一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置，涉及陶瓷加工技术领域，包括支撑板

【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置


[0001]本技术涉及陶瓷加工
，具体是一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置
。

技术介绍

[0002]釉是覆盖在陶瓷制品表面的无色或有色的玻璃质薄层，是用矿物原料和原料按一定比例配合经过研磨制成釉浆，施于坯体表面，经一定温度煅烧而成
。
能增加制品的机械强度
、
热稳定性和电介强度，还有美化器物
、
便于拭洗
、
不被尘土腥秽侵蚀等特点，基于上述，现有的陶瓷上釉装置还存在以下缺陷：现有的陶瓷上釉装置结构简单，上釉过程不够细致，容易造成陶瓷上釉不均匀的现象；再者是，现有的陶瓷上釉装置功能单一，不能够针对不同的陶瓷做出合理的调整，适用性较差
。
[0003]根据专利号
CN213055299U
的中国专利公开了一种上釉均匀的陶瓷上釉装置，包括箱体；所述箱体包括储料箱
、
抽料管和压力泵，所述箱体内部焊接有一个储料箱，且箱体内部还螺栓连接有一台压力泵，并且储料箱通过抽料管与压力泵相连接；所述箱体内滑动连接有一条喷釉臂，且箱体内焊接有一个上釉台
。
[0004]采用上述方案，改进了上釉喷釉臂与上釉台，通过改进可使上釉更加均匀，具体如下：启动螺栓连接在箱体内部的电机，使电机带动转动连接在上釉台上的带轮
B
进行旋转，进而使支架上的陶瓷一同转动，然后启动螺栓连接在箱体内部的压力泵，压力泵启动后通过抽料管与送料管将储料箱内的釉浆输送到喷头上，从而达到对陶瓷进行均匀上釉的作用，但是上述装置在喷釉完成时，需要取下陶瓷，然后更换陶胚继续进行喷釉加工，此次过程浪费大量作业时间，使喷釉作业效率减缓，为此我们提出一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置解决上述问题
。

技术实现思路

[0005]本技术的目的就是为了弥补现有技术的不足，提供了陶瓷瓦加工用均匀上釉装置
。
[0006]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置，包括支撑板，所述支撑板的下表面固定连接有两组相互对称的支撑腿，两组所述支撑腿的底端均固定连接有垫片，所述支撑板的上方安装有转动输送装置，所述转动输送装置的上方设置有一组等距排列的升降机构，所述支撑板的上表面固定连接有支撑杆，所述支撑杆的正面固定连接有连接板，所述连接板的上表面安装有储釉箱，所述连接板的下方设置有喷釉机构，所述连接板的下方设置有转动机构
。
[0007]进一步的，所述升降机构包括升降框
、
第一伺服电机，所述升降框的下表面与转动输送装置转动盘的上表面固定连接，所述升降框的下表面开设有升降腔，所述升降腔的内侧壁滑动连接有升降柱，所述升降柱的顶端固定连接有置物板
。
[0008]进一步的，所述升降柱的底端开设有螺纹孔，所述螺纹孔的内侧壁螺纹连接有螺纹杆，所述第一伺服电机安装于转动输送装置转动盘的上表面，所述第一伺服电机的输出
端与螺纹杆的底端固定连接
。
[0009]进一步的，所述喷釉机构包括固定盘
、
第一连通管，所述固定盘的上表面固定连接有两个相互对称的连接柱，两个所述连接柱的顶端均与连接板的下表面固定连接，所述第一连通管的底端贯穿连接板的下表面，且与储釉箱的下表面连通连接，所述第一连通管的底端安装有旋转连通件
。
[0010]进一步的，所述旋转连通件的输出端连通连接有第二连接管
。
所述第二连接管的底端贯穿固定盘的上表面，且安装有泵，所述泵的输出端连通连接有两个相互对称的喷釉杆，两个所述喷釉杆相互靠近的一侧面均安装有一组等距排列的喷头
。
[0011]进一步的，所述转动机构包括第二伺服电机，所述第二伺服电机安装于连接板的下表面，所述第二伺服电机的输出端固定连接有转动柱，所述转动柱的底端固定连接有第一转动齿轮
。
[0012]进一步的，所述第一转动齿轮的外表面啮合连接有第二转动齿轮所述第二转动齿轮的上表面开设有通孔，所述通孔的内侧壁与第二连接管的外表面固定连接
。
[0013]与现有技术相比，该陶瓷瓦加工用均匀上釉装置具备如下有益效果：
[0014]1、
本技术通过转动输送装置
、
升降机构
、
喷釉机构
、
转动机构的配合，可以提前将陶胚放置在置物板的上方，然后启动转动输送装置，控制转动输送装置定距间断移动，且每次都是升降机构停在喷釉机构的下方，接着通过控制升降机构启动并将陶胚升至喷釉机构的内部，然后启动转动机构，进而带动喷头转动，然后开启泵，从而可快速对陶胚进行喷釉，依次循环进行，解决了上述装置在喷釉完成时，需要取下陶瓷，然后更换陶胚继续进行喷釉加工，此次过程浪费大量作业时间，使喷釉作业效率减缓的问题，实现了本装置使用的高效性
。
[0015]2、
本技术通过设置垫片，可以通过垫片的弹性作用，进而减缓本装置作业时产生的晃动，防止陶胚移位使喷釉无法均匀喷涂，实现了本装置使用的安全性
。
附图说明
[0016]图1为本技术的立体正视结构示意图；
[0017]图2为本技术升降装置的立体结构拆分图；
[0018]图3为本技术喷釉装置的立体结构示意图；
[0019]图4为本技术转动机构的立体结构拆分图
。
[0020]图中：
1、
支撑板；
2、
支撑腿；
3、
垫片；
4、
转动输送装置；
5、
升降机构；
501、
升降框；
502、
升降腔；
503、
升降柱；
504、
置物板；
505、
螺纹孔；
506、
螺纹杆；
507、
第一伺服电机；
6、
支撑杆；
7、
连接板；
8、
储釉箱；
9、
喷釉机构；
901、
固定盘；
902、
连接柱；
903、
第一连通管；
904、
旋转连通件；
905、
第二连接管；
906、
泵；
907、
喷釉杆；
908、
喷头；
10、
转动机构；
1001、
第二伺服电机；
1002、
转动柱；
1003、
第一转动齿轮；
1004、
第二转动齿轮；
1005、
通孔
。
具体实施方式
[0021]以下结合附图对本技术的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本技术，并非用于限定本技术的范围
。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置，包括支撑板
(1)
，其特征在于：所述支撑板
(1)
的下表面固定连接有两组相互对称的支撑腿
(2)
，两组所述支撑腿
(2)
的底端均固定连接有垫片
(3)
，所述支撑板
(1)
的上方安装有转动输送装置
(4)
，所述转动输送装置
(4)
的上方设置有一组等距排列的升降机构
(5)
，所述支撑板
(1)
的上表面固定连接有支撑杆
(6)
，所述支撑杆
(6)
的正面固定连接有连接板
(7)
，所述连接板
(7)
的上表面安装有储釉箱
(8)
，所述连接板
(7)
的下方设置有喷釉机构
(9)
，所述连接板
(7)
的下方设置有转动机构
(10)。2.
根据权利要求1所述的一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置，其特征在于：所述升降机构
(5)
包括升降框
(501)、
第一伺服电机
(507)
，所述升降框
(501)
的下表面与转动输送装置
(4)
转动盘的上表面固定连接，所述升降框
(501)
的下表面开设有升降腔
(502)
，所述升降腔
(502)
的内侧壁滑动连接有升降柱
(503)
，所述升降柱
(503)
的顶端固定连接有置物板
(504)。3.
根据权利要求2所述的一种陶瓷瓦加工用均匀上釉装置，其特征在于：所述升降柱
(503)
的底端开设有螺纹孔
(505)
，所述螺纹孔
(505)
的内侧壁螺纹连接有螺纹杆
(506)
，所述第一伺服电机
(507)
安装于转动输送装置
(4)
转动盘的上表面，所述第一伺服电机
(507)
的输出端与螺纹杆
(506)
的底端固定连接
。4.
根据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁学海，梁学谦，谢菲，李刚，
申请(专利权)人：犍为星辉陶瓷有限责任公司，
类型：新型
国别省市：