一种充分清洁的晶片制绒清洗一体化设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种充分清洁的晶片制绒清洗一体化设备，其涉及晶片制绒清洗技术领域，旨在解决现有的制绒清洗设备在同步进行多道工序上存在局限性，工作效率有待提高的问题，其技术方案要点包括第一皮带输送机

【技术实现步骤摘要】
一种充分清洁的晶片制绒清洗一体化设备


[0001]本技术涉及晶片制绒清洗
，尤其是涉及一种充分清洁的晶片制绒清洗一体化设备
。

技术介绍

[0002]清洗和制绒是硅晶片制作的重要步骤之一
,
硅片化学清洗的主要目的是除去硅片表面杂质
(
如某些有机物
,
无机盐
,
金属
、Si、SiO2
粉尘等
)。
常用的化学清洗剂有高纯水
、
有机溶剂
、
双氧水
、
浓酸
、
强碱等
。
其中去除硅的氧化物
,
通常用一定浓度的
HF
溶液
,
室温条件下将硅片浸泡1至数分钟
。
制绒是在硅片表面形成金字塔形的绒面
,
增加硅对太阳光的吸收
。
单晶制绒通常用
NaOH、Na2SiO3
等混合溶液在
75
～
90℃
反应<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种充分清洁的晶片制绒清洗一体化设备，包括第一皮带输送机
(1)、
清洗槽
(2)、
第一风干槽
(3)、
制绒槽
(4)、
第二风干槽
(5)、
第二皮带输送机
(6)
，其特征在于：所述第一皮带输送机
(1)、
清洗槽
(2)、
第一风干槽
(3)、
制绒槽
(4)、
第二风干槽
(5)、
第二皮带输送机
(6)
依次并排分布，所述第一皮带输送机
(1)
和第二皮带输送机
(6)
的一侧分别设置有两根支撑立柱
(7)
，对应位置处的两根支撑立柱
(7)
上端固定安装有第一移动模组
(8)
，两个所述第一移动模组
(8)
的移动块之间固定安装有第二移动模组
(9)
，所述第二移动模组
(9)
的内侧滑动连接有多个移动块，且每个移动块的安装位上均固定安装有一根液压杆
(11)
，所述液压杆
(11)
的伸缩端固定安装有抓取机构
(20)。2.
根据权利要求1所述的一种充分清洁的晶片制绒清洗一体化设备，其特征在于：所述清洗槽
(2)、
第一风干槽
(3)、
制绒槽
(4)、
第二风干槽
(5)
的对称内壁上均固定安装有多根承托杆
(15)
，所述制绒槽
(4)
的对称内壁上固定安装有电阻加热管
。3.
根据权利要求1所述的一种充分清洁的晶片制绒清洗一体化设备，其特征在于：所述抓取机构
(20...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶小健，魏安求，
申请(专利权)人：扬州棒杰新能源科技有限公司，
类型：新型
国别省市：