【技术实现步骤摘要】
一种光纤探头表面超透镜的制备方法
[0001]本专利技术涉及光纤探头
，具体是一种光纤探头表面超透镜的制备方法
。
技术介绍
[0002]目前，光纤传感器的微小型化和集成化需求推动着微纳光学技术蓬勃发展
。
在此背景下，研究人员正在探索通过合理的光学设计
、
功能材料及微纳米加工手段来赋予光纤探头特殊的光学性能
。
比如，通过在光纤探头表面制备超透镜，可以实现对光线的聚焦
、
相位调控等，由此有助于实现表面增强拉曼散射（
SERS
）
、
激光诱导超声成像及生物免疫反应等传感技术
。
然而实践表明，现有超透镜制备方法由于自身原理所限，普遍存在制备效率低
、
制备质量差
、
制备成本高的问题
。
基于此，有必要专利技术一种光纤探头表面超透镜的制备方法，以解决现有超透镜制备方法制备效率低
、
制备质量差
、
制备成本高的问题
。
技术实现思路
[0003]本专利技术为了解决现有超透镜制备方法制备效率低
、
制备质量差
、
制备成本高的问题，提供了一种光纤探头表面超透镜的制备方法
。
[0004]本专利技术是采用如下技术方案实现的：一种光纤探头表面超透镜的制备方法，该方法是采用如下步骤实现的：
S1
：在硅基底的上表面制备热氧化层
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种光纤探头表面超透镜的制备方法，其特征在于：该方法是采用如下步骤实现的：
S1
：在硅基底（1）的上表面制备热氧化层
A
（2）；
S2
：在热氧化层
A
（2）的上表面旋涂电子束光刻胶层（3）；
S3
：采用电子束直写光刻技术和刻蚀技术在电子束光刻胶层（3）上刻蚀形成
M
组纳米窗口
A
（4），每组纳米窗口
A
（4）均包括
N
个纳米窗口
A
（4），热氧化层
A
（2）通过
M
组纳米窗口
A
（4）暴露出来，由此形成
M
组暴露区域；
M
为正整数，且
M≥2
；
N
为正整数，且
N≥2
；
S4
：采用等离子体刻蚀技术在热氧化层
A
（2）的
M
组暴露区域一一对应地刻蚀形成
M
组纳米窗口
B
（5），硅基底（1）通过
M
组纳米窗口
B
（5）暴露出来，由此形成
M
组暴露区域；
S5
：采用等离子体刻蚀技术在硅基底（1）的
M
组暴露区域一一对应地刻蚀形成
M
组纳米凹孔（6）；
S6
：去除电子束光刻胶层（3），并在
M
组纳米凹孔（6）的孔壁一一对应地制备
M
组热氧化层
B
（7），然后采用等离子体镀膜机在热氧化层
A
（2）的上表面和
M
组热氧化层
B
（7）的表面同时蒸镀氟碳层（8）；
S7
：在氟碳层（8）和
M
组纳米凹孔（6）的上方设置导电玻璃（9），并在氟碳层（8）与导电玻璃（9）之间
、M
组纳米凹孔（6）与导电玻璃（9）之间施加光固化浆料（
10
），光固化浆料（
10
）同时覆盖氟碳层（8）和
M
组纳米凹孔（6）；然后，将交流电源（
11
）的一端与硅基底（1）连接，将交流电源（
11
）的另一端通过开关（
12
）与导电玻璃（9）连接；
S8
：闭合开关（
12
），使得交流电源（
11
）接通，由此使得光固化浆料（
10
）在电场作用下填充到
M
组纳米凹孔（6）内；
S9
：撤去导电玻璃（9）
、
交流电源（
11
）
、
开关（
12
），并采用刮板（
13
）刮除
M
组纳米凹孔（6）外的光固化浆料（
10
）；
S10
：将
M
个光纤探头（
14
）集合成束，并在每个光纤探头（
14
）的下表面均涂覆一层光固化树脂（
15
），然后将
M
层光固化树脂（
15
）与
M
组纳米凹孔（6）内的光固化浆料（
10
）一一对准；
S11
：将
M
层光固化树脂（
15
）一一对应地压...
【专利技术属性】
技术研发人员：黎相孟，魏慧芬，赵韡，张雅君，冯昕宇，
申请(专利权)人：中北大学，
类型：发明
国别省市：
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