显示面板及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种显示面板及其制备方法

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制备方法、显示装置


[0001]本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示面板及其制备方法
、
显示装置
。

技术介绍

[0002]随着显示技术的不断发展，人们对显示面板的要求越来越高
。
在现有技术中，通过在发光器件的正上方设置微透镜，从而能够对发光器件的出光光路进行调整，以增强正视出光能量，进而降低显示面板的功耗
、
延长显示面板的寿命
。
然而，现有技术对正视出光能量的增强效果有限
。

技术实现思路

[0003]本专利技术提供了一种显示面板及其制备方法
、
显示装置，以提升显示面板的正视出光能量
。
[0004]为实现上述技术目的，本专利技术实施例提供了如下技术方案：
[0005]一种显示面板，包括：
[0006]发光层，位于衬底的一侧，所述发光层排布有多个发光单元；
[0007]光路调整层，位于所述发光层的远离所述衬底的一侧；所述光路调整层包括第一材料层和第二材料层，所述第一材料层包括多个开口，所述开口在所述衬底上的正投影与所述发光单元在所述衬底上的正投影存在交叠；所述第二材料层覆盖所述第一材料层，且所述第二材料层的折射率与所述第一材料层不同；
[0008]其中，所述开口的侧壁形状包括凸弧面
。
[0009]可选地，显示面板还包括：
[0010]过渡层，位于所述光路调整层朝向所述发光层的一侧；
[0011]优选地，所述开口的侧壁至少包括连接弧面，所述连接弧面与所述过渡层的表面接触，且所述连接弧面为凸弧面，凸出于所述连接弧面与所述过渡层的接触点
。
[0012]优选地，所述第一材料层还包括主体结构，所述主体结构围合形成所述多个开口；所述主体结构的截面形状为正梯形的变形，所述第二材料层的折射率大于所述第一材料层的折射率；或者，所述主体结构的截面形状为倒梯形的变形，所述第二材料层的折射率小于所述第一材料层的折射率；
[0013]其中，所述正梯形是指其下底与所述衬底之间的距离小于其上底与所述衬底之间的距离的梯形；所述倒梯形是指其上底与所述衬底之间的距离小于其下底与所述衬底之间的距离的梯形
。
[0014]可选地，所述主体结构的截面形状为正梯形的变形；
[0015]所述主体结构的截面形状靠近所述开口的一边包括第一弧线段和第二弧线段，所述第一弧线段和所述第二弧线段构成凸圆弧；所述第一弧线段的第一端点为所述开口的底部端点，所述第一弧线段的第二端点与所述第二弧线段的第一端点连接，所述第二弧线段的第二端点与所述主体结构的顶部齐平；
[0016]优选地，所述第一弧线段为贝赛尔曲线或圆锥曲线；所述第二弧线段为贝赛尔曲线或圆锥曲线
。
[0017]可选地，定义所述第一弧线段的第二端点与所述第二弧线段的第一端点的连接点为过渡点，所述主体结构的高度为
H、
所述过渡点的高度为
A
，且
A
＝
(40
％～
60
％
)*H。
[0018]可选地，所述光路调整层还包括隔离层，所述隔离层位于所述第一材料层和所述第二材料层之间，且所述隔离层包覆所述第一材料层的主体结构；
[0019]优选地，所述隔离层的折射率大于或等于所述第一材料层，以及所述隔离层的折射率小于或等于所述第二材料层；或者，所述隔离层的折射率小于或等于所述第一材料层，以及所述隔离层的折射率大于或等于所述第二材料层；
[0020]优选地，所述隔离层的材料包括氧化硅
、
氮化硅和氧化铝中的至少一种；
[0021]优选地，所述隔离层的材料为氧化铝，所述隔离层的厚度范围
3nm
～
100nm。
[0022]可选地，所述开口在所述衬底上的正投影覆盖所述发光单元在所述衬底上的正投影；
[0023]优选地，所述过渡层包括：封装层和触控层中的至少一种
。
[0024]相应地，本专利技术实施例还提供了一种显示面板的制备方法，包括：
[0025]提供衬底；
[0026]在所述衬底的一侧形成发光层；其中，所述发光层包括多个发光单元；
[0027]在所述发光层远离所述衬底的一侧形成第一材料层；其中，所述第一材料层包括多个开口，所述开口在所述衬底上的正投影与所述发光单元在所述衬底上的正投影存在交叠；
[0028]在所述第一材料层上形成第二材料层，所述第二材料层覆盖所述第一材料层，且所述第二材料层的折射率与所述第一材料层不同；
[0029]其中，所述第一材料层和所述第二材料层构成光路调整层；所述光路调整层中的所述开口的侧壁形状包括凸弧面
。
[0030]可选地，第一材料层的形成方法具体包括：
[0031]在发光层远离所述衬底的一侧形成过渡层；
[0032]在所述过渡层上形成整层的第一材料层；
[0033]采用掩膜光刻工艺对所述第一材料层进行图案化，形成多个初始开口；
[0034]采用蚀刻工艺刻蚀所述初始开口的侧壁，构建连接弧面，形成所述开口；其中，所述连接弧面与所述过渡层的表面接触，且所述连接弧面为凸弧面；
[0035]或者，第一材料层的形成方法具体包括：
[0036]在发光层远离所述衬底的一侧形成过渡层；
[0037]在所述过渡层上形成整层的第一材料层；
[0038]采用数字无掩膜光刻工艺或多光束干涉光刻工艺对所述第一材料层进行图案化，一次成型形成多个所述开口
。
[0039]优选地，所述第一材料层还包括主体结构，所述主体结构围合形成所述多个开口；在形成所述开口之前，还包括：
[0040]确定所述主体结构的形状；
[0041]优选地，所述主体结构的截面形状为正梯形的变形，所述主体结构的截面形状靠
近所述开口的一边包括第一弧线段和第二弧线段；所述主体结构的形状的确定方法，具体包括：
[0042]获取所述主体结构的高度；其中，所述主体结构的高度为所述第一材料层的厚度；
[0043]设定起始点
、
以及与所述起始点匹配的过渡点和截止点；其中，所述起始点为所述第一弧线段的第一端点，所述过渡点为所述第一弧线段和所述第二弧线段的连接点，所述截止点为所述第二弧线段的第二端点；
[0044]根据所述起始点和所述过渡点的位置构建，结合所述光路调整层矫正光线的角度所述第一弧线段；以及，根据所述过渡点和所述截止点的位置，结合所述光路调整层矫正光线的角度构建所述第二弧线段
。
[0045]相应地，本专利技术实施例还提供了一种显示装置，包括：如本专利技术任意实施例所述的显示面板或者如本专利技术任意实施例所述的制备方法制备的显示面板
。
[0046]本专利技术实施例在显示面板中增设光路调整层，光路调整层本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种显示面板，其特征在于，包括：发光层，位于衬底的一侧，所述发光层排布有多个发光单元；光路调整层，位于所述发光层的远离所述衬底的一侧；所述光路调整层包括第一材料层和第二材料层，所述第一材料层包括多个开口，所述开口在所述衬底上的正投影与所述发光单元在所述衬底上的正投影存在交叠；所述第二材料层覆盖所述第一材料层，且所述第二材料层的折射率与所述第一材料层不同；其中，所述开口的侧壁形状包括凸弧面
。2.
根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括：过渡层，位于所述光路调整层朝向所述发光层的一侧；所述开口的侧壁至少包括连接弧面，所述连接弧面与所述过渡层的表面接触，且所述连接弧面为凸弧面，凸出于所述连接弧面与所述过渡层的接触点
。3.
根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一材料层还包括主体结构，所述主体结构围合形成所述多个开口；所述主体结构的截面形状为正梯形的变形，所述第二材料层的折射率大于所述第一材料层的折射率；或者，所述主体结构的截面形状为倒梯形的变形，所述第二材料层的折射率小于所述第一材料层的折射率；其中，所述正梯形是指其下底与所述衬底之间的距离小于其上底与所述衬底之间的距离的梯形；所述倒梯形是指其上底与所述衬底之间的距离小于其下底与所述衬底之间的距离的梯形
。4.
根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述主体结构的截面形状为正梯形的变形；所述主体结构的截面形状靠近所述开口的一边包括第一弧线段和第二弧线段，所述第一弧线段和所述第二弧线段构成凸圆弧；所述第一弧线段的第一端点为所述开口的底部端点，所述第一弧线段的第二端点与所述第二弧线段的第一端点连接，所述第二弧线段的第二端点与所述主体结构的顶部齐平；优选地，所述第一弧线段为贝赛尔曲线或圆锥曲线；所述第二弧线段为贝赛尔曲线或圆锥曲线
。5.
根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，定义所述第一弧线段的第二端点与所述第二弧线段的第一端点的连接点为过渡点，所述主体结构的高度为
H、
所述过渡点的高度为
A
，且
A
＝
(40
％～
60
％
)*H。6.
根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述光路调整层还包括隔离层，所述隔离层位于所述第一材料层和所述第二材料层之间，且所述隔离层包覆所述第一材料层的主体结构；优选地，所述隔离层的折射率大于或等于所述第一材料层，以及所述隔离层的折射率小于或等于所述第二材料层；或者，所述隔离层的折射率小于或等于所述第一材料层，以及所述隔离层的折射率大于或等于所述第二材料层；优选地，所述隔离层的材料包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘林卿，赵晶晶，张丹，冯士振，李哲，郭盈盈，王志文，
申请(专利权)人：合肥维信诺科技有限公司，
类型：发明
国别省市：