一种晶圆真空过滤系统技术方案

本实用新型专利技术实施例公开了一种晶圆真空过滤系统，其通过气动三联件接收来自压缩空气源的压缩空气，经压力调整后送入到真空发生器，通过真空发生器产生真空状态或破真空状态，从而实现吸附组件对晶圆的吸附或者释放。而在吸附晶圆的过程中，真空发生器产生真空状态，电磁阀处于闭合状态，过滤器对晶圆上的杂质进行过滤并沉淀至杂质缓存腔。在真空发生器产生破真空状态时，释放所吸附的晶圆，同时电磁阀被转换至打开状态，此时杂质缓存腔内的杂质会随着压缩空气的流动，沿排水口流出，从而实现晶圆吸附的不停机作业，提高工作效率。通过真空发生器单独产生真空，真空压力比厂务真空压力大，可靠性和稳定性更高。可靠性和稳定性更高。可靠性和稳定性更高。

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆真空过滤系统


[0001]本技术涉及真空过滤器件领域，尤其涉及一种晶圆真空过滤系统。

技术介绍

[0002]在半导体行业中，通常通过使用晶圆进行集成电路的加工或制造，为了提高集成电路半导体的制造效率，可以对晶圆的制造或传输过程进行优化。
[0003]由于晶圆真空吸附具有稳定、高效、便捷等优点，因此晶圆通常采用真空吸附方式进行传输。而晶圆真空吸附需要面对各种晶圆工作状态，如刚研磨后的晶圆、刚清洗后的晶圆或刚切出来的晶圆等情况，晶圆表面可能存在着水分、杂质等，对真空吸附具有较高的可靠性和过滤要求。
[0004]对此，现阶段通常是通过厂务真空的方式进行晶圆的真空吸附，而由于厂务真空管路设计复杂，且需要间隔性地停机排液和维护过程，工作效率较低。

技术实现思路

[0005]本技术实施例公开了一种晶圆真空过滤系统，解决了现阶段通常是通过厂务真空的方式进行晶圆的真空吸附，而由于厂务真空管路设计复杂，且需要间隔性地停机排液和维护过程，工作效率较低的技术问题。
[0006]本技术实施例提供了一种晶圆真空过滤系统，包括通本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶圆真空过滤系统，其特征在于，包括通过管道依次连接的真空发生器、过滤组件和吸附工具；所述真空发生器，用于响应从压缩空气源输入的压缩空气，产生真空状态或破真空状态；所述过滤组件，用于对所述吸附工具所吸附的杂质进行过滤；所述吸附工具，用于当所述真空发生器产生所述真空状态时，吸附晶圆；当所述真空发生器产生所述破真空状态时，释放晶圆。2.根据权利要求1所述的晶圆真空过滤系统，其特征在于，所述过滤组件包括依次连接的过滤器、杂质缓存腔和电磁阀；所述过滤器的两端分别连接所述吸附工具和所述真空发生器，用于过滤所述吸附工具所吸附的杂质，并将所述杂质沉淀至所述杂质缓存腔；所述电磁阀设置于所述杂质缓存腔的底部，并连接至排水口。3.根据权利要求2所述的晶圆真空过滤系统，其特征在于，当所述真空发生器产生所述真空状态时，所述电磁阀处于常闭状态，用于保持所述真空状态；当所述真空发生器产生所述破真空状态时，所述电磁阀处于常开状态，用于将所述杂质沿所述排水口排出。4.根据权利要求2所述的晶圆真空过滤系统，其特征在于，还包括第一真空表；所述第一真空表设置于所述过滤器与所述吸附工具之间的管道，用于对所述管道内的真空压力进行检测并显示。5.根据权利要求1所述的晶圆真空过滤系统，其特征在于，所述吸附工具为吸盘、真空夹具或手指夹具。6.根据权利要求1所述的晶圆真空过滤系统，其特征在于，所述吸附工具在所述真空状态下的压力范围为
‑
80kPa至
‑
...

【专利技术属性】
技术研发人员：邱文金，吴伟平，汤灿东，
申请(专利权)人：广东长信精密设备有限公司，
类型：新型
国别省市：