阵列基板和显示面板制造技术

本发明专利技术公开了一种阵列基板和显示面板，其中，阵列基板包括：衬底，第一信号线，平坦化层，第一电极和第一无机层，第一电极通过贯穿平坦化层的第一通孔与第一信号线电连接；第一无机层包括第一凹陷部，第一凹陷部由第一无机层远离衬底的一侧表面向第一通孔一侧凹陷；第一支撑柱，位于第一无机层远离平坦化层一侧表面，第一支撑柱在衬底所在平面的正投影与第一凹陷部在衬底所在平面的正投影至少部分交叠

【技术实现步骤摘要】
阵列基板和显示面板


[0001]本专利技术涉及显示
，更具体地，涉及一种阵列基板和显示面板
。

技术介绍

[0002]液晶显示面板是目前市场上应用较为广泛的显示面板，液晶显示面板一般包括阵列基板
、
彩膜基板以及填充在阵列基板和彩膜基板之间的液晶
。
在液晶显示面板的制作过程中，会对阵列基板进行配向液涂布，配向液经烘烤后形成配向膜，用于给液晶分子提供一个预倾角，使液晶分子的偏转方向一致
。
在对阵列基板涂布配向液时，配向液的分布不均会影响液晶分子偏转不一致，进而导致显示不均
。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，本专利技术提供了一种阵列基板和显示面板，用以改善配向液分布不均导致的显示不均问题
。
[0004]第一方面，本申请提供一种阵列基板，包括：
[0005]衬底；
[0006]第一信号线，位于所述衬底所在平面的一侧；
[0007]平坦化层，位于所述第一信号线远离所述衬底一侧；
[0008]第一电极，位于所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底；第一信号线，位于所述衬底所在平面的一侧；平坦化层，位于所述第一信号线远离所述衬底一侧；第一电极，位于所述平坦化层远离所述衬底一侧，所述第一电极通过沿所述阵列基板的厚度方向贯穿所述平坦化层的第一通孔与所述第一信号线电连接；第一无机层，位于所述第一电极远离所述平坦化层一侧，所述第一无机层包括第一凹陷部，所述第一凹陷部由所述第一无机层远离所述衬底的一侧表面向所述第一通孔一侧凹陷；第一支撑柱，位于所述第一无机层远离所述平坦化层一侧表面，所述第一支撑柱在所述衬底所在平面的正投影与所述第一凹陷部在所述衬底所在平面的正投影至少部分交叠
。2.
根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，包括阵列排布的多个子像素电极；还包括第二支撑柱，相邻设置的所述子像素电极之间包括所述第一支撑柱
、
或所述第二支撑柱
。3.
根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第一支撑柱在所述衬底所在平面的正投影面积大于等于所述第二支撑柱在所述衬底所在平面的正投影面积
。4.
根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述第一支撑柱包括沿第一方向上相接的第一子部和第二子部，所述第一子部包括沿第二方向上相接的第一子甲部和第一子乙部；沿所述第二方向排布的一行所述第一支撑柱和第二支撑柱中，沿所述第二方向上，所述第一子部和所述第二支撑柱至少部分交叠，所述第二子部和所述第二支撑柱不交叠；其中，所述第一方向为所述第一信号线的延伸方向，且所述第一方向与所述第二方向垂直，所述第一方向和所述第二方向平行于所述阵列基板所在平面
。5.
根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述子像素电极包括沿所述第一方向上相接的第三子部和第四子部，沿所述第二方向，所述第三子部的尺寸大于所述第四子部的尺寸，沿所述第二方向，所述第一支撑柱位于所述第四子部一侧；所述第一凹陷部包括远离所述衬底一侧的第一伪面；沿所述第二方向排布的一行所述第一支撑柱和第二支撑柱中，沿所述阵列基板的厚度方向上，所述第一子乙部在所述衬底所在平面的正投影和所述第二支撑柱在所述衬底所在平面的正投影的面积相同且形状相同；沿所述第一方向，所述第一子乙部朝向对应设置的所述第三子部一侧的边缘
、
与所述第一伪面朝向对应设置的所述第三子部一侧的边缘之间的间距为
b
；沿所述第二方向，所述第一子乙部朝向对应设置的所述第四子部一侧的边缘
、
与所述第一伪面朝向对应设置的所述第四子部一侧的边缘之间的间距为
c。6.
根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述第二支撑柱沿所述第一方向上的尺寸为
y
，沿所述第二方向上的尺寸为
x
；
所述第一支撑柱沿所述第一方向上的尺寸为
y+b
；所述第一支撑柱沿所述第二方向上的尺寸为
x+c。7.
根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述第一伪面沿所述第二方向上的尺寸为
d
；所述第二支撑柱沿所述第二方向上的尺寸为
x
；所述第二子部沿所述第一方向上的尺寸为
b
，所述第二子部沿所述第二方向上的尺寸为
d
，且所述第二子部和所述第一子部沿所述第二方向上靠近所述第四子部一侧的边缘共线；所述第一子部沿所述第二方向上的尺寸为
x+c。8.
根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，沿第一方向和第二方向，所述第一支撑柱和所述第二支撑柱在所述衬底所在平面的正投影的尺寸相等，沿所述阵列基板的厚度方向，所述第一凹陷部在所述衬底所在平面的正投影位于所述第一支撑柱在所述衬底所在平面的正投影内；其中，所述第一方向为所述第一信号线的延伸方向，且所述第一方向与所述第二方向垂直，所述第一方向和所述第二方向平行于所述阵列基板所在平面
...

【专利技术属性】
技术研发人员：周莉梅，陈宝玲，凌安恺，沈柏平，
申请(专利权)人：厦门天马微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：