一种表面处理粉体及含有该粉体的化妆品原料制造技术

本发明专利技术提供了一种表面处理粉体及含有该粉体的化妆品原料，所述表面处理粉体由含有式

【技术实现步骤摘要】
一种表面处理粉体及含有该粉体的化妆品原料


[0001]本专利技术涉及化妆品原料领域，尤其涉及一种表面处理粉体及含有该粉体的化妆品原料
。

技术介绍

[0002]用于制备化妆品的粉体作为一种由粒径更小的粒子组成的集合体，粒子的粒径影响着粉体在使用过程中发挥的功效，而粉体的一次粒径从纳米级至约几百微米不等，根据该粉体的化学组成和其中粒子的粒径范围来设定
。
例如，为了提高使用感受或阻挡紫外线的效果，将氧化钛粉体的一次粒径设定为几何光学范围的几纳米；为了突出遮盖力或着色力而将粉体的一次粒径设定为可见光线的半波长附近，即米氏散射范围；为了发挥紫外线遮蔽能力，将粉体的一次粒径设定为比可见光线的波长小很多的瑞利散射范围
。
[0003]粉体粒子越在接近所设定的一次粒径的状态下分散，越能够最大限度地发挥粉体所具备的性能，即，化妆品所要求的遮盖力
、
着色力
、
紫外线散射效果
、
透明度
、
对皮肤的触感等
。
但是，粉体的一次粒径越小，比表面积越大，由于粒子间的接触点增加，粒子就会出现易凝聚的现象，使得体系的分散性变差
。
作为竭力避免这种凝集且随时间经过也不会再凝集的方法，本领域的相关技术人员提出了多种表面处理技术
。
[0004]公开号为
JP1996104606A
的日本专利提出了将作为表面处理剂的硅油
(
例如，甲基聚硅氧烷
、r/>甲基氢化二烯聚硅氧烷或烷基部分的碳数在
10
以下的烷基硅烷
)
溶于溶剂中，加入待处理粉体进行混合，干燥后对其加热烧结的一种表面处理方法
。
公开号为
JP1997268271A
的日本专利提出将甲基氢化二烯聚硅氧烷等硅酮化合物分散于水中乳化后，加入待处理粉体，使硅酮化合物被覆粉体粒子表面的一种表面处理方法；公开号为
JP1994059397B2
的日本专利提出将金属皂及氢基等反应性基团结合于硅原子的有机硅化合物与粉体混合后，通过喷出气流的粉碎机进行表面处理的同时进行粉碎以实施处理的喷射法
。
公开号为
JP2002080748A
的日本专利中，为提高粉体的分散性，在粉体粒子表面的至少一部分形成作为固体层的
A
层
(
反应性有机聚硅氧烷
、
烷基硅烷
、
聚烯烃
、
氢化卵磷脂及其盐
、N
‑
酰基氨基酸及其盐
、
脂肪酸及其盐
)
，并进一步包覆作为表面处理剂层的
B
层
(
含有选自单末端官能团改性的有机聚硅氧烷
、
烷基硅烷
、
全氟烷基硅烷和支链脂肪酸及其盐类
)。
[0005]然而，粉体的分散状态根据亲油化表面处理剂的种类
、
处理量及其组合而有所不同
。
表面处理剂具有的活性官能团与粉体基材反应会引起缩聚，或者常温下呈固态的化合物的处理，都会诱发粉体粒子的聚集化
。
例如，目前作为化妆品粉体表面处理剂使用的甲基氢化二烯聚硅氧烷在无机粉体粒子表面的羟基或水的存在下会水解而树脂化，从而包裹在粒子表面，导致粒子无法具有易分散性
。
此外，脂肪酸处理粉体时一般采用碳数在
14
以上的直链脂肪酸，这些化合物在常温下为固态，所以一般在其熔点以上的条件下进行处理，或是皂化后溶于含待处理粉体的水浆料中使其多元金属盐化来进行处理，而这类处理手段也是处理粉体易发生凝聚
、
分散性不佳的现象
。
况且，经过上述表面处理剂处理的粉体，在皮肤亲和性，即贴肤性和使用触感等方面无法令人满意
。

技术实现思路

[0006]针对上述现有技术存在的一些问题，本专利技术提供一种既可以是粉末也可以是液体的混合表面处理体系，对待处理粉体进行表面处理
。
另外，本专利技术还提供一种含有该表面处理粉体的化妆品原料
。
[0007]本专利技术所述表面处理粉体，用含有具有式
I
结构的聚硅氧烷化合物的表面处理剂进行了表面处理，
[0008][0009]式
I
中，
R1、R2、R3各自独立地为氢原子
、
羟基
、
烷基
、
烷氧基，
A
为
‑
R'
‑
NH2或
‑
R'
‑
NH
‑
R
”‑
NH2(R'
和
R”各自独立地为
C1
～6的亚烷基
)
，
X
和
Y
为任意比例，且
Y
不为
0。
[0010]在本专利技术的一些实施方式中，式
I
中的
R1、R2、R3为烷基时，所含碳原子数为1‑
15
，可以为直链也可以为具有支链结构的同分异构体；不过在试验过程中，专利技术人发现，
R1、R2、R3作为端基，其链长的空间位阻效应会影响到聚硅氧烷分子与待处理粉体表面之间的作用力强弱，考虑到表面处理的高效性以及表面处理剂在待处理粉体表面的衔接牢固性，优选的，
R1、R2、R3各自独立地表示含碳原子数为1‑5的烷基
。
[0011]在本专利技术的一些实施方式中，式
I
中的
R1、R2、R3各自独立地表示环戊基和
/
或环己基
。
因为相较于脂肪碳链，脂肪环烷基具有更好的稳定性和润滑性，且在本专利技术中，不会明显地增加表面处理的难度，所以从提高所述聚硅氧烷化合物对粉体表面处理的均匀性以及经过表面处理的粉体表面的光滑性考虑，
R1、R2、R3的结构更优选为环烷基，具体的，为环戊烷和环己烷中的至少一种
。
[0012]在本专利技术的一些实施方式中，当式
I
中的
R1、R2、R3为烷氧基时，所含碳原子数为1‑
4。
[0013]所述具有式
I
结构的聚硅氧烷化合物具有赋予表面处理粉体以良好的易分散能力的功能：两端的取代基作为活泼氢原子
、
羟基
、
烷基
、
烷氧基中的一种或多种时，因为这些基团的极性，使得分子间具有色散力
、
诱导力和取向力，从而在体系中，与粉末表面
、
分子与分子之间形成适宜的相互连接网络
。
一方面，能够在粉末表面形成牢固的处理层，以防在额外的加工或储存过程中不被破坏掉，从而保持持本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种表面处理粉体，其特征在于，用含有具有式
I
结构的聚硅氧烷化合物的表面处理剂进行表面处理，；式
I
中，
R1、R2、R3各自独立地为氢原子
、
羟基
、
烷基
、
烷氧基，
A
为
‑
R'
‑
NH2或
‑
R'
‑
NH
‑
R''
‑
NH2，且
R'
和
R''
各自独立地为
C1~6
的亚烷基，
X
为
15
‑
60
，
Y
为1‑
10。2.
根据权利要求1所述表面处理粉体，其特征在于，
R1、R2、R3各自独立地表示含1‑5个碳原子数的烷基
。3.
根...

【专利技术属性】
技术研发人员：白志伟，
申请(专利权)人：不二精细化工上海有限公司，
类型：发明
国别省市：