一种新型制造技术

技术编号:39645369 阅读:5 留言:0更新日期:2023-12-09 11:13
本发明专利技术公开了一种新型

【技术实现步骤摘要】
一种新型CT探测器X射线抗散射滤线栅


[0001]本专利技术涉及一种
X
射线医学影像探测器的零部件,具体是一种新型
CT
探测器
X
射线抗散射滤线栅


技术介绍

[0002]临床应用中,对于后准直器
(
安装于探测器上方
)
的设计,一直有更高的图像分辨率

更高的
X
射线利用效率这一对矛盾需求

[0003]图像的空间分辨率越高,需要
X
射线抗散射栅格尺寸越小,抗散射能力也就越强,但
X
射线利用率越低;反之,抗散射栅格尺寸越大,
X
射线利用率就越高,但抗散射能力就越弱,散射
X
射线会降低图像的分辨率

[0004]所以更为合理结构和尺寸的
X
射线抗散射栅格用于改善
X
散射线对探测器空间分辨率成像质量的影响,同时兼顾
X
射线利用效率尤为重要

[0005]X
射线影像系统中,抗散射滤线栅是一种去除散射对空间分辨率影响的装置,通常安装于探测器表面,其横截面如附图3所示

[0006]抗散射滤线栅
10
通常由高
X
射线衰减材料,如钨

钼等高原子序数金属制成,其具有栅格结构,栅格中间为空或者低密度材料填充;栅格间距通常与探测器的一行或一列像素间距相同,或具有二维阵列结构,其行

列间距与探测器行

列像素间距相同;栅格具有一定深宽比,同时栅格壁厚会阻挡一部分非散射的
X
射线到达探测器
21
,从而降低了
X
射线的利用率

[0007]随着
CT
的发展,探测器宽度也逐渐变大,对抗散射滤线栅格除了对
X
向要求,
Z
向随之提高了要求,
Z
向也增加了抗散射线的遮挡的需求

工业
3D
打印技术逐步成熟,传统
1D
结构栅格逐步被
2D
结构取代,
2D
结构中通常每个栅格对准于探测器一个像素

随着探测器空间分辨率的不断提高,高端探测器的像素尺寸逐步缩小,抗散射滤线栅格壁厚对
X
射线利用效率产生影响

在小像素探测器的应用中,如抗散射滤线栅格间距还按照探测器像素等间距制作,
X
射线利用效率就会极大减小,致使图像信噪比不佳,附图4为关于
X
射线效率与像素间距的一组示例,可以看到对于
0.1mm
格壁厚度,
1mm*1mm
像素探测器
X
射线效率为
81
%,而
0.4mm*0.4mm
像探测器
X
射线效率仅为
56.25



技术实现思路

[0008]本专利技术为了解决上述现有技术中存在的缺陷和不足,提供了一种适用于医用
X
射线探测器,尤其是
CT
探测器的抗散射滤线栅结构,该结构适用于小像素探测器,在实现抗
X
射线散射同时兼顾
X
射线利用效率,从而改善散射对小像素探测器空间分辨率的影响的新型
CT
探测器
X
射线抗散射滤线栅

[0009]本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种新型
CT
探测器
X
射线抗散射滤线栅,该抗散射滤线栅的一个栅格单元对应探测器的
N
个像素,该
N
个像素呈
I
型栅格单元排列,通过两个
I
型栅格单元沿
X
向错一个或两个像素位排布,通过
I
型栅格单元的复制与延
展,得到二维阵列结构

[0010]优选地,在
X
向上
I
型栅格单元是按照探测器像素间距排布,两相邻
I
型栅格单元沿
Z
向相差一个或两个像素位,使得探测器在
X
向上有较高分辨率,同时还具备较高的抗散射能力;在
Z
向上提高了
X
射线的利用率,同时也提高了抗散射的能力

[0011]优选地,该抗散射滤线栅中
I
形栅格单元呈方形阵列排布,每个
I
型栅格单元对应三至五个像素

[0012]优选地,该抗散射滤线栅由
3D
金属打印工艺制作,格壁厚
0.1mm
,高度为
20

25mm
,其
X
射线效率不低于
68.75


[0013]优选地,该抗散射滤线栅中
I
形栅格单元大小由像素的大小和个数决定,在
X
向上的列数和在
Z
向上的排数由探测器模块大小决定

[0014]优选地,该抗散射滤线栅中
I
形栅格单元的数量为
50
个,每个
I
形栅格单元的长度为
1.2mm
,宽度为
0.4mm。
[0015]本专利技术适用于医用
X
射线探测器,尤其是小像素
CT
探测器,在实现抗
X
射线散射同时兼顾
X
射线利用效率,从而改善散射对小像素探测器空间分辨率的影响

附图说明
[0016]图1为本专利技术实施例1的结构示意图;
[0017]图2为本专利技术实施例2中抗散射滤线栅与探测器像素位置关系示意图;
[0018]图3为本专利技术
技术介绍
中抗散射滤线栅结构示意图;
[0019]图4为本专利技术
技术介绍
中抗散射栅格
X
射线效率对照示意图

具体实施方式
[0020]下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚

完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例

基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本专利技术保护的范围

[0021]实施例1[0022]本实施例的一种新型
CT
探测器
X
射线抗散射滤线栅,如附图1所示,该抗散射滤线栅格的一个栅格对应探测器三本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种新型
CT
探测器
X
射线抗散射滤线栅,其特征在于:该抗散射滤线栅的一个栅格单元对应探测器的
N
个像素,该
N
个像素呈
I
型栅格单元排列,通过两个
I
型栅格单元沿
X
向错一个或两个像素位排布,通过
I
型栅格单元的复制与延展,得到二维阵列结构
。2.
根据权利要求1所述的一种新型
CT
探测器
X
射线抗散射滤线栅,其特征在于:在
X
向上
I
型栅格单元是按照探测器像素间距排布,两相邻
I
型栅格单元沿
Z
向相差一个或两个像素位,使得探测器在
X
向上有较高分辨率,同时还具备较高的抗散射能力;在
Z
向上提高了
X
射线的利用率,同时也提高了抗散射的能力
。3.
根据权利要求1所述的一种新型
CT
探测器
X
射线抗散射滤线栅,其特征在于:该抗散射滤线栅中
I
形栅格单元呈方形阵列排布,...

【专利技术属性】
技术研发人员:李万锋王鑫邢占峰于淼赵伟强高娜徐昊
申请(专利权)人:北京富通康影科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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