镀膜装置及镀膜方法制造方法及图纸

本公开涉及一种镀膜装置及镀膜方法，其中，镀膜装置包括：真空室

【技术实现步骤摘要】
镀膜装置及镀膜方法


[0001]本公开涉及真空镀膜
，特别涉及一种镀膜装置及镀膜方法
。

技术介绍

[0002]在真空镀膜领域中，通常在腔体和工件之间施加负偏压形成加速电场，增强离子的动能从而对工件进行轰击，有利于清洗工件表面的杂质
、
油污或提升涂层的结合力与致密性
。
[0003]在专利技术人知晓的相关技术中，目前行业内只能给导电工件
(
如金属材料
、
半导体材料
)
产品施加负偏压，对不导电工件
(
如橡胶
、
塑料
、
陶瓷等
)
产品无法施加负偏压；此外目前对于单体式镀膜设备，偏压的正极一般连接镀膜腔体，偏压的负极连接在工件转架上，工件转架在运转过程中容易导致偏压加载的不稳定
。

技术实现思路

[0004]本公开提供了一种镀膜装置及镀膜方法，能够对不导电工件施加负偏压
。
[0005]根据本公开的一方面，提供了一种镀膜装置，包括：
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种镀膜装置，其特征在于，包括：真空室
(1)
，其腔体内为真空环境；偏压负载体
(2)
，设在所述真空室
(1)
内，所述偏压负载体
(2)
与所述真空室
(1)
相互绝缘；位置保持部件
(3)
，被配置为将工件的位置保持在所述真空室
(1)
和所述偏压负载体
(2)
之间；离子产生部件
(4)
，设在所述真空室
(1)
的侧壁上，被配置为产生并向所述真空室
(1)
内输入带电离子；和偏压电源
(5)
，所述偏压电源
(5)
的正极和负极分别连接于所述真空室
(1)
和所述偏压负载体
(2)。2.
根据权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述真空室
(1)
的形状和所述偏压负载体
(2)
的形状一致
。3.
根据权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述真空室
(1)
和所述偏压负载体
(2)
同轴设置
。4.
根据权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述偏压负载体
(2)
包括第一中心线
(21)
，所述位置保持部件
(3)
被配置为使工件绕所述第一中心线
(21)
旋转，和
/
或所述位置保持部件
(3)
包括第二中心线
(32)
，所述位置保持部件
(3)
被配置为使工件绕所述第二中心线
(32)
旋转
。5.
根据权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述偏压负载体
(2)
包括第一中心线
(21)
，所述位置保持部件
(3)
包括支撑杆
(31)
，所述镀膜装置还包括驱动组件
(6)
，所述驱动组件
(6)
包括：旋转盘
(61)
，设在所述真空室
(1)
的腔体底部，且与所述偏压负载体
(2)
同轴设置，所述支撑杆
(31)
设在所述旋转盘
(61)
上且位于所述偏压负载体
(2)
和所述真空室
(1)
之间；和驱动部件
(62)
，被配置为驱动所述旋转盘
(61)
绕所述第一中心线
(21)
旋转
。6.
根据权利要求5所述的镀膜装置，其特征在于，所述驱动组件
(6)
与所述真空室
(1)
同轴设置且与所述真空室
(1)
相互绝缘
。7.
根据权利要求5所述的镀膜装置，其特征在于，所述支撑杆
(31)
具有第二中心线
(32)
且所述支撑杆
(31)
设有多个，多个所述支撑杆
(31)
的所述第二中心线
(32)
与所述第一中心线
(21)
的距离均相等
。8.
根据权利要求5所述的镀膜装置，其特征在于，所述驱动组件
(6)
还包括：第一齿轮
(63)
，设在所述旋转盘
(61)
和所述真空室
(1)
的底部内表面之间，且与所述偏压负载体
(2)
同轴设置，所述第一齿轮
(63)
固定连接于所述真空室
(1)
；和第二齿轮
(64)
，与所述第一齿轮
(63)
啮合，所述第二齿轮
(64)
固定连接于所述支撑杆
(31)
且可转动地连接于所述旋转盘
(61)。9.
根据权利要求8所述的镀膜装置，其特征在于，所述支撑杆
(31)
通过轴承连接于所述旋转盘
(61)
，和
/
或所述第二齿轮
(64)
的半径小于所述第一齿轮
(63)。10.
根据权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，还包括：偏压引入组件
(7)
，连接于所述偏压电源
(5)
的负极和所述偏压负载体
(2)
之间，所述偏压引入组件
(7)
与所述偏压...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯森，陈新春，陆智俊，
申请(专利权)人：江苏徐工工程机械研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：