用于制造技术

在实施例的用于

【技术实现步骤摘要】
用于OLED像素蒸镀的金属板材料的蒸镀用掩模
[0001]本申请是国际申请日为
2019
年
07
月
11
日
、
国际申请号为
PCT/KR2019/008596、
进入中国国家阶段日期为
2021
年
01
月
12
日
、
国家申请号为
201980046745.2、
专利技术名称为“用于
OLED
像素蒸镀的金属板材料的蒸镀用掩模”的专利技术专利申请的分案申请
。


[0002]实施例涉及一种用于
OLED
像素蒸镀的金属板材料的蒸镀用掩模
。
具体地，实施例涉及能够在
OLED
像素蒸镀时提高蒸镀效率的蒸镀用掩模及其制造方法
。

技术介绍

[0003]显示装置正被应用于多种设备
。
例如，显示装置不仅应用于诸如智能手机
、
平板电脑等小型设备，还应用于诸如电视
、
监视器
、
公共显示器
(Public Display)
等大型设备
。
尤其是，最近对于
500PPI(
每英寸像素：
Pixel Per Inch)
以上的超高清晰度
UHD(Ultra High Definition)
的需求正在增加，并且高清晰度显示装置正应用于小型设备以及大型设备
。
因此，对于用于实现低电力及高清晰度的技术的关注度也在提高
。
[0004]通常使用的显示装置按照驱动方法可以粗分为
LCD(
液晶显示器：
Liquid Crystal Display)
以及
OLED(
有机发光二极管：
Organic Light Emitting Diode)
等
。
[0005]作为一种利用液晶
(Liquid Crystal)
驱动的显示装置，
LCD
是具有在所述液晶的下部配置有包括
CCFL(
冷阴极荧光灯：
Cold Cathode Fluorescent Lamp)
或
LED(
发光二极管：
Light Emitting Diode)
等光源的结构且以利用配置于所述光源上的所述液晶来调节从所述光源发出的光的量的方式驱动的显示装置
。
[0006]另外，作为一种利用有机物驱动的显示装置，
OLED
无需单独的光源，有机物自身能够起到光源的作用，从而以低电力驱动
。
另外，
OLED
能够表现无限的对比度，并具有比
LCD
快约
1000
倍以上的响应速度，而且可视角优秀，因此，作为能够替代
LCD
的显示装置而备受瞩目
。
[0007]尤其是，在
OLED
中，发光层所包含的所述有机物能够通过被称作精细金属掩模
(FMM
，
Fine Metal Mask)
的蒸镀用掩模蒸镀于基板上，并且蒸镀的所述有机物能够形成为与形成于所述蒸镀用掩模上的图案对应的图案，以起到像素的作用
。
[0008]具体地，所述蒸镀用掩模通常利用金属板形成
。
所述蒸镀用掩模可以通过在所述金属板上形成与所述像素的图案位置对应的通孔的方式制造
。
此时，所述通孔可以包括通过氯化铁湿式蚀刻工艺在所述金属板上彼此连通的第一表面孔和第二表面孔
。
[0009]此时，包括所述第一表面孔和第二表面孔的通孔的内壁具有预定水平以上的均方根表面粗糙度
(RMS)。
即，所述通孔的内壁具有
150
～
200nm
范围的均方根表面粗糙度
(RMS)。
其中，比起所述金属板具备的物性，更由形成所述通孔时所使用的蚀刻液来决定所述通孔内壁的均方根表面粗糙度
。
通常，在所述通孔的湿式蚀刻工艺中，使用氯化铁作为蚀刻液
。
并且，利用所述氯化铁形成的所述通孔的内壁由于所述氯化铁具备的物性而具有
150
～
200nm
范围的均方根表面粗糙度
。
此时，所述蒸镀用掩模的耐久性与所述通孔内壁的均方根
表面粗糙度密切相关
。
即，当所述通孔内壁的均方根表面粗糙度增加时，在对蒸镀源实施清洗工艺时会发生困难
。
换言之，随着所述均方根表面粗糙度增加，与所述蒸镀源的结合力也会增加
。
因此，存在的问题在于，在进行所述清洗工艺时，粘附在所述通孔内壁上的蒸镀器件无法被完全的去除，而是部分残留
。
[0010]因此，最近，通过变更蚀刻工艺条件或蚀刻液条件等来调节所述蒸镀用掩模的表面或所述通孔内壁的表面粗糙度
。
然而，上述的仅通过改变蚀刻工艺条件或蚀刻液条件来改善所述通孔内壁的表面粗糙度是有局限性的
。
另外，随着所述蚀刻工艺条件或蚀刻液条件改变，通孔的尺寸也会改变，这会导致通孔的均匀度或精度减小
。
[0011]因此，需要能够保持通孔的均匀度或精度并改善所述通孔的内壁的均方根表面粗糙度的蒸镀用掩模及其制造方法
。

技术实现思路

[0012]技术问题
[0013]实施例旨在提供一种蒸镀用掩模及其制造方法，其能够控制通孔的内壁的均方根表面粗糙度来提高蒸镀效率
。
[0014]另外，实施例旨在提供一种蒸镀用掩模及其制造方法，其能够在蒸镀源的蒸镀之后进行的清洗工艺中改善对蒸镀源的清洗性
。
[0015]另外，实施例旨在提供一种蒸镀用掩模及其制造方法，其能够在湿式蚀刻工艺之后进一步进行电解研磨工艺以改善通孔内壁的均方根表面粗糙度
。
[0016]另外，实施例旨在提供一种蒸镀用掩模及其制造方法，其能够增强通孔内部的耐腐蚀性以增强品质和耐久性
。
[0017]另外，实施例旨在提供一种蒸镀用掩模及其制造方法，其能够改善金属板的表面粗糙度以提高金属板与光刻胶的紧贴力
。
[0018]另外，实施例旨在提供一种蒸镀用掩模及其制造方法，其能够改善金属板的表面粗糙度以提高形成于金属板的通孔的均匀度
。
[0019]另外，实施例旨在提供一种蒸镀用掩模及其制造方法，其能够基于小孔径需要具备的特性和大孔径需要具备的特性，使金属板的第一表面和第二表面具有彼此不同的表面粗糙度，以提高与光刻胶的紧贴力和通孔的均匀度
。
[0020]另外，实施例旨在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种蒸镀用掩模，为用于
OLED
像素蒸镀的金属材料的蒸镀用掩模，其特征在于，所述蒸镀用掩模包括蒸镀区域和除所述蒸镀区域以外的非蒸镀区域，所述蒸镀区域包括沿长度方向隔开并形成有多个通孔的多个有效部和除所述有效部以外的非有效部，所述有效部的通孔包括：小表面孔，形成于一表面上；大表面孔，形成于与所述一表面相反的另一表面上；以及连通部，连接所述小表面孔与所述大表面孔的分界，所述金属材料的一表面或另一表面的均方根表面粗糙度不同于所述小表面孔的内侧表面的均方根表面粗糙度或所述大表面孔的内侧表面的均方根表面粗糙度
。2.
根据权利要求1所述的蒸镀用掩模，其特征在于，所述小表面孔的内侧表面的均方根表面粗糙度不同于所述一表面的均方根表面粗糙度，所述大表面孔的内侧表面的均方根表面粗糙度不同于所述另一表面的均方根表面粗糙度
。3.
根据权利要求1所述的蒸镀用掩模，其特征在于，所述金属材料的一表面的均方根表面粗糙度大于所述小表面孔的内侧表面的均方根表面粗糙度
。4.
根据权利要求1所述的蒸镀用掩模，其特征在于，所述金属材料的另一表面的均方根表面粗糙度大于所述大表面孔的内侧表面的均方根表面粗糙度
。5.
根据权利要求1所述的蒸镀用掩模，其特征在于，所述金属材料的一表面或另一表面的均方根表面粗糙度大于所述小表面孔的内侧表面的均方根表面粗糙度以及所述大表面孔的内侧表面的均方根表面粗糙度
。6.
根据权利要求5所述的蒸镀用掩模，其特征在于，所述大表面孔的内侧表面的均方根表面粗糙度大于等于所述小表面孔的内侧表面的均方根表面粗糙度
。7.
根据权利要求6所述的蒸镀用掩模，其特征在于，所述大表面孔的内侧表面的均方根表面粗糙度大于所述小表面孔的内侧表面的均方根表面粗糙度
。8.
根据权利要求1所述的蒸镀用掩模，其特征在于，所述小表面孔和所述大表面孔中至少一个的内侧表面的均方根表面粗糙度满足
50nm
～
100nm
之间的范围
。9.
根据权利要求1所述的蒸镀用掩模，其特征在于，所述小表面孔在第一方向上的第一直径大于所述连通部在所述第一方向上的第二直径，所述第一直径处于所述第二直径的
1.05
倍～
1.1
倍范围之内
。10.
根据权利要求1所述的蒸镀用掩模，其特征在于，所述一表面与所述连通部之间的所述小表面孔的内侧表面形成有第一拐点，所述小表面孔的内侧表面包括：
第一子第一内侧表面，形成于所述一表面与所述第一拐点之间；以及第二子第一内侧表面，形成于所述第一拐...

【专利技术属性】
技术研发人员：张祐荣，白智钦，姜地勋，郭正敏，
申请(专利权)人：LG，
类型：发明
国别省市：