【技术实现步骤摘要】
一种KrF光刻胶树脂及KrF光刻胶的制备工艺
[0001]本申请涉及光刻胶及制备方法,具体涉及一种
KrF
光刻胶树脂及
KrF
光刻胶的制备工艺
。
技术介绍
[0002]光刻胶
(Photoresist)
又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光
、
电子束
、
离子束
、X
射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料
。
一般由树脂
、
增感剂
、
溶剂和添加剂等组成的对光敏感的混合液体
。
其中树脂是是光刻胶中最核心的成分,因此开发出符合光刻胶配方的树脂,是当前光刻胶产品开发的重点
。
聚对羟基苯乙烯类树脂的单体在聚合过程中,副产物较多,影响目标产品的收率
。
此外,如何使光刻胶具有优异的分辨率,提高光刻图形的质量,一直是重点研究的方向
。
技术实现思路
[0003]为了提高光刻胶的质量,本申请提供了一种
KrF
光刻胶树脂
、KrF
光刻胶及制备工艺
。
[0004]第一方面,本申请提供一种
KrF
光刻胶树脂,采用如下技术方案:一种
KrF
光刻胶树脂,包括如下重量份数的原料:对乙酰氧基苯乙烯
75
‑
85
份
、
对叔丁氧基苯乙烯
25
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种
KrF
光刻胶树脂,其特征在于,包括如下重量份数的原料:对乙酰氧基苯乙烯
75
‑
85
份
、
对叔丁氧基苯乙烯
25
‑
29
份
、
苯乙烯
25
‑
28
份
、
甲基丙烯酸叔丁酯
52
‑
56
份
。2.
权利要求1所述的
KrF
光刻胶树脂的制备工艺,其特征在于,包括如下步骤:(1)将单体对乙酰氧基苯乙烯
、
对叔丁氧基苯乙烯
、
苯乙烯
、
甲基丙烯酸叔丁酯在丙二醇单甲醚乙酸酯中高温条件下经引发剂偶氮二异丁腈引发聚合,生成乙酸酯共聚物;(2)乙酸酯共聚物在甲醇水溶液中经三乙胺催化脱保护,生成产品聚合物,再经丙二醇单甲醚乙酸酯稀释,得到
KrF
光刻胶树脂
。3.
根据权利要求2所述的
KrF
光刻胶树脂的制备工艺,其特征在于,步骤(1)中高温条件为
80
‑
82℃。4.
一种
KrF
光刻胶,其特征在于,包括权利要求1所述的
KrF
光刻胶树脂
、
酸扩散抑制剂
、
光致酸产生剂和有机溶剂,重量配比为
KrF
光刻胶树脂
339
‑
...
【专利技术属性】
技术研发人员:潘九高,
申请(专利权)人:常州化工设计院有限公司,
类型:发明
国别省市:
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