阻气膜和阻气膜的制造方法技术

本发明专利技术的阻气膜具备有机基材和设置在所述有机基材的一个表面侧的无机透明阻挡层，其中，所述无机透明阻挡层包含阻挡材料作为主成分，且包含

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】阻气膜和阻气膜的制造方法


[0001]本公开涉及阻气膜和阻气膜的制造方法
。

技术介绍

[0002]阻气膜
(gas barrier film)
具有高阻挡性
(
阻隔性
)
，故广泛应用于食品
、
工业产品
、
医药品等的包装
、
液晶显示元件
、OLED(Organic Light Emitting Diode)、
有机
EL(organic Electro
‑
Luminescence)、
太阳能电池等的基板等
。
[0003]近来，为了赋予阻气膜进一步的功能，当在阻气膜上进行透明导电层等的功能层的层叠时，功能层的高精度层叠很重要
。
功能层层叠时，如果阻气膜发生翘曲
(curl)
，则难以将功能层等高精度层叠在阻气膜上，为此，已经对翘曲可被抑制的阻气膜进行了各种研究
。
[0004]作为翘曲可被抑制的阻气膜，例如，公开了一种在基材上具有锚固层和阻气层的阻气片，锚固层含有聚硅氧烷聚合物，阻气层含有氧化硅和导电材料
(
例如，参见专利文件
1)。
[0005][
引证文件
][0006][
专利文件
][0007][
专利文件
1]日本国特开
2010
‑
143091
号公报
专利
技术实现思路

[0008][
要解决的技术问题
][0009]然而，专利文件1的阻气片存在如下问题，即，为了使翘曲难以发生，需要具备锚固层和阻气层这两层，并且为了提高锚固层和阻气层的相互作用，构成这些层的材料被限定为包含
Si
的材料
。
[0010]一般而言，阻气膜使用包含
Si
系
、Zn
系
、Sn
系
、Al
系等的化合物的阻气层，并且希望能够对阻气膜的
、
基于阻气性能
、
用途等构成阻气层的材料进行适当选择
。
因此，为了利用阻气膜，例如需要一种可不受诸如上述化合物等的构成阻气层的材料的限制，并可对阻气膜的翘曲进行抑制的方法
。
[0011]本专利技术的一个方式的目的在于，提供一种构成阻气层的材料不受限制，并可对翘曲进行抑制的阻气膜
。
[0012][
技术方案
][0013]本专利技术的阻气膜的一个方式具备有机基材和设置在所述有机基材的一个表面侧的无机透明阻挡层，其中，所述无机透明阻挡层包含阻挡材料作为主成分，且包含
Kr
和
Xe
中的至少一种
。
[0014]本专利技术的阻气膜的制造方法的另一个方式为上述阻气膜的制造方法，其中，在包含
Kr
和
Xe
中的至少一种的气体气氛内，使用包含
Zn
的靶，在有机基材上以包含
Kr
和
Xe
中的至少一种的方式溅射阻挡材料，藉此对所述无机透明阻挡层进行成膜
。
[0015][
有益效果
][0016]根据本专利技术的阻气膜的一个方式，构成阻气层的材料不受限制，并可对翘曲进行抑制
。
附图说明
[0017][
图
1]表示本专利技术的实施方式的阻气膜的构成的概略剖面图
。
[0018][
图
2]对阻气膜的翘曲量进行测定的说明图
。
具体实施方式
[0019]下面对本专利技术的实施方式进行详细说明
。
需要说明的是，为了便于理解，各图中，对相同构成要素赋予了相同的符号，并对重复说明进行了省略
。
此外，图中各部件的比例可能与实际不同
。
本说明书中，表示数值范围的
「
～
」(
注
:「」
等同于
“”
)
是指，除非另有说明，其前后记载的数值为下限值和上限值，且包含在该数值范围内
。
[0020]<
阻气膜
>
[0021]对本专利技术的实施方式的阻气膜进行说明
。
图1是表示本实施方式的阻气膜的构成的概略剖面图
。
如图1所示，本实施方式的阻气膜1具备有机基材
10
和设置在有机基材
10
的上表面
10a
侧的无机透明阻挡层
20
，无机透明阻挡层
20
包含作为主成分的阻挡材料，同时还包含作为混入
(
混合
)
成分的氪
(Kr)
和氙
(Xe)
中的至少一种
。
[0022]就阻气膜1而言，藉由在无机透明阻挡层
20
内包含
Kr
和
Xe
中的至少一种作为混入成分，可与构成无机透明阻挡层
20
的主成分的材料无关地实现翘曲
(curl)
的抑制
。
[0023]需要说明的是，本说明书中，将阻气膜1的厚度方向
(
垂直方向
)
作为
Z
轴方向，并将与厚度方向正交的横向
(
水平方向
)
作为
X
轴方向
。
将
Z
轴方向的无机透明阻挡层
20
侧作为
+Z
轴方向，并将
Z
轴方向的有机基材
10
侧作为
‑
Z
轴方向
。
下面的描述中，为了便于说明，将
+Z
轴方向称为上或上方，并将
‑
Z
轴方向称为下或下方，但这并不代表一般意义的上下关系
。
[0024]主成分是指，阻挡材料的含量为
95atm
％以上，优选为
97atm
％以上，较佳为
99atm
％以上
。
[0025]有机基材
10
是具有相对的两个主表面的板状部件或膜
(film)
，是用于设置无机透明阻挡层
20
的基材
。
有机基材
10
被设置为无机透明阻挡层
20
的下表面与有机基材
10
的上表面
(
主表面
)10a
相接
(
接触
)。
[0026]作为形成有机基材...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种阻气膜，具备：有机基材；及无机透明阻挡层，设置在所述有机基材的一个表面侧，其中，所述无机透明阻挡层包含阻挡材料作为主成分，且包含
Kr
和
Xe
中的至少一种
。2.
根据权利要求1所述的阻气膜，其中，所述无机透明阻挡层的
Kr
和
Xe
的合计含量大于
0at
％且小于等于
0.2at
％
。3.
根据权利要求1或2所述的阻气膜，其中，所述无机透明阻挡层包含氧化物，该氧化物具有从由
Zn、Si、Sn、Al
及
Mg
组成的组中选择的至少一种成分
。4.
根据权利要求1～3中的任一项所述的阻气膜，其中，所述无机透明阻挡层的厚度为...

【专利技术属性】
技术研发人员：山田恭太郎，山下纱也加，渡边圣彦，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：