一种水性表面处理剂研磨分散装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及研磨分散技术领域，具体为一种水性表面处理剂研磨分散装置，包括研磨结构和控制结构，所述研磨结构由研磨桶和安装板组成，所述研磨桶的底部安装有支撑座，所述支撑座底部的四周均安装有支撑脚，所述研磨桶的顶部安装有顶盖，所述顶盖的顶部安装有驱动电机，所述研磨桶的内部插接有安装板，所述安装板的内部安装有过滤网，所述安装板顶部的正中心安装有研磨装置，所述安装板底部的正中心固定安装有插接座，所述插接座的底部插接有活动杆，所述活动杆的底部安装有固定座，所述固定座的外表面上开设有凹槽，所述凹槽的内部安装有若干个搅拌杆，所述研磨桶内部的底部开设有出料口，本装置结构简单，使用方便且实用性较高

【技术实现步骤摘要】
一种水性表面处理剂研磨分散装置


[0001]本技术涉及研磨分散
，具体为一种水性表面处理剂研磨分散装置
。

技术介绍

[0002]水处理剂是一类用于水处理的化学药剂的总称，广泛用于石油
、
化工
、
冶金
、
交通
、
轻工
、
纺织等工业部门
。
水处理剂包括缓蚀剂
、
阻垢剂
、
杀菌剂
、
絮凝剂
、
净化剂
、
清洗剂
、
预膜剂等
。
在实际应用中，往往使用复合配方的水处理剂，或者综合应用各类水处理剂
。
因此，既要注意各组分之间由于不适当的复配而产生对抗作用，使效果降低或丧失，也要充分利用协同效应
(
几种药剂共存时所产生的增效作用
)
而增效
。
此外，大多数水处理系统是敞开系统，会有一定的排放量，使用时要考虑到各类水处理剂对环境的影响
。
[0003]针对以上问题，其中，中国专利一种水性表面处理剂研磨分散装置，
(
公开号为
CN212237058U)
，该专利包括底座，所述底座顶部设有立柱，所述立柱与底座固定连接，所述立柱一侧设有分散桶，所述分散桶内部设有分散机构，所述分散机构包括电机，所述电机设在分散桶顶部，所述电机与分散桶固定连接，所述电机输出轴底端设有转轴，所述转轴与电机输出轴固定连接，所述分散桶内部设有支架，所述支架与分散桶固定连接，所述支架顶部设有套筒，所述套筒延伸出支架底部
。
本技术通过轴流叶轮将表面处理剂从套筒底部抽上套筒顶部，在处理剂上升的过程中，研磨转子将分散剂甩向研磨定子，通过研磨转子与研磨定子的配合研磨处理剂，避免了大颗粒的处理剂在搅拌的过程中沉；
[0004]虽然上述方式能够解决现有的剪切分散装置在使用时，由于定子和转子体积较小，搅拌时大颗粒的处理剂在搅拌的过程中容易沉底，导致研磨分散器内部处理颗粒不均的问题，但是该专利通过轴流叶轮将表面处理剂从底部抽上来，只能保证大颗粒的药剂不会沉底，但是却无法解决大颗粒药剂需要较长的时间才能分散的问题，一旦加工时间不足，依旧会产生处理颗粒不均的问题，因此需要一种水性表面处理剂研磨分散装置来解决上述问题
。

技术实现思路

[0005]1)
技术要解决的技术问题
[0006]针对现有技术的不足，本技术设计了一种水性表面处理剂研磨分散装置，该装置解决了现有分散装置通过轴流叶轮将表面处理剂从底部抽上来，只能保证大颗粒的药剂不会沉底，但是却无法解决大颗粒药剂需要较长的时间才能分散的问题，一旦加工时间不足，依旧会产生处理颗粒不均的问题
。
[0007]2)
技术方案
[0008]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
[0009]一种水性表面处理剂研磨分散装置，包括研磨结构和控制结构，所述研磨结构由研磨桶和安装板组成，所述研磨桶的底部安装有支撑座，所述支撑座底部的四周均安装有支撑脚，所述研磨桶的顶部安装有顶盖，所述顶盖的顶部安装有驱动电机，所述研磨桶的内
部插接有安装板，所述安装板的内部安装有过滤网，所述安装板顶部的正中心安装有研磨装置，所述研磨装置的外表面上开设有若干个过滤孔，所述研磨装置的内部开设有空腔，所述空腔内部的正中心安装有旋转轴，所述旋转轴的四周壁上安装有若干个连接杆，所述连接杆的另一侧安装有研磨辊，所述研磨辊与连接杆之间的连接处安装有固定轴，所述安装板底部的正中心固定安装有插接座，所述插接座的底部插接有活动杆，所述活动杆的底部安装有固定座，所述固定座的外表面上开设有凹槽，所述凹槽的内部安装有若干个搅拌杆，所述研磨桶内部的底部开设有出料口
。
[0010]作为本技术优选的方案，所述控制结构包括供电座和控制面板，所述固定座的外侧安装有控制面板，所述控制面板的外侧设有显示屏，所述显示屏的下方设有若干个控制按钮
。
[0011]作为本技术优选的方案，所述研磨辊通过连接杆与旋转轴之间相连接，且通过固定轴能够使研磨辊在连接杆上转动，所述研磨辊与研磨装置内部的四周壁之间紧密贴合
。
[0012]作为本技术优选的方案，所述顶盖插接在研磨桶的顶部上，所述驱动电机的输出端与旋转轴和活动杆之间传动连接
。
[0013]作为本技术优选的方案，所述出料口贯穿研磨桶的底部和支撑座，且出料口可闭合
。
[0014]作为本技术优选的方案，所述供电座与驱动电机之间电连接，所述控制面板与驱动电机之间控制连接
。
[0015]3)
有益效果
[0016]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0017]本技术中，通过研磨结构的设计，能够打开顶盖，将水性处理剂倒入研磨装置中，并将顶盖重新盖上，通过驱动电机带动研磨装置内部空腔中的旋转轴转动，旋转轴通过连接杆使研磨辊也转动，研磨辊紧贴研磨装置内部的四周壁，将水性处理剂磨碎，颗粒较小的处理剂能够通过研磨装置外表面的过滤孔排出，并通过安装板上的过滤网掉入下方，活动杆插接在安装板底部的插接座中，活动杆转动，使固定座外表面凹槽中的搅拌杆开始搅拌，加工完成后的成品从出料口排出
。
附图说明
[0018]图1为本技术整体结构示意图；
[0019]图2为本技术研磨桶内部结构示意图；
[0020]图3为本技术安装板整体结构仰视图；
[0021]图4为本技术研磨装置内部结构示意图
。
[0022]图中：1‑
研磨结构
、11
‑
支撑座
、12
‑
支撑脚
、13
‑
研磨桶
、14
‑
顶盖
、15
‑
驱动电机
、16
‑
安装板
、161
‑
过滤网
、162
‑
插接座
、163
‑
活动杆
、164
‑
凹槽
、165
‑
搅拌杆
、166
‑
固定座
、17
‑
研磨装置
、171
‑
过滤孔
、172
‑
空腔
、173
‑
连接杆
、174
‑
旋转轴
、175
‑
研磨辊
、176
‑
固定轴
、18
‑
出料口
、2
‑
控制结构
、21
‑
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种水性表面处理剂研磨分散装置，包括研磨结构
(1)
和控制结构
(2)
，其特征在于：所述研磨结构
(1)
由研磨桶
(13)
和安装板
(16)
组成，所述研磨桶
(13)
的底部安装有支撑座
(11)
，所述支撑座
(11)
底部的四周均安装有支撑脚
(12)
，所述研磨桶
(13)
的顶部安装有顶盖
(14)
，所述顶盖
(14)
的顶部安装有驱动电机
(15)
，所述研磨桶
(13)
的内部插接有安装板
(16)
，所述安装板
(16)
的内部安装有过滤网
(161)
，所述安装板
(16)
顶部的正中心安装有研磨装置
(17)
，所述研磨装置
(17)
的外表面上开设有若干个过滤孔
(171)
，所述研磨装置
(17)
的内部开设有空腔
(172)
，所述空腔
(172)
内部的正中心安装有旋转轴
(174)
，所述旋转轴
(174)
的四周壁上安装有若干个连接杆
(173)
，所述连接杆
(173)
的另一侧安装有研磨辊
(175)
，所述研磨辊
(175)
与连接杆
(173)
之间的连接处安装有固定轴
(176)
，所述安装板
(16)
底部的正中心固定安装有插接座
(162)
，所述插接座
(162)
的底部插接有活动杆
(163)
，所述活动杆
(163)
的底部安装有固定座
(166)
，所述固定座
(166)
的外表面上开设有凹槽
(164)
，所述凹槽
(16...

【专利技术属性】
技术研发人员：张涛，李健，吴佳杰，
申请(专利权)人：浙江道易新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：