发声器件制造技术

本发明专利技术涉及电声转换领域，尤其涉及一种发声器件，包括壳体及发声单体，壳体具有收容空间和导声通道，发声单体收容于收容空间内，发声单体通过导声通道与外界连通，发声单体包括第一盆架

【技术实现步骤摘要】
发声器件


[0001]本专利技术涉及电声转换领域，尤其涉及一种发声器件
。

技术介绍

[0002]发声器件是一种把电信号转变为声信号的换能器件，主要分为单振动系统和双振动系统两种模式，其中，双振动系统模式的发声器件主要包括固定于盆架的用于发出低音的第一振动系统和固定于磁路系统用于发出高音的第二振动系统
。
[0003]相关技术的双振动系统模式的发声器件中，第一振动系统与第二振动系统通过封闭式结构形成的相互隔离的导声通道进行出声，产生高音的第一振动系统往往会使用到更小的导声通道，另一方面，封闭式结构还会使得发声器件的排水性能降低，使得相关技术的发声器件发出的高音频带过窄
、
排水性能不足，导致发声器件在进水环境下的声学性能降低
。
[0004]因此，有必要提供一种新的发声器件来解决上述技术问题
。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种双振动系统模式下声学性能更优的发声器件
。
[0006]为了达到上述目的，本专利技术提供了一种发声器件，所述发声器件包括：具有收容空间的壳体，形成于所述壳体内的导声通道以及收容于所述收容空间内的发声单体，所述壳体由顶盖
、
上盖
、
底盖组合形成；所述发声单体固定于所述壳体并将所述收容空间分隔成前声腔和后腔，所述导声通道将所述前声腔与外界连通，且所述导声通道与所述前声腔共同形成前腔；所述发声单体包括：第一盆架，所述第一盆架支撑固定于所述壳体；第一振动系统，所述第一振动系统包括外周缘固定于所述第一盆架的第一振膜以及驱动所述第一振膜振动发声的第一音圈；磁路系统，所述磁路系统固定于所述第一盆架，所述磁路系统靠近所述第一振动系统的一侧设置有第一磁间隙和第二磁间隙，所述第一磁间隙环绕所述第二磁间隙且相互间隔设置；所述第一音圈插设悬置于所述第一磁间隙内；第二盆架，所述第二盆架固定于所述磁路系统的顶部；第二振动系统，所述第二振动系统包括外周缘固定于所述第二盆架远离所述磁路系统的一侧的第二振膜以及驱动所述第二振膜振动发声的第二音圈，所述第二音圈插设悬置于所述第二磁间隙内；以及，导电嵌件，所述导电嵌件从所述磁路系统的底部贯穿至所述磁路系统的顶部并延伸至所述第二振膜的下方，且与所述第二音圈电连接；所述第二盆架远离所述磁路系统的一端抵接于所述壳体，并将所述前声腔分隔成第一前声腔和第二前声腔，其中，所述壳体的所述上盖
、
所述底盖的侧壁与所述发声单体之间共同围成所述第一前声腔，所述壳体的所述顶盖与所述发声单体共同围成所述第二前声
腔，所述导声通道与所述第一前声腔连通；所述第二盆架沿垂直于所述第二振膜的振动方向设有贯穿其上的第一缺口以及第二缺口，所述第一缺口与所述第二缺口间隔相对，且所述第一缺口的尺寸小于所述第二缺口的尺寸；所述第一缺口和所述第二缺口皆将所述第二前声腔与所述第一前声腔连通
。
[0007]优选的，所述第一缺口位于所述第二盆架靠近所述导声通道的一侧，所述第二缺口位于所述第二盆架远离所述导声通道的一侧
。
[0008]优选的，所述第一缺口和所述第二缺口皆为由所述第二盆架远离所述磁路系统的一端向下凹陷形成，且所述第一缺口的深度小于所述第二缺口的深度，所述第一缺口的宽度小于所述第二缺口的宽度
。
[0009]优选的，所述导电嵌件的远离所述第二振膜的一端穿过所述壳体后至少部分外露于所述壳体
。
[0010]优选的，所述磁路系统包括呈环状的上夹板
、
下夹板
、
主磁钢
、
第一副磁钢
、
极芯以及第二副磁钢，所述上夹板叠设固定于所述第一副磁钢，并与所述第一盆架固定连接；所述主磁钢呈环状且叠设固定于所述下夹板，所述第一副磁钢叠设固定于所述下夹板且环绕所述主磁钢设置，所述主磁钢与所述第一副磁钢间隔形成所述第一磁间隙；所述极芯包括呈环状并叠设固定于所述主磁钢的极芯本体和由所述极芯本体的内周侧向远离所述下夹板方向弯折延伸的呈环状的极芯延伸部，所述极芯延伸部环绕所述导电嵌件；所述第二副磁钢叠设固定于所述极芯本体靠近所述振动系统的一侧，所述第二副磁钢环绕所述极芯延伸部并相互间隔形成所述第二磁间隙
。
[0011]优选的，所述磁路系统还包括叠设固定于所述第二副磁钢靠近所述第一振动系统的一侧的副极芯，所述副极芯呈环状且环绕所述导电嵌件，所述第二盆架与所述副极芯的外周侧连接
。
[0012]优选的，所述第一振动系统还包括第一骨架，所述第一骨架包括呈环状的用于充当所述第一振动部的骨架本体以及由所述骨架本体的外周缘向下弯折延伸的骨架固定部
。
[0013]优选的，所述第一振膜包括呈环状的第一折环
、
间隔设置于所述第一折环的内侧且呈环状的第二折环以及由所述第一折环的内周缘弯折延伸并连接至所述第二折环的外周缘且呈环状的第一振动部，所述第一折环的外周缘固定于所述第一盆架，所述第二折环的内周缘固定于所述第一副磁钢远离所述主磁钢的一侧；所述第一音圈固定于所述第一振动部靠近所述磁路系统的一侧
。
[0014]优选的，所述第二折环的内周缘夹设固定于所述第二盆架与所述主磁钢之间
。
[0015]优选的，所述第二振膜包括第二振动部
、
由所述第二振动部的外周缘向外延伸且呈环状的第三折环以及盖设于所述第二振动部的第二球顶，所述第三折环的外周缘固定于所述第二盆架远离所述第一副磁钢的一侧，所述第二音圈固定于所述第二振动部
。
[0016]与现有技术相比，本专利技术的发声器件，包括：具有收容空间的壳体，形成于所述壳体内的导声通道以及收容于所述收容空间内的发声单体，所述壳体由顶盖
、
上盖
、
底盖组合形成；所述发声单体固定于所述壳体并将所述收容空间分隔成前声腔和后腔，所述导声通道将所述前声腔与外界连通，且所述导声通道与所述前声腔共同形成前腔；所述发声单体包括：第一盆架，所述第一盆架支撑固定于所述壳体；第一振动系统，所述第一振动系统包
括外周缘固定于所述第一盆架的第一振膜以及驱动所述第一振膜振动发声的第一音圈；磁路系统，所述磁路系统固定于所述第一盆架，所述磁路系统靠近所述第一振动系统的一侧设置有第一磁间隙和第二磁间隙，所述第一磁间隙环绕所述第二磁间隙且相互间隔设置；所述第一音圈插设悬置于所述第一磁间隙内；第二盆架，所述第二盆架固定于所述磁路系统的顶部；第二振动系统，所述第二振动系统包括外周缘固定于所述第二盆架远离所述磁路系统的一侧的第二振膜以及驱动所述第二振膜振动发声的第二音圈，所述第二音圈插设悬置于所述第二磁间隙内；以及，导电嵌件，所述导电嵌件从所述磁路系统的底部贯穿至所述磁路系统的顶部并延伸至所述第二振膜的下方，且与所述第二音圈电连接；所述第二盆架远离所述磁路系统的一端抵接于所述壳体，并将所述前声腔分隔成第一前声腔和第二前声腔，其中，所述壳体本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种发声器件，所述发声器件包括：具有收容空间的壳体，形成于所述壳体内的导声通道以及收容于所述收容空间内的发声单体，所述壳体由顶盖
、
上盖
、
底盖组合形成；所述发声单体固定于所述壳体并将所述收容空间分隔成前声腔和后腔，所述导声通道将所述前声腔与外界连通，且所述导声通道与所述前声腔共同形成前腔；所述发声单体包括：第一盆架，所述第一盆架支撑固定于所述壳体；第一振动系统，所述第一振动系统包括外周缘固定于所述第一盆架的第一振膜以及驱动所述第一振膜振动发声的第一音圈；磁路系统，所述磁路系统固定于所述第一盆架，所述磁路系统靠近所述第一振动系统的一侧设置有第一磁间隙和第二磁间隙，所述第一磁间隙环绕所述第二磁间隙且相互间隔设置；所述第一音圈插设悬置于所述第一磁间隙内；第二盆架，所述第二盆架固定于所述磁路系统的顶部；第二振动系统，所述第二振动系统包括外周缘固定于所述第二盆架远离所述磁路系统的一侧的第二振膜以及驱动所述第二振膜振动发声的第二音圈，所述第二音圈插设悬置于所述第二磁间隙内；以及，导电嵌件，所述导电嵌件从所述磁路系统的底部贯穿至所述磁路系统的顶部并延伸至所述第二振膜的下方，且与所述第二音圈电连接；其特征在于，所述第二盆架远离所述磁路系统的一端抵接于所述壳体，并将所述前声腔分隔成第一前声腔和第二前声腔，其中，所述壳体的所述上盖
、
所述底盖的侧壁与所述发声单体之间共同围成所述第一前声腔，所述壳体的所述顶盖与所述发声单体共同围成所述第二前声腔，所述导声通道与所述第一前声腔连通；所述第二盆架沿垂直于所述第二振膜的振动方向设有贯穿其上的第一缺口以及第二缺口，所述第一缺口与所述第二缺口间隔相对，且所述第一缺口的尺寸小于所述第二缺口的尺寸；所述第一缺口和所述第二缺口皆将所述第二前声腔与所述第一前声腔连通；所述第一缺口位于所述第二盆架靠近所述导声通道的一侧，所述第二缺口位于所述第二盆架远离所述导声通道的一侧
。2.
根据权利要求1所述的发声器件，其特征在于，所述第一缺口和所述第二缺口皆为由所述第二盆架远离所述磁路系统的一端向下凹陷形成，且所述第一缺口的深度小于所述第二缺口的深度，所述第一缺口的宽度小于所述第二缺口的宽度
。3.
根据权利要求1所述的发声器件，其特征在于，所述导电嵌件的远离所述第二振膜的一端穿过所述壳体后至少部分外露于所述壳体

【专利技术属性】
技术研发人员：任璋，钟志威，李巧玲，
申请(专利权)人：瑞声光电科技常州有限公司，
类型：发明
国别省市：