【技术实现步骤摘要】
一种匀流装置
[0001]本技术涉及半导体加工设备
,尤其涉及一种匀流装置
。
技术介绍
[0002]在半导体设备进行工艺的过程中,需要向反应腔室通入工艺气体,但是在通入工艺气体时,存在工艺气体在整个反应腔室内的分布不均匀的情况,从而影响了工艺的均匀性,为了避免这种情况,通常会在反应腔室的进气位置设置一个匀流装置,现有的匀流装置包括框架结构和设在框架结构内的匀流板,匀流板长度与硅片长度一致,框架结构包括多个可拆卸连接的支撑板,匀流板的四周均设置有支撑板且前后均设有支撑槽杆
。
这种结构的缺陷在于,匀流板的长度需要与框架结构限定出的空间的长度相同,也就是说,该匀流装置不能兼容多种长度的匀流板,且由于匀流板的顶壁和底壁均插入在支撑板的卡槽,相对设置的两个侧壁插入到支撑槽杆内,当匀流板三个侧边都插入到卡槽中,与第四个侧边的支撑板或者支撑槽杆需要一次性把所有的匀流板卡进去,耗费时间长,操作难度较大,且当一个匀流板出现损坏时,需要将顶部的支撑板拆除,然后抽出匀流板,操作较为复杂,且在拆卸支撑板的同时还有可能造成其他匀流板损坏
。
技术实现思路
[0003]本技术的目的在于提出一种匀流装置,该匀流装置能够兼容多种长度的匀流板,且安装和拆卸匀流板的操作非常便捷
。
[0004]为实现上述技术效果,本技术的技术方案如下:
[0005]本技术公开了一种匀流装置,包括:匀流框架,所述匀流框架包括底板和连接在底板两端的支撑板;支撑杆,所述支撑杆的两端可拆卸地连接于两 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种匀流装置,其特征在于,包括:匀流框架
(100)
,所述匀流框架
(100)
包括底板
(110)
和连接在所述底板
(110)
上两端的支撑板
(120)
;支撑杆
(200)
,所述支撑杆
(200)
的两端可拆卸地连接于两个所述支撑板
(120)
,所述底板
(110)
和所述支撑杆
(200)
中的至少一个上设有多个间隔设置的限位槽
(400)
;匀流板
(300)
,所述匀流板
(300)
插接于所述限位槽
(400)。2.
根据权利要求1所述的匀流装置,其特征在于,所述支撑板
(120)
设有安装槽
(121)
,所述安装槽
(121)
的一端敞开设置形成安装开口
(122)
,所述支撑杆
(200)
能够从所述安装开口
(122)
卡入所述安装槽
(121)
内
。3.
根据权利要求2所述的匀流装置,其特征在于,所述支撑杆
(200)
具有止抵平面
(201)
,所述止抵平面
(201)
止抵于所述安装槽
(121)
的底壁和
/
或顶壁上
。4.
根据权利要求2所述的匀流装置,其特征在于,所述安装开口
(122)
形成为宽度逐渐变小的渐缩口,且所述安装开口
(122)
的内壁形成有用于导向所述支撑杆
(200)
的导向弧面<...
【专利技术属性】
技术研发人员:庞爱锁,林佳继,刘群,
申请(专利权)人:拉普拉斯新能源科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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