光学层叠体和图像显示装置制造方法及图纸

光学层叠体

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学层叠体和图像显示装置


[0001]本专利技术涉及在硬涂薄膜上具备无机薄膜的光学层叠体
、
和具备该光学层叠体的图像显示装置
。

技术介绍

[0002]在液晶显示器
、
有机
EL
显示器等图像显示装置的表面，出于提高显示图像的辨识性的目的，有时设置防反射薄膜等光学薄膜
。
防反射薄膜在薄膜基材上具备由折射率不同的多个薄膜形成的防反射层
。
作为形成防反射层的薄膜，使用无机氧化物等无机薄膜的防反射薄膜的折射率
、
膜厚的调整是容易的，因此能够实现高的防反射特性
。
[0003]防反射薄膜等光学薄膜配置于图像显示装置的最表面，因此出于防止由来自外部的接触导致的损伤等目的，有时在薄膜基材的薄膜形成面设置硬涂层
。
专利文献1中记载了：通过在包含微粒的硬涂层上隔着底漆层形成防反射层，能够提高硬涂层与防反射层的密合性
。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开
2017
‑
161893
号公报

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的问题
[0008]通常，为了保护显示面板免受外部冲击等，在图像显示装置的表面设置有由玻璃
、
刚性的塑料基板形成的透明覆盖层，但从图像显示装置的薄型化的观点出发，也采用不设置刚性的覆盖层的构成
。
>在不设置覆盖层的构成中，对设置于最表面的防反射薄膜要求更高的硬度
。
另外，近年来，以笔记本电脑为中心，笔触控方式的触摸面板的搭载不断发展，要求防反射薄膜具有更高水平的耐滑动性
。
[0009]若增大设置于防反射层的正下方的硬涂层的厚度，则能够提高防反射薄膜的硬度
、
耐滑动性
。
然而，若增大包含微粒的硬涂层的厚度，则硬涂层的耐弯曲性降低，在辊输送时
、
与其他构件的贴合等操作时，硬涂层容易产生破裂
、
裂纹，存在操作性降低的倾向
。
[0010]在硬涂层不含微粒的情况下，存在抑制硬涂层的破裂
、
裂纹的倾向，但存在与设置于硬涂层上的防反射层等无机薄膜的密合性降低的倾向，在现有技术中，难以兼顾无机薄膜的密合性和操作性
。
[0011]鉴于上述情况，本专利技术的目的在于提供硬度高
、
硬涂层与防反射层等无机薄膜的密合性优异
、
且不易产生破裂
、
裂纹
、
具有良好的操作性的光学层叠体
。
[0012]用于解决问题的方案
[0013]本专利技术涉及一种光学层叠体，其在薄膜基材的一个主面上具备前表面硬涂层和与其上接触的无机薄膜
。
也可以在薄膜基材的另一个主面设置背面硬涂层
。
[0014]作为光学层叠体的一例，可列举出在硬涂层上具备由折射率不同的多个无机薄膜
形成的防反射层的防反射薄膜
。
防反射层可以在与前表面硬涂层接触的面具备无机底漆层
。
这样的光学层叠体例如配置于图像显示装置的辨识侧表面
。
[0015]前表面硬涂层包含粘结剂树脂和无机微粒
。
前表面硬涂层的厚度优选为7～
50
μ
m。
前表面硬涂层的与无机薄膜接触的面的算术平均高度
Sa
优选为
1.0nm
以上
。
[0016]前面硬涂层在与无机薄膜的界面附近，无机微粒的粒径与硬涂层整体相比相对较大，或者无机微粒的含量与硬涂层整体相比相对较大
。
[0017]在一个实施方式中，前表面硬涂层的从与无机薄膜的界面起在厚度方向上1μ
m
的范围内的无机微粒的平均一次粒径
Da
为
30
～
70nm
，前表面硬涂层整体中所含的无机微粒的平均一次粒径
D
小于
Da。
[0018]在一个实施方式中，前表面硬涂层的从与无机薄膜的界面起在厚度方向上1μ
m
的范围内的无机微粒的平均一次粒径
Da
为
30
～
70nm
，前表面硬涂层的从与无机薄膜的界面起在厚度方向上1μ
m
的范围内的无机微粒的重量浓度大于前表面硬涂层整体的无机微粒的重量浓度
。
[0019]可以是前表面硬涂层的从与无机薄膜的界面起在厚度方向上1μ
m
的范围内的无机微粒的平均一次粒径
Da
大于前表面硬涂层整体中所含的无机微粒的平均一次粒径
D、
并且前表面硬涂层的从与无机薄膜的界面起在厚度方向上1μ
m
的范围内的无机微粒的重量浓度大于前表面硬涂层整体的无机微粒的重量浓度
。
前表面硬涂层的从与上述无机薄膜的界面起在厚度方向上1μ
m
的范围内的无机微粒的重量浓度可以为
20
重量％以上
。
[0020]在一个实施方式中，前表面硬涂层为包含与无机薄膜接触的第一硬涂层
、
和配置于比所述硬涂层更靠近所述薄膜基材侧的第二硬涂层的2层以上的层叠构成，至少第一硬涂层包含无机微粒
。
前表面硬涂层可以是第一硬涂层和第二硬涂层的2层构成，也可以是3层以上的层叠构成
。
[0021]第一硬涂层的无机微粒的平均一次粒径
D1
优选为
30
～
70nm。
在第二硬涂层包含无机微粒的情况下，第二硬涂层的无机微粒的平均一次粒径
D2
优选小于
D1。D2
可以为
5nm
以上且小于
30nm。
[0022]第一硬涂层的无机微粒的重量浓度可以大于前表面硬涂层整体的无机微粒的重量浓度
。
第一硬涂层的无机微粒的重量浓度可以是
20
重量～
80
重量％
。
第二硬涂层的无机微粒的重量浓度也可以比第一硬涂层的无机微粒的重量浓度小
。
第二硬涂层也可以不含微粒
。
[0023]第一硬涂层的厚度可以是1～
15
μ
m。
第二硬涂层的厚度可以是5～
30
μ
m。
第一硬涂层的厚度也可以是前表面硬涂层整体的厚度的
50
％以下
。
第一硬涂层的厚度也可以比第二硬涂层的厚度小
。
[0024]专利技术的效果
[0025]前表面硬涂层的厚度为7μ
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种光学层叠体，其在具有第一主面和第二主面的薄膜基材的第一主面上依次具备前表面硬涂层
、
和与前表面硬涂层接触设置的无机薄膜，所述前表面硬涂层为包含与所述无机薄膜接触的第一硬涂层
、
和配置于比所述第一硬涂层更靠近所述薄膜基材侧的第二硬涂层的2层以上的层叠构成，所述第一硬涂层包含无机微粒，所述第一硬涂层的无机微粒的平均一次粒径
D1
为
30
～
70nm
，所述前表面硬涂层整体中所含的无机微粒的平均一次粒径
D
小于
D1。2.
一种光学层叠体，其在具有第一主面和第二主面的薄膜基材的第一主面上依次具备前表面硬涂层
、
和与前表面硬涂层接触设置的无机薄膜，所述前表面硬涂层为包含与所述无机薄膜接触的第一硬涂层
、
和配置于比所述第一硬涂层更靠近所述薄膜基材侧的第二硬涂层的2层以上的层叠构成，所述第一硬涂层包含无机微粒，所述第一硬涂层的无机微粒的平均一次粒径
D1
为
30
～
70nm
，所述第一硬涂层的无机微粒的重量浓度大于所述前表面硬涂层整体的无机微粒的重量浓度
。3.
根据权利要求2所述的光学层叠体，其中，所述第二硬涂层不包含微粒
。4.
根据权利要求1或2所述的光学层叠体，其中，所述第二硬涂层包含无机微粒，所述第二硬涂层的无机微粒的平均一次粒径
D2
小于
D1。5.
根据权利要求4所述的光学层叠体，其中，
D2
为
5nm
以上且小于
30nm。6.
根据权利要求1～5中任一项所述的光学层叠体，其中，所述第一硬涂层的无机微粒的重量浓度为
20
～
80
重量％
。7.
根据权利要求1～6中任一项所述的光学层叠体，其中，所述第一硬涂层的厚度为1～
15
μ
m。8.
根据权利要求1～7中任一项所述的光学层叠体，其中，所述第二硬涂层的厚度为5～
30
μ
m。9.
根据权利要求1～8中任一项所述的光学层叠体，其中，所述第一硬涂层的厚度为前表面硬涂层整体的厚度的
50
％以下
。10.
根据权利要求1～9中任一项所述的光学层叠体，其中，所述第一硬涂层的厚度小于所述第二硬涂层的厚度
。11.
根据权利要求1～
10
中任一项所述的光学层叠体，其中，所述前表面硬涂层由所述第一硬涂层和所述第二硬涂层这2层形成
。12.
一种光学层叠体，其在具有第一主面和第二主面的薄膜基材的第一主面上依次具备前表面硬涂层
、
和与前表面硬涂层接触设置的无机薄膜，所述前表面硬涂层包含无机微粒，所述前表面硬涂层的从与所述无机薄膜的界面起在...

【专利技术属性】
技术研发人员：高见佳史，上田惠梨，远藤宽也，横井辽太郎，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：