一种扩散板及其制备方法和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种扩散板及其制备方法和显示装置，包括基底层，所述基底层的顶端设置有抗反射层，所述抗反射层的顶端设置有微结构层，所述微结构层包括有若干凹形微透镜以及若干凸形微透镜；显色层，所述显色层设置于微结构层的表面，所述显色层的顶端设置有光学涂层，所述光学涂层的上表面设置有封装层

【技术实现步骤摘要】
一种扩散板及其制备方法和显示装置


[0001]本专利技术涉及扩散板领域，具体为一种扩散板及其制备方法和显示装置
。

技术介绍

[0002]扩散板是一种用于扩散光线的光学元件，常用于光学照明和显示器件中，它的主要功能是使光线通过散乱
、
折射或反射等方式实现均匀的光分布，从而减少或消除光线的方向性，并提供更为均匀的照明或显示效果；
[0003]扩散板通常由透明的材料制成，例如聚碳酸酯
、
聚甲基丙烯酸甲酯或聚乙烯等，这些材料具有良好的光透过性和机械强度，可以有效地扩散光线，扩散板是通过改变光线传播的路径，使光线在扩散板中发生多次散乱
、
反射或折射，这些反射和折射过程会使光线沿不同的方向传播，导致光线的方向性降低，从而实现光线的扩散；
[0004]传统的扩散板在光线扩散过程中存在一定的方向性，由于材料结构或制备方法的限制，扩散板可能会使光线在某些方向上更强烈地扩散，而在其他方向上扩散较弱，这会导致光线分布的不均匀性，产生光斑或热斑等问题
。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种扩散板及其制备方法和显示装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题
。
[0006]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种扩散板，包括
[0007]基底层，所述基底层的顶端设置有抗反射层，所述抗反射层的顶端设置有微结构层，所述微结构层包括有若干凹形微透镜以及若干凸形微透镜；
[0008]显色层，所述显色层设置于微结构层的表面，所述显色层的顶端设置有光学涂层，所述光学涂层的上表面设置有封装层
。
[0009]进一步的，若干所述凹形微透镜以及若干所述凸形微透镜通过光刻技术或者热压缩法设置于抗反射层的上表面
。
[0010]进一步的，所述抗反射层使用的是氧化锌，氧化锌通过物理镀膜或者溶胶法沉积在基底层上
。
[0011]进一步的，所述显色层使用的是丙烯酸类聚合物，丙烯酸类聚合物以液体或固体形式涂覆在微结构层上，并通过固化或干燥形成显色层
。
[0012]进一步的，所述光学涂层使用的是氟化镁，氟化镁通过涂覆的方式设置于显色层的表面
。
[0013]一种扩散板的制备方法，包括以下步骤：
[0014]步骤
S1
，准备基底材料：选择透明的基底材料，如玻璃或塑料，根据设计需求切割或加工成所需的尺寸和形状；
[0015]步骤
S2
，抗反射层制备：
[0016]a.
清洗基底材料：使用适当的清洗溶剂和方法清洗基底材料表面，确保表面干净，
并去除粉尘和污垢；
[0017]b.
涂布抗反射涂料：将氧化锌溶解在适当的溶剂中，并通过物理镀膜或者溶胶法沉积在基底上；
[0018]c.
烘干和固化：将涂有抗反射涂料的基底材料放置在适当的烘箱中，进行烘干和固化，使抗反射层形成和固化；
[0019]步骤
S3
，微结构层制备：
[0020]a.
图案设计：根据需要设计微结构的图案，并将其转换为适当的控制文件；
[0021]b.
光刻或热压工艺：使用光刻技术或热压缩法，在抗反射层上形成微结构，光刻工艺涉及光刻胶的涂覆
、
曝光和显影步骤，而热压缩法则使用模具通过压力和温度来形成微结构；
[0022]c.
检查和清洗：检查微结构层的形成情况，如果有不良的结构或缺陷，可以采取相应的修复措施，随后清洗基底材料，确保表面干净；
[0023]步骤
S4
，显色层制备：
[0024]a.
准备显色涂料：选择丙烯酸类聚合物为显色涂料，并根据需要在适当的溶剂中稀释；
[0025]b.
涂布显色涂料：使用适当的涂布技术，将稀释后的显色涂料均匀地涂布在微结构层上；
[0026]c.
烘干和固化：将涂有显色涂料的扩散板放置在适当的烘箱中，进行烘干和固化，使显色层形成和固化；
[0027]步骤
S5
，光学涂层制备：
[0028]a.
准备光学涂料：选择氟化镁作为光学涂料，并根据要求进行稀释或调配；
[0029]b.
涂布光学涂层：使用合适的涂布技术，将光学涂料均匀地涂布在显色层上；
[0030]c.
烘干和固化：将涂有光学涂料的扩散板放置在适当的烘箱中，进行烘干和固化，使光学涂层形成和固化
。
[0031]进一步的，还包括有封装步骤：
[0032]a.
选择适合的透明材料，如透明保护膜或玻璃，作为封装层的材料，确保材料干净，并根据需要切割或加工成所需的尺寸和形状；
[0033]b.
在封装之前，需要确保扩散板的表面干净并且没有污垢
、
灰尘或凸起的结构层；
[0034]c.
使用适当的涂布技术，包括旋涂
、
喷涂或浸涂，将封装材料均匀涂覆在扩散板的表面上，确保封装层与扩散板完全接触，并均匀覆盖整个表面；
[0035]d.
将涂有封装材料的扩散板放置在适当的烘箱或热处理设备中进行烘干和固化，并设置适当的温度和时间，以确保封装材料完全干燥和固化
。
[0036]进一步的，所述步骤
S3
中，光刻技术包括以下步骤：
[0037]a.
基底涂覆：将光刻胶涂覆在基底材料上；
[0038]b.
曝光：使用光刻机器将模板或掩模中的图案投影到光刻胶上，并形成所需的微透镜结构；
[0039]c.
显影：使用合适的显影剂将未曝光区域的光刻胶溶解掉，从而形成微透镜的结构；
[0040]d.
清洗和后处理：将样品进行清洗，并可能进行其他后处理步骤，如烘干和固化
。
[0041]进一步的，所述骤
S3
中，热压缩法包括以下步骤：
[0042]a.
基底准备：将基底材料与微透镜模具对齐，并确保基底材料表面光滑；
[0043]b.
热压缩：通过施加高温和压力，将基底材料与模具一起压缩，形成微透镜结构；
[0044]c.
冷却和固化：降低温度，使基底材料固化，并完全复制模具上的微透镜结构；
[0045]d.
可选的后处理：需要进一步的清洗和处理步骤，包括去除残余的模具材料或平整其表面等
。
[0046]一种显示装置，包括
[0047]液晶显示器背光模块以及如权利要求1‑5任一项所述的扩散板；
[0048]所述液晶显示器背光模块包括有光源以及液晶面板；
[0049]所述扩散板设置于光源和液晶面板之间，所述光源使用的是冷阴极荧光灯或者
LED
灯
。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种扩散板，其特征在于：包括基底层
(1)
，所述基底层
(1)
的顶端设置有抗反射层
(2)
，所述抗反射层
(2)
的顶端设置有微结构层
(3)
，所述微结构层
(3)
包括有若干凹形微透镜以及若干凸形微透镜；显色层
(4)
，所述显色层
(4)
设置于微结构层
(3)
的表面，所述显色层
(4)
的顶端设置有光学涂层
(5)
，所述光学涂层
(5)
的上表面设置有封装层
(6)。2.
根据权利要求1所述的一种扩散板，其特征在于：若干所述凹形微透镜以及若干所述凸形微透镜通过光刻技术或者热压缩法设置于抗反射层
(2)
的上表面
。3.
根据权利要求1所述的一种扩散板，其特征在于：所述抗反射层
(2)
使用的是氧化锌，氧化锌通过物理镀膜或者溶胶法沉积在基底层
(1)
上
。4.
根据权利要求1所述的一种扩散板，其特征在于：所述显色层
(4)
使用的是丙烯酸类聚合物，丙烯酸类聚合物以液体或固体形式涂覆在微结构层
(3)
上，并通过固化或干燥形成显色层
(4)。5.
根据权利要求1所述的一种扩散板，其特征在于：所述光学涂层
(5)
使用的是氟化镁，氟化镁通过涂覆的方式设置于显色层
(4)
的表面
。6.
一种扩散板的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤
S1
，准备基底材料：选择透明的基底材料，如玻璃或塑料，根据设计需求切割或加工成所需的尺寸和形状；步骤
S2
，抗反射层制备：
a.
清洗基底材料：使用适当的清洗溶剂和方法清洗基底材料表面，确保表面干净，并去除粉尘和污垢；
b.
涂布抗反射涂料：将氧化锌溶解在适当的溶剂中，并通过物理镀膜或者溶胶法沉积在基底上；
c.
烘干和固化：将涂有抗反射涂料的基底材料放置在适当的烘箱中，进行烘干和固化，使抗反射层形成和固化；步骤
S3
，微结构层制备：
a.
图案设计：根据需要设计微结构的图案，并将其转换为适当的控制文件；
b.
光刻或热压工艺：使用光刻技术或热压缩法，在抗反射层上形成微结构，光刻工艺涉及光刻胶的涂覆
、
曝光和显影步骤，而热压缩法则使用模具通过压力和温度来形成微结构；
c.
检查和清洗：检查微结构层的形成情况，如果有不良的结构或缺陷，可以采取相应的修复措施，随后清洗基底材料，确保表面干净；步骤
S4
，显色层制备：
a.
...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴朝勋，
申请(专利权)人：广东利辉电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：