【技术实现步骤摘要】
一种抗单粒子加固的鳍式场效应晶体管
[0001]本专利技术涉及半导体器件抗辐射加固领域,具体涉及一种抗单粒子加固的鳍式场效应晶体管器件结构
。
技术介绍
[0002]随着集成电路技术的发展,半导体器件的特征尺寸不断缩小
。
集成电路工艺进入纳米尺度后,传统平面体硅器件面临许多挑战,鳍式场效应晶体管
(FinFET)
已取代传统平面
MOS
器件成为了主流商用器件
。
随着航天技术和集成电路技术的进步,越来越多的电子设备应用于航天器中,
FinFET
在航天领域也有着广阔的应用前景
。
[0003]然而,太空环境中存在的大量辐射会给半导体器件及电路的正常运行带来严重的挑战
。
集成电路工艺进入纳米尺度后,单粒子效应成为导致航天器电子系统异常的重要原因之一
。
单粒子入射到半导体器件中将淀积能量,产生电子
‑
空穴对,电荷被漏极收集会引发单粒子瞬态电流,进而使电路信号出现扰动,产生软错误;当淀积的能量足够大时,可能会引起单粒子闭锁,甚至进一步引起器件或电路烧毁,产生硬失效
。
技术实现思路
[0004]本专利技术的目的是提供一种抗单粒子加固的鳍式场效应晶体管器件,降低单粒子效应对器件的影响
。
[0005]为实现上述技术目的,本专利技术采用如下技术方案:
[0006]一种鳍式场效应晶体管,包括半导体衬底,衬底材料包括但不限于 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种鳍式场效应晶体管,包括半导体衬底,在半导体衬底上具有凸起的
Fin
条,
Fin
沟道的两端分别是源区和漏区,
Fin
沟道的顶部和两侧由内向外依次覆盖栅介质和栅电极,其特征在于,所述源区和漏区采用非对称结构:源区下方无介质层,直接与衬底相连;漏区下方由介质层将漏区和衬底完全隔离;沟道区下方由介质层将沟道区全部或部分位置与衬底隔离
。2.
如权利要求1所述的鳍式场效应晶体管,其特征在于,所述衬底为体硅衬底
、
体锗衬底或
Ⅲ‑Ⅴ
族化合物半导体衬...
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