一种光刻胶剥离废液再生用复合材料及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种光刻胶剥离废液再生用复合材料及其制备方法，属于剥离废液处理技术领域，包括以下步骤：将杂化颗粒

【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶剥离废液再生用复合材料及其制备方法


[0001]本专利技术属于剥离废液处理
，具体涉及一种光刻胶剥离废液再生用复合材料及其制备方法
。

技术介绍

[0002]湿电子化学品是液晶面板
、
半导体芯片等制作过程中不可缺少的基础化工材料之一，按照组成成分和应用工艺不同可将工艺化学品分为通用湿电子化学品和功能湿电子化学品
。
[0003]其中功能湿电子化学品是指通过复配手段达到特殊功能
、
满足制造中特殊工艺需要的配方类或复配类化学品，主要包括剥离液
、
刻蚀液等
。
[0004]目前液晶面板和半导体行业中所用的光刻胶以正性光刻胶为主，相对应的光刻胶剥离液主要为碱性剥离液
。
碱性剥离液大致可分为溶剂型和水基型剥离液，其中溶剂剥离液应用较为广泛
。
[0005]溶剂型光刻胶剥离液主要成分为有机胺化合物
、
醇醚类高沸点有机溶剂
、
防腐蚀剂和添加剂等，该类剥离液能够有效对光刻胶进行剥离，而且对基底和金属布线基本无腐蚀，同时具备毒性小
、
易于精制再生等优点
。
[0006]近年来京东方
、
维信诺
、
华星光电等面板厂家为了提高液晶面板价格的竞争力，进一步降低面板在生产各个环节的成本，要求其剥离液的供应商应对使用过的废光刻胶剥离液进行回收以及混配加工，之后再循环使用，预计回收再生后的玻璃液比新玻璃液的价格会降低
20
％，且与新液的性能方面基本相同
。
[0007]如中国专利
CN108840495A
公开了一种剥离废液提纯方法，用中空纤维膜过滤器对所述剥离液废液进行过滤分离，得到不含微粒杂质
、
光刻胶的初级过滤液和含微粒杂质
、
光刻胶的浓缩液；用预热器对初级过滤液进行预热处理；用脱水塔对预热后的初级过滤液进行水分离处理，分离的水蒸气由塔顶排出经过冷凝处理形成高纯水；用吸附塔对泵送的脱水过滤液进行吸附处理；用蒸发器对吸附过滤液进行加热蒸发处理，形成物料蒸汽；用精馏塔对物料蒸汽进行精制处理得到提纯后的剥离液，该专利首先采用中空纤维膜过滤器对玻璃废液进行过滤分离，虽然有效去除了胶状污泥即所述微粒杂质，但是形成了高浓度的浓缩废液，需要进行二次处理，且后续需要脱水塔进行水分离等步骤，具有工艺繁琐
、
处理成本高等缺陷
。

技术实现思路

[0008]本专利技术的目的在于提供一种光刻胶剥离废液再生用复合材料及其制备方法，以解决现有光刻胶剥离废液再生处理步骤繁琐
、
成本高昂的问题
。
[0009]本专利技术的目的可以通过以下技术方案实现：
[0010]一种光刻胶剥离废液再生用复合材料的制备方法，包括以下步骤：
[0011]将改性活性炭和
POSS
基增强组分置于四氢呋喃中，搅拌后加入聚二甲基硅烷和固
化剂，超声处理
30min
得到混合液，将织物浸入混合液中超声处理
30
‑
60min
取出，在
50
‑
70℃
烘箱中固化1‑
2h
，得到光刻胶剥离废液再生用复合材料
。
[0012]进一步地，混合液中改性活性炭
、POSS
基增强组分
、
四氢呋喃
、
聚二甲基硅烷和固化剂的用量比为
0.5g
：
2g
：
20
‑
40mL
：
8mL
：
0.76
‑
0.8g
，固化剂为
Sylgard 184
硅橡胶固化剂
。
[0013]进一步地，织物为纯棉平纹机织物，经
、
纬纱线密度分别为
17、18tex
，经
、
纬密分别为
536、230
根
/(10cm)
，面密度为
120g/m2。
[0014]进一步地，改性活性炭通过以下步骤制成：
[0015]步骤
A1、
将活性炭
、
无水乙醇和去离子水超声混合均匀得到悬浮液
a
，将无水乙醇
、
氨水和正硅酸乙酯和去离子水在室温下搅拌
15min
后得到混合液
b
，将悬浮液
a
加入混合液
b
中，室温下搅拌
4h
后静置
24h
，之后于
80℃
的烘箱中烘干，研磨后得到杂化颗粒；
[0016]步骤
A2、
将杂化颗粒
、
无水乙醇和十八胺搅拌混合1‑
2h
，之后加入十二烷基三甲氧基硅烷的水解液，
50
‑
60℃
下反应2‑
4h
，过滤，滤饼洗涤干燥，得到改性活性炭
。
[0017]首先以活性炭为载体，正硅酸乙酯为硅源，通过溶液
‑
溶胶法制备了活性炭负载二氧化硅杂化颗粒，之后利用杂化颗粒表面羟基与十八胺之间的氢键作用，在杂化颗粒表面引入十八胺，提高杂化颗粒的疏水性并引入活性氨基，之后通过加入十二烷基三甲氧基硅烷的偶联改性进一步提高杂化颗粒的疏水性
。
[0018]进一步地，步骤
A1
中悬浮液
a
和混合液
b
体积比为1：4，悬浮液
a
由活性炭
、
无水乙醇和去离子水按照用量比
0.1g
：
3mL
：
2mL
组成，混合液
b
由无水乙醇
、
氨水
、
正硅酸乙酯和去离子水按照体积比
10
：
1.5
：
10
：
10
组成，氨水质量分数为
28
％，活性炭平均粒径为
200
目
。
[0019]进一步地，步骤
A2
中杂化颗粒
、
无水乙醇
、
十八胺和十二烷基三甲氧基硅烷的水解液的用量比为
10g
：
100mL
：
2.5
‑
3.4g
：
20
‑
40mL
，十二烷基三甲氧基硅烷的水解液由十二烷基三甲氧基硅烷
、
无水乙醇和去离子水按照用量比
1.5
‑
2.4g
：
30<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种光刻胶剥离废液再生用复合材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：第一步
、
将杂化颗粒
、
无水乙醇和十八胺搅拌混合1‑
2h
，之后加入十二烷基三甲氧基硅烷的水解液，
50
‑
60℃
下反应2‑
4h
，过滤，滤饼洗涤干燥，得到改性活性炭；第二步
、
将改性活性炭和
POSS
基增强组分置于四氢呋喃中，搅拌后加入聚二甲基硅烷和固化剂，超声处理
30min
得到混合液，将织物浸入混合液中超声处理
30
‑
60min
取出，在
50
‑
70℃
烘箱中固化1‑
2h
，得到光刻胶剥离废液再生用复合材料
。2.
根据权利要求1所述的一种光刻胶剥离废液再生用复合材料的制备方法，其特征在于，杂化颗粒
、
无水乙醇
、
十八胺和十二烷基三甲氧基硅烷的水解液用量比为
10g
：
100mL
：
2.5
‑
3.4g
：
20
‑
40mL
，十二烷基三甲氧基硅烷的水解液由十二烷基三甲氧基硅烷
、
无水乙醇和去离子水按照用量比
1.5
‑
2.4g
：
30
‑
35mL
：5‑
10mL
组成
。3.
根据权利要求1所述的一种光刻胶剥离废液再生用复合材料的制备方法，其特征在于，混合液中改性活性炭
、POSS
基增强组分
、
四氢呋喃
、
聚二甲基硅烷和固化剂的用量比为
0.5g
：
2g
：
20
‑
40mL
：
8mL
：
0.76
‑
0.8g。4.
根据权利要求1所述的一种光刻胶剥离废液再生用复合材料的制备方法，其特征在于，杂化颗粒通过以下步骤制成：将活性炭
、
无水乙醇和去离子水超声混合均匀得到悬浮液
a
，将无水乙醇
、
氨水和正硅酸乙酯和去离子水在室温下搅拌
15min
后得到混合液
b
，将悬浮液
a
加入混合液
b
中，室温下搅拌
4h
后静置
24h
，之后于
80℃
的烘箱中烘干，研磨后得到杂化颗粒
。5.
根据权利要求4所述的一种光刻胶剥离废液再生用复合材料的制备方法，其特征在于，步...

【专利技术属性】
技术研发人员：李向峰，高豹，黄安宁，余何建，马刚，张海燕，方明，周升平，
申请(专利权)人：安庆市鑫祥瑞环保科技有限公司，
类型：发明
国别省市：