一种适用于半明半暗的调压井布置结构制造技术

本实用新型专利技术提供了一种适用于半明半暗的调压井布置结构，1#引水调压井洞口高程上方的上覆岩体较厚，2#引水调压井上覆岩体较薄而为开敞式；在2#调压井上方场平出一块工作面平台，从工作面平台靠近1#引水调压井这一侧的山体向1#引水调压井方向开挖一条引调交通洞，引调交通洞的末端对应1#引水调压井井口，引调交通洞末端设置为1#引水调压井上室，1#引水调压井位于调压井上室的下方，1#引水调压井的井口位于调压井上室的底部。本实用新型专利技术既可以避免“开敞式”调压井明挖边坡过高、明挖量过大的问题，又可以避免“地下式”调压井一侧覆盖厚度不足，结构安全受到威胁的问题；并且，结构布置合理，避免工程施工对山体植被的过度破坏。避免工程施工对山体植被的过度破坏。避免工程施工对山体植被的过度破坏。

【技术实现步骤摘要】
一种适用于半明半暗的调压井布置结构


[0001]本技术属于水利水电工程领域，具体为一种适用于“半明半暗”的调压井布置结构。

技术介绍

[0002]调压井是水电站中的重要组成部分，可以降低高压管道的水锤压力，满足机组调节保证计算的要求。一般抽水蓄能电站引水调压井会布置成开敞式，还有一部分引水调压井由于上覆岩体较厚，因此将调压井全部布置于地下洞室之中。但极少数工程中，由于地形条件的限制，一个调压井井口高程上方岩体覆盖很厚，另一个调压井井口上方岩体覆盖较浅。如果将调压井做成开敞式，那么明挖边坡将很高，明挖量很大，施工周期较长；如果完全做成地下式，由于一侧岩体覆盖较浅，则容易形成塌方，结构安全受到极大的威胁。
[0003]因此，在这样的地形条件下合理选择调压井的结构布置形式就显得尤为重要。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是提供一种半明半暗的调压井结构布置，已解决当调压井所在地形使得一个调压井井口高程上方岩体覆盖很厚、另一个调压井井口上方岩体覆盖较浅时，
技术介绍
中所遇到的困境。
[0005]为实现本技术的目的，本技术采用以下技术方案：
[0006]一种适用于半明半暗的调压井布置结构，包括1#引水调压井和2#引水调压井，1#引水调压井洞口高程上方的上覆岩体较厚，2#引水调压井为开敞式，其特征在于在2#调压井上方平出一块工作面平台，从工作面平台靠近1#引水调压井这一侧的山体向1#引水调压井方向开挖一条引调交通洞，所述引调交通洞的末端对应1#引水调压井井口，引调交通洞末端设置为1#引水调压井上室，1#引水调压井位于调压井上室的下方，1#引水调压井的井口位于调压井上室的底部。
[0007]进一步的，所述引调交通洞的横截面为城门洞型。
[0008]进一步的所述1#引水调压井上室的横截面形状为城门洞型。
[0009]进一步的，所述引调交通洞的坡度满足施工期和永久运行期的要求，为从1#引水调压井上室向着引调交通洞洞口的方向逐渐向上。
[0010]采用本技术的“半明半暗”调压井结构布置方案，当调压井所在地形使得一个调压井井口高程上方岩体覆盖很厚、另一个调压井井口上方岩体覆盖较浅时，既可以避免“开敞式”调压井明挖边坡过高、明挖量过大的问题，又可以避免“地下式”调压井一侧覆盖厚度不足，结构安全受到威胁的问题。并且，本技术针对现有工程地形，结构布置合理，可以有效降低边坡高度，避免工程施工对山体植被的过度破坏，合理控制了明挖量，有效降低了开挖的难度。针对“半暗”的那个调压井，可以保证调压井上方岩体有足够的厚度，保证结构安全。
附图说明
[0011]图1为本技术的总体结构示意图。
具体实施方式
[0012]下面结合说明书附图，对本技术的技术方案进一步描述。
[0013]结合图1所示，1#引水调压井1上覆岩体较厚，2#引水调压井2上覆岩体较薄，如图1所示，地形线呈现左侧高、右侧低的形态，地形陡峻，山势变化剧烈。
[0014]本技术中，在2#引水调压井2上方平出一块面积合适的工作面平台3，从工作面平台3靠近1#引水调压井1这一侧的山体向1#引水调压井方向开挖引调交通洞5，在引调交通洞5末端对应所述2#引水调压井2井口。引调交通洞5末端开挖1#引水调压井上室6，待1#引水调压井上室2开挖完成，即可向下开挖1#引水调压井1。其中，1#引水调压井上室2的面积比1#引水调压井1的截面积大，1#引水调压井1通过引调交通洞5而成为洞身位于地下，井口通过微友坡度的引调交通洞5通大气的半暗结构。
[0015]所述引调交通洞5和所述1#引水调压井上室6的横截面形状为城门洞型。
[0016]所述引调交通洞的坡度满足施工期和永久运行期的要求，为从1#引水调压井上室6向着引调交通洞5洞口的方向逐渐向上。
[0017]当然，上述说明并非对本技术的限制，本技术也并不限于上述举例，本
的普通技术人员，在本技术的范围内，做出的变化、改添加或替换，都应属于本技术的保护范围。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种适用于半明半暗的调压井布置结构，包括1#引水调压井和2#引水调压井，1#引水调压井洞口高程上方的上覆岩体较厚，2#引水调压井为开敞式；其特征在于在2#调压井上方平出一块工作面平台，从工作面平台靠近1#引水调压井这一侧的山体向1#引水调压井方向开挖一条引调交通洞，所述引调交通洞的末端对应1#引水调压井井口，引调交通洞末端设置为1#引水调压井上室，1#引水调压井位于调压井上室的下方，1#引水调压井的井口位于调压...

【专利技术属性】
技术研发人员：余雪松，魏海宁，吴都，王东锋，
申请(专利权)人：中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：