一种翻转装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及半导体激光器技术领域，具体涉及一种翻转装置

【技术实现步骤摘要】
一种翻转装置


[0001]本专利技术涉及半导体激光器
，具体涉及一种翻转装置
。

技术介绍

[0002]半导体激光器目前都是在衬底上生长外延片，然后进行图形制备，目前使用的衬底尺寸主要是2～4英寸，并且由于半导体激光器往大规模化生产方向发展，用更大的衬底去制备，从而在一次流片中得到更多的激光器管芯成为趋势，由于外延片都是单晶相排列，外延片在受到外力挤压或者晃动时很容易碎裂，造成生产流片失败
。
[0003]外延片的制备过程包括：完成
P
面电极制备后，需要对外延片进行减薄抛光，减薄抛光后，需要对
N
面进行电极制备，此时需要将外延片从
P
面朝上的状态翻转成
N
面朝上的状态，在完成
N
面合金后，还需要将外延片从
N
面朝上调整为
P
面朝上
。
上述的翻转通常需要操作者采用3～5爪镊子完成，但是在将外延片翻转时，由于操作者在使用镊子时力度不好控制，力度大了容易将外延片夹碎，力度小了外延片在翻转的过程中容易滑落，从而导致流片失败，降低了激光器件的成品率，同步提升了制造成本
。

技术实现思路

[0004]因此，本专利技术要解决的技术问题在于克服现有技术中的外延片在翻转过程中容易被夹碎或脱落，而导致流片失败的缺陷，从而提供一种吸取外延片进行翻转的翻转装置
。
[0005]为了解决上述问题，本专利技术提供了一种翻转装置，包括：
[0006]基座，包括底板及设置在所述底板上的至少两个第一支撑件，所述底板上设有适于放置待翻转件的放置区，所述放置区位于至少两个所述第一支撑件之间；
[0007]翻转结构，包括基板及设置在所述基板上的至少两个第二支撑件，所述第二支撑件适于支撑在所述第一支撑件上，每个所述第二支撑件均匹配一个所述第一支撑件；所述基板上设有翻转面，位于至少两个所述第二支撑件之间，所述翻转面具有朝向所述放置区的第一状态，及背向所述放置区的第二状态；
[0008]吸取结构，包括吸头，所述吸头设置在所述翻转面上，适于吸取所述待翻转件
。
[0009]可选的，所述第一支撑件包括：
[0010]支撑板，一端连接在所述底板上，另一端向上延伸；
[0011]支撑槽，设置在所述支撑板的另一端上；所述第二支撑件适于支撑在所述支撑槽内
。
[0012]可选的，所述支撑槽为槽口朝上的矩形槽，所述第二支撑件为与所述支撑槽匹配的板状结构
。
[0013]可选的，所述第一支撑件具有两个，相对设置在所述放置区的两侧
。
[0014]可选的，还包括缓冲结构，所述吸头通过所述缓冲结构与所述翻转面连接
。
[0015]可选的，所述缓冲结构包括：
[0016]缓冲杆，一端与所述翻转面连接，所述缓冲杆内沿长度方向设有缓冲腔；
[0017]连杆，一端通过所述缓冲杆的另一端可滑动地连接在所述缓冲腔内，另一端与所述吸头连接；
[0018]弹性件，设置在所述缓冲腔内，一端抵接在所述缓冲腔靠近所述翻转面的一端，另一端抵接在所述连杆上
。
[0019]可选的，所述吸头上设有吸孔；所述连杆内设有通孔；所述吸孔
、
所述通孔与所述缓冲腔依次连通；
[0020]所述吸取结构还包括真空泵，所述真空泵的进气口通过软管与所述缓冲腔连通
。
[0021]可选的，所述翻转结构还包括手柄，连接在所述第二支撑件上背离所述基板的一端；
[0022]所述手柄内设有第一流体通道，所述第二支撑件内设有第二流体通道，所述基板内设有第三流体通道，所述第一流体通道
、
所述第二流体通道和所述第三流体通道依次连通，所述第三流体通道与所述缓冲腔连通，所述第一流体通道通过所述软管与所述真空泵的进气口连通
。
[0023]可选的，还包括真空开关，设置在所述第二支撑件上靠近所述手柄的位置处，适于控制所述真空泵的通断；
[0024]和
/
或，数字显示结构，设置在所述第二支撑件上靠近所述手柄的位置处，适于测量并显示所述第二流体通道的气压
。
[0025]可选的，还包括调节结构，与所述软管连接，适于调整所述软管内的气体压力
。
[0026]本专利技术具有以下优点：
[0027]1.
本专利技术提供的翻转装置，包括基座
、
翻转结构和吸取结构，基座包括设有放置区的底板和第一支撑件，翻转结构包括基板和第二支撑件，吸取结构包括吸头；第一支撑件可拉开放置区与吸取结构之间的距离，可与第二支撑件配合将吸头固定支撑在放置区的待翻转件的上方的适当位置，为吸取结构提供支撑和定位措施，便于吸头将待翻转件吸取，在吸头吸取待翻转件后，将基板的翻转面从朝向放置区的第一状态向背向放置区的第二状态转换，实现待翻转面的翻转，并可通过第一支撑件和第二支撑件将翻转后的待翻转件固定支撑在第二状态，在翻转过程中既不会将待翻转件弄碎，也不会在翻转的过程中导致待翻转件滑落，提高了激光器件的成品率，同步降低了制造成本
。
放置区为外延片提供放置区域，保证作业环境干净，防污染，且便于与翻转面配合
。
[0028]2.
本专利技术提供的翻转装置，第一支撑件包括支撑板和支撑槽，支撑槽为翻转结构提供支撑和定位措施，防止吸取待翻转件时翻转结构发生错位移动，而导致流片失败
。
[0029]3.
本专利技术提供的支撑槽，为槽口朝上的矩形槽，从底部为第二支撑件提供支撑，从两侧对第二支撑件进行限位，由于槽口朝上，翻转结构在重力作用下不会从槽口脱出，使得第二支撑件的放置更加平稳
。
[0030]4.
本专利技术提供的缓冲结构，包括缓冲杆和连杆，缓冲杆中设有缓冲腔和弹性件，连杆伸入缓冲腔内与弹性件抵接，实现了其在长度方向的缓冲运动，当吸头吸取待翻转件时，可提供一定的缓冲力，防止瞬时过大的压力对待翻转件造成的损害
。
[0031]5.
本专利技术提供的吸头内部设有吸孔，连杆内设有通孔，缓冲杆内设有缓冲腔，手柄内设有第一流体通道，第二支撑件内设有第二流体通道，基板内设有第三流体通道，上述吸孔
、
通孔
、
缓冲腔
、
第三流体通道
、
第二流体通道和第一流体通道依次连通并通过软管与真
空泵相接，为真空泵提供真空通道，实现对待翻转件的真空吸取，真空吸取方式更加和缓，不会对待翻转件造成损害
。
附图说明
[0032]为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种翻转装置，其特征在于，包括：基座
(1)
，包括底板
(11)
及设置在所述底板
(11)
上的至少两个第一支撑件
(12)
，所述底板
(11)
上设有适于放置待翻转件的放置区
(13)
，所述放置区
(13)
位于至少两个所述第一支撑件
(12)
之间；翻转结构
(2)
，包括基板
(21)
及设置在所述基板
(21)
上的至少两个第二支撑件
(22)
，所述第二支撑件
(22)
适于支撑在所述第一支撑件
(12)
上，每个所述第二支撑件
(22)
均匹配一个所述第一支撑件
(12)
；所述基板
(21)
上设有翻转面，位于至少两个所述第二支撑件
(22)
之间，所述翻转面具有朝向所述放置区
(13)
的第一状态，及背向所述放置区
(13)
的第二状态；吸取结构
(3)
，包括吸头
(31)
，所述吸头
(31)
设置在所述翻转面上，适于吸取所述待翻转件
。2.
根据权利要求1所述的翻转装置，其特征在于，所述第一支撑件
(12)
包括：支撑板
(121)
，一端连接在所述底板
(11)
上，另一端向上延伸；支撑槽
(122)
，设置在所述支撑板
(121)
的另一端上；所述第二支撑件
(22)
适于支撑在所述支撑槽
(122)
内
。3.
根据权利要求2所述的翻转装置，其特征在于，所述支撑槽
(122)
为槽口朝上的矩形槽，所述第二支撑件
(22)
为与所述支撑槽
(122)
匹配的板状结构
。4.
根据权利要求1‑3中任一项所述的翻转装置，其特征在于，所述第一支撑件
(12)
具有两个，相对设置在所述放置区
(13)
的两侧
。5.
根据权利要求1‑3中任一项所述的翻转装置，其特征在于，还包括缓冲结构
(4)
，所述吸头
(31)
通过所述缓冲结构
(4)
与所述翻转面连接
。6.
根据权利要求5所述的翻转装置，其特征在于，所述缓冲结构
(4)
包括：缓冲杆
(41)
，一端与所述翻转面连接，所述缓冲杆
(41)
内沿...

【专利技术属性】
技术研发人员：王伟远，成磊，陈宇星，梅石磊，刘浩伟，
申请(专利权)人：晋城市光机电产业协调服务中心晋城市光机电产业研究院，
类型：发明
国别省市：