一种石墨舟干法清洗装置及清洗方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种石墨舟干法清洗装置及清洗方法，装置包括：清洗腔室

【技术实现步骤摘要】
一种石墨舟干法清洗装置及清洗方法


[0001]本专利技术属于半导体设备
，具体涉及一种石墨舟干法清洗装置及清洗方法
。

技术介绍

[0002]当前，对于非晶硅沉积的石墨舟的清洗主要采用的是湿法槽式清洗，然而传统的湿法槽式清洗需要将整个石墨舟长时间浸泡在酸洗或碱洗溶液中处理，然后进行长时间的漂洗烘干，具有清洗步骤多且复杂，清洗时间长，清洗效率低等缺点
。
此外，清洗完成后需要对酸碱废水进行处理，还需要额外建设洗舟房和配备专门的洗舟人员，洗舟房投资成本大和人员成本高
。
因此，针对上述问题，现在越来越多的人开始关注石墨舟的干法清洗，这种方法具有清洗简单，清洗时间短，尾气处理方便，无需洗舟房和专门的洗舟人员等优点，大大增加了石墨舟的时效性
。
但是，在生产过程中由于每个石墨舟上沉积的薄膜厚度可能存在差异，导致石墨舟清洗的时间会有差异，此时需要有终点检测手段来判定石墨舟是否清洗干净，从而决定清洗工艺是否停止
。
[0003]目前的石墨舟干法清洗设备主要存在以下问题：
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种石墨舟干法清洗装置，其特征在于，包括：清洗腔室
(1)、
炉门
(6)、
放电单元
、
真空单元
、
进气单元
(8)
和光谱测试单元，所述石墨舟
(5)
放置在所述清洗腔室
(1)
内部进行清洗；所述清洗腔室
(1)
的一端设有炉门
(6)
，以便于石墨舟
(5)
进出清洗腔室
(1)
，清洗腔室
(1)
的另一端与真空单元连接，以实现清洗腔室
(1)
内部抽真空；所述清洗腔室
(1)
外侧沿水平方向均布有多组放电单元，用于实现工艺气体在清洗腔室
(1)
内部电离，以清洗石墨舟
(5)
；所述清洗腔室
(1)
底部设有进气单元
(8)
和光谱测试单元，所述进气单元
(8)
用于输送工艺气体至清洗腔室
(1)
内部，所述光谱测试单元采用光谱法对石墨舟
(5)
清洗过程产生的等离子辉光进行监测，并得到石墨舟
(5)
清洗前后的光谱变化，进而根据光谱变化判断石墨舟
(5)
的清洗终点
。2.
根据权利要求1所述的石墨舟干法清洗装置，其特征在于，所述光谱测试单元包括：光学探测组件
、
套筒
(16)、
光谱仪
(17)
和控制器
(18)
；所述套筒
(16)
的一端与清洗腔室
(1)
底部连接，套筒
(16)
的一端与光谱仪
(17)
连接，控制器
(18)
与光谱仪
(17)
连接，所述光学探测组件设置在套筒
(16)
内，用于采集石墨舟
(5)
清洗过程产生的等离子辉光的光谱信号，并传输至光谱仪
(17)
，光谱仪
(17)
对光谱信号进行分离并转换为电信号，控制器
(18)
对光谱仪
(17)
发送的电信号进行数据处理，并得到相应的光谱图，通过监测判定光谱图中特征峰的存在与否来判断是否达到清洗终点
。3.
根据权利要求2所述的石墨舟干法清洗装置，其特征在于，所述光学探测组件包括：光学探头
(13)、
光纤
(14)
和透镜
(15)
，所述光学探头
(13)
与清洗腔室
(1)
底部连接，光学探头
(13)
通过光纤
(14)
与透镜
(15)
连接
。4.
根据权利要求3所述的石墨舟干法清洗装置，其特征在于，所述套筒
(16)
不透光，用于实现光路与外部环境隔离，实现光学探测组件处于黑暗环境
。5.
根据权利要求3所述的石墨舟干法清洗装置，其特征在于，所述清洗腔室
(1)
底部和炉门
(6)
上均设有观察窗
(12)
；所述光学探头
(13)
与清洗腔室
(1)
底部的观察窗
(12)
连接，以探测和收集清洗腔室
(1)
内的工艺气体在等离子体轰击下引发的光
。6.
根据权利要求5所述的石墨舟干法清洗装置，其特征在于，所述观察窗
(12)
包括外层玻璃
(121)
和内层玻璃
(122)
，所述内层玻璃
(122)
的厚度小于外层玻璃
(121)
的厚度，且内层玻璃
(122)
可拆卸
。7.
根据权利要求6所述的石墨舟干法清洗装置，其特征在于，所述观察窗
(12)
还包括固定件
(123)、
螺钉
(124)
和密封圈
(126)
，所述外层玻璃
(121)
和内层玻璃
(122)
与固定件
(1...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄嘉斌，邓新新，赵增超，李明，成秋云，蔡先武，
申请(专利权)人：湖南红太阳光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：