，以解决现有技术存在的上述问题
。
[0010]技术方案：一种增亮膜，包括：基材层；及棱镜层，设置于所述基材层上；所述棱镜层包括：若干第一棱镜柱和若干第二棱镜柱，且所述第一棱镜柱的高度高于所述第二棱镜柱的高度；其中，所述第一棱镜柱的顶部设有导电层
。
[0011]作为优选，所述导电层的厚度为
0.5
‑
3um。
[0012]作为优选，所述第一棱镜柱和所述第二棱镜柱的数量比值区间为：
1:1
‑
1:15
；其
中，所述第二棱镜柱取整数
。
[0013]作为优选，所述第一棱镜柱和所述第二棱镜柱的数量比值区间为：
1:3
‑
1:15
；其中，所述第二棱镜柱取整数
。
[0014]作为优选，所述第一棱镜柱的高度
H
取值区间为：
12
‑
40um。
[0015]作为优选，所述第一棱镜柱的高度
H
和所述第二棱镜柱的高度
h
，其比值区间为：
H
‑
h=2
‑
10um。
[0016]作为优选，所述棱镜层的顶部结构中至少若干所述第一棱镜柱的顶部采用
90
°
顶角结构，用于涂布导电层
。
[0017]作为优选，所述棱镜层的顶部结构中至少若干所述第一棱镜柱的顶部采用平顶角结构，用于涂布导电层
。
[0018]作为优选，所述导电层的材质为：导电聚合物中的聚苯胺
、
聚噻吩
、
聚吡咯
、
鎓盐
、
锂盐和胺盐中的一种或多种，或无机材料中的氧化铟锡
、
纳米银粒子
、
纳米银线
、
纳米铜粒子
、
纳米钯粒子
、
纳米金粒子
、
纳米碳管
、
石墨烯中的一种或多种
。
[0019]为了实现上述目的，根据本申请的另一个方面，还提供了一种增亮膜制备方法
。
[0020]根据本申请的显示面板的增亮膜制备方法，应用于制备如上所述的增亮膜；包括以下步骤：步骤一
、
准备基材层；步骤二
、
在基材层上涂覆胶层；步骤三
、
第一次转印涂布，通过模具辊上预设的微结构对基材层的胶层进行压印，胶层压印得到棱镜层的高低棱镜柱结构；步骤四
、
第二次转印涂布，通过微凹版将涂料转涂至待涂布面；其中，待涂布面为第一棱镜柱的峰端
。
[0021]为了解决上述问题，本专利技术还公开了一种显示装置，包括显示面板以及设置于所述显示面板一侧的增亮膜，所述增亮膜为如上所述的增亮膜
。
[0022]有益效果：在本申请实施例中，采用高低棱镜柱和在高棱镜柱顶部涂布导电层的方式；所述第一棱镜柱的高度高于所述第二棱镜柱的高度；其中，若干所述第一棱镜柱的顶部设有导电层，达到了棱镜柱高低分布和对高棱镜柱顶部涂布导电层的目的，从而实现了低阻抗和提高耐磨的技术效果，进而解决了现有的增亮膜为确保低阻抗功能，采用在涂层内添加抗静电材料所导致析出
、
降低光学增益等缺点；以及，带保护膜类产品采用高成本抗静电保护膜对产品利润影响较大的技术问题
。
附图说明
[0023]图1是本专利技术的增亮膜微结构示意图；图2是本专利技术的增亮膜另一微结构示意图；图3是本专利技术的增亮膜棱镜柱高度示意图；图4是本专利技术的增亮膜另一棱镜柱高度示意图；图5是本专利技术的增亮膜制备方法示意图；图6是本专利技术的实施例一结构示意图；图7是本专利技术的实施例二结构示意图；
图8是本专利技术的实施例三结构示意图；图9是本专利技术的实施例四结构示意图；图
10
是本专利技术的实施例五结构示意图；图
11
是本专利技术的实施例六结构示意图；图
12
是本专利技术的实施例七结构示意图；图
13
是本专利技术的实施例八结构示意图；图
14
是本专利技术的实施例九结构示意图；图
15<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
增亮膜，其特征在于，包括：基材层
(10)
；及棱镜层
(20)
，设置于所述基材层
(10)
上；所述棱镜层
(20)
包括：若干第一棱镜柱
(201)
和若干第二棱镜柱
(202)
，且所述第一棱镜柱
(201)
的高度高于所述第二棱镜柱
(202)
的高度；其中，所述第一棱镜柱
(201)
的顶部设有导电层
(30)。2.
根据权利要求1所述的增亮膜，其特征在于，所述导电层
(30)
的厚度为
0.5
‑
3um。3.
根据权利要求1所述的增亮膜，其特征在于，所述第一棱镜柱
(201)
和所述第二棱镜柱
(202)
的数量比值区间为：
1:1
‑
1:15
；其中，所述第二棱镜柱
(202)
取整数
。4.
根据权利要求1所述的增亮膜，其特征在于，所述第一棱镜柱
(201)
和所述第二棱镜柱
(202)
的数量比值区间为：
1:3
‑
1:15
；其中，所述第二棱镜柱
(202)
取整数
。5.
根据权利要求1所述的增亮膜，其特征在于，所述第一棱镜柱
(201)
的高度
H
取值区间为：
12
‑
40um。6.
根据权利要求1所述的增亮膜，其特征在于，所述第一棱镜柱
(201)
的高度
H
和所述第二棱镜柱
(202)
的高度
h
，其比值区间为：
H
‑
h=2
‑
10um...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁清华，
申请(专利权)人：浙江锦德光电材料有限公司，
类型：发明
国别省市：