【技术实现步骤摘要】
一种高密度高均匀性氧化锌铝靶材及其制备方法
[0001]本专利技术涉及靶材
,具体涉及一种高密度高均匀性氧化锌铝靶材
。
技术介绍
[0002]靶材是磁控溅射过程中的基本耗材,不仅使用量大,而且靶材质量的好坏对薄膜的性能起着至关重要的决定作用;靶材应用领域比较广泛,主要包括光学靶材
、
显示薄膜用靶材
、
半导体领域用靶材
、
记录介质用靶材
、
超导靶材等
。
其中半导体领域用靶材
、
显示用靶材和记录介质用靶材是当前使用最为广泛的三大靶材
。
[0003]为提升薄膜制备速率和保证薄膜的生长质量,溅射靶材要达到一定的指标要求;近年来,液晶显示
、
有源有机发光二极管显示以及柔性显示等平板显示技术迅猛发展,作为核心部件的薄膜晶体管
(TFT)
的重要性不言而喻;其中,基于氧化物半导体的
TFT
以其较高的迁移率
、
良好的电学均匀性
、
高的可见光透过性
、
较低的制备温度以及较低的成本等优势受到广泛的关注
。
[0004]氧化锌铝靶材就是用于制备薄膜晶体管的其中一种氧化物半导体原料,同时因为其因为价格低
、
原料易得
、
性能稳定的特定可以作为取代
ITO
的靶材应用于
TCO
薄膜领域,而氧化锌铝靶材的密度和均匀性是 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种高密度高均匀性氧化锌铝靶材,其特征在于,由小粒径氧化锌铝粉末和大粒径氧化锌铝粉末混合得到混合粉体后依次经过模压
、
冷等静压
、
脱脂热处理
、
烧结得到;其中小粒径氧化锌铝粉末占混合粉体质量的
30
%
‑
50
%,小粒径氧化锌铝粉末的粒径为
0.3
~
0.8
μ
m
,大粒径氧化锌铝粉末的粒径为1‑
1.5
μ
m
,且大粒径氧化锌铝粉末与小粒径氧化锌铝粉末的粒径之差<
0.8
μ
m。2.
根据权利要求1所述的高密度高均匀性氧化锌铝靶材,其特征在于,所述小粒径氧化锌铝粉末由大粒径氧化锌铝粉末经过干法球磨得到
。3.
一种如权利要求1或2所述的高密度高均匀性氧化锌铝靶材的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:将氧化锌粉末
、
纯水和分散剂混合分散均匀,然后进行湿法研磨得到浆料一;步骤2:往浆料一中加入氧化铝粉末
、
纯水和分散剂混合分散均匀,然后进行湿法研磨得到浆料二;步骤3:往浆料二中加入粘结剂混合分散均匀,然后进行湿法研磨得到浆料三;步骤4:将浆料三依次进行喷雾造粒
、
混料和筛分得到大粒径氧化锌铝粉末;步骤5:取出部分大粒径氧化锌铝粉末进行干法球磨得到小粒径氧化锌铝粉末;步骤6:将剩余的大粒径氧化锌铝粉末与步骤5得到的小粒径氧化锌铝粉末混合得到混合粉体;步骤7:将混合粉体依次进行模压和冷等静压后得到氧化锌铝靶胚;步骤8:将氧化锌铝靶胚以
0.1
‑
0.5℃/min
的升温速率升温至
400
‑
600℃
后保温3‑
8h
进行脱脂热处理;步骤9:将步骤8脱脂热处理后的氧化锌铝靶胚以
0.5
‑
3℃/min
的升温速率升温至
1200
‑
1600℃
后保温
10
‑
15h
进行烧结得到所述高密度高均匀性氧化锌铝靶材
。4.
根据权利要求3所述的高密度高均匀性氧化锌铝靶材的制备方法,其特征在于,所述步骤1的具体操作为:将氧化锌粉末
、
纯水和分散剂加入到浆料桶内以
60
‑
200rpm/min
的转速混合分散
20
‑
40min
,然后打入砂磨机中以
12...
【专利技术属性】
技术研发人员:罗斯诗,李开杰,邵学亮,顾德盛,张兴宇,
申请(专利权)人:先导薄膜材料广东有限公司,
类型:发明
国别省市:
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