一种负性感光涂料制造技术

本发明专利技术提供了一种负性感光涂料，其包含高分子聚合物、可自由基聚合单体、红外染料、自由基聚合引发剂、至少一种增粘聚合物及有机溶剂，且该增粘聚合物为磺化芳香族羧酸酯类聚合物。所述负性感光涂料涂覆在亲水的基板上，无需预热及碱液，可直接显影。由于其中添加的增粘聚合物，制得的平板印刷版材料具有更高的显影宽容度，以及良好的耐溶剂性和耐印力。以及良好的耐溶剂性和耐印力。

【技术实现步骤摘要】
一种负性感光涂料


[0001]本专利技术涉及涂料领域，尤其涉及一种负性感光涂料。

技术介绍

[0002]平版印刷技术已从传统的激光照排胶片拷贝PS版技术全面走向计算机直接制版技术(简称CTP技术)，CTP版材也逐渐普及。CTP版材种类很多，比较普及的包括银盐扩散CTP版材、UV
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CTP版、紫激光聚合CTP版材、热敏CTP版材等，其中使用最广泛的是热敏CTP版材。CTP制版技术需要一个“显影过程”，因此，存在着废液处理带来的环境问题。目前，开发新一代绿色、环保免化学处理CTP版是目前印刷领域开发的热点。
[0003]开发绿色、环保免化学处理CTP版技术路线很多，可分为热烧蚀技术、极性转技术和热熔技术。热烧蚀技术版材采用铝板基或聚酯基，利用等离子金属沉积技术制备版材。但烧蚀版材存在残渣问题。Presstek公司发表了具有夹层结构的烧蚀版材，解决了烧蚀残渣问题。极性转换技术中的版材由支持体和热敏成像层组成。热敏成像层含有光热换剂及热敏可转换聚合物(如聚四氢吡喃甲基丙烯酸酯、带有芳基重氮磺酸基乙烯共聚物)。成像前，热敏层溶于水溶液；成像时，红外吸收剂吸收激光能量，产生的热引起重氮基分解，使被曝光热敏共聚物由亲水变为疏水，从而形成亲油区。而未曝光区热敏共聚物仍溶于水，从而形成亲水区。制约此技术发展的因素仍然是印刷适性。其水墨部分都为药膜涂层，印刷控制与耐印力都受到很大制约，实现真正大规模商品化应用还有较大距离。而热熔技术是目前第三代免处理版材中真正商品化应用的技术。热敏成像中，红外吸收剂把激光能量转化为热能，产生的热使分散在交联亲水层中的热塑性聚合物颗粒发生凝集反应，曝光区由亲水性变成疏水亲油性。而未曝光区仍溶于PH≥4的水溶液，形成亲水区。其印版空白部分是磨砂与氧化处理后的铝基，而不是药膜涂层，印刷适性与普通版材没有任何区别。
[0004]开发免化学处理CTP版，关键技术之一是版材前体即功能有机物的开发。公开号为EP0980754的专利介绍了羧基脱羧实现亲水疏水转变技术，但相转变化合物分子量太大，能量阈值变大，脱羧困难，所以该技术版材耐印力差。公开号为WO94/23954的专利介绍了一种微胶囊热熔技术，激光热熔使微胶囊破坏，亲水物质破坏转为疏水，但破损物易造成印刷空白处污染；公开号为US4004924的专利介绍了一种热塑性疏水颗粒和亲水粘结剂的混合体，但不耐印；爱克发公司申请的公开号为EP2006
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24061144754的专利介绍了一种半连续乳液法制造苯乙烯、丙烯腈乳液热塑性颗粒，能实现热熔，但不含自乳化亲水性基团，颗粒控制技术要求，乳液稳定性较差，需加入抗微生剂；柯达申请的公开号为US2005
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311/196124的专利介绍了一种包含聚环氧烷烃链段和憎水氰基侧基聚合的粘合剂，分子为一维线性结构，耐印力不高；柯达申请的另一篇公开号为US2006
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2711/494235的专利介绍了一种含亲水基和氰基侧基的耐溶剂聚合物，含烯丙基酯支链，是通过羧基侧基和烯丙基卤化物在碱作用下缩合反应而成，但副反应副产物较多，后处理麻烦，而且酯基仍不耐印。
[0005]因此，进一步提高热敏CTP版的性能，特别是提高版材的耐印能力是热敏CTP版材开发的热点，而要提高免处理热敏CTP版板材耐印能力，则需要提高版材的耐溶剂性能。

技术实现思路

[0006]为了解决现有技术的问题，本专利技术提供一种无需碱性显影剂即可成像、对亲水性基板的粘附性更强的负性感光涂料。所述负性感光涂料在亲水基版材上固化成像时，其中包含的高分子聚合物、可自由基聚合单体与增粘聚合物在引发剂的作用下，聚合形成网络热交联，使得涂层分子量急剧变大，从而与基板的粘附性更牢固，在激光热曝光后很难被润版水和油墨所洗掉，具有极好的耐印力，而未曝光区的涂层则可以被去除。所述负性感光涂料在基板上不需任何显影剂即可直接上机印刷，实现制版过程无污物排放的环保目的。
[0007]一种负性感光涂料，按重量百分比计，包含：2.0
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2.5％份高分子聚合物、2.5
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3.0％份可自由基聚合单体、0.13
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0.19％份红外染料、0.6
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0.65％份自由基聚合引发剂、0.01
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0.03％份表面活性剂、0.1
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2.0％份增粘聚合物和91.63
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94.66％有机溶剂；其中，所述增粘聚合物为磺化芳香族羧酸酯类聚合物。
[0008]在本专利技术的一些实施方式中，所述高分子聚合物包含丙烯酸树脂，具体包含陶氏的Paraloid A11、ParaloidA14、ParaloidA21、Paraloid B
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44、Paraloid B
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48N、Paraloid B
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64、Paraloid B
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66、Paraloid B
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72、Paraloid B
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82等型号，巴斯夫的Joncryl581，赢创的M920，罗姆的LP 66/02N、LP 64/12N、P24N等型号，三菱的BR
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106、BR113、BR116等型号，LX MMA的BA122、BA123、BA124、BA410等型号。
[0009]在本专利技术的一些实施方式中，所述可自由基聚合单体包含季戊四醇丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯中的至少一种，所述季戊四醇丙烯酸酯具体包含Sartomer公司的Sartomer 399(二季戊四醇五丙烯酸酯)、Sartomer 295(季戊四醇四丙烯酸酯)，Kowa American公司的NK Ester A
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DPH(二季戊四醇六丙烯酸酯)，东亚合成株式会社的M402(二季戊四醇六丙烯酸酯)、湛新公司的DPHA(二季戊四醇五/六酸丙烯酸酯)等，其中，所述Sartomer 295的结构式如式1所示，Sartomer399的结构式如式2所示，M402的结构式如式3所示。
[0010][0011]所述聚氨酯丙烯酸酯可以是多官能聚氨酯丙烯酸酯，具体包含沙多玛的CN9006NS(六官)、帝斯曼的AgiSyn 230A2(六官)、湛新的Ebecryl5129(六官)、湛新Ebecryl 242、巴斯夫Laromer UA9033、特斯科脂肪族聚氨酯丙烯酸酯(六官)、上海有鸣化学的Thunchem T21和230A2(六官)等。
[0012]在本专利技术的一些实施方式中，所述红外染料的最大吸收波长在760nm
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1200nm范围内，可以为花青染料、偶氮染料、苯乙烯基染料、酞菁染料和蒽醌染料中的至少一种，其中所述花青染料具体可以是FEW Chemicals GmbH(Germany)的染料S0507、S2547，上海拓径新材料的染料IR775nm、IR830nm，江西洛特化工的IR
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775，武汉曙尔的IR
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种负性感光涂料，其特征在于，按重量百分比计，包含：2.0
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2.5%高分子聚合物、2.5
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3.0%可自由基聚合单体、0.13
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0.19%红外染料、0.6
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0.65%自由基聚合引发剂、0.01
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0.03%表面活性剂、0.1
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2.0%增粘聚合物和91.63
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94.66%有机溶剂；其中，所述增粘聚合物为磺化芳香族羧酸酯类聚合物。2.根据权利要求1所述负性感光涂料，其特征在于，所述高分子聚合物包含丙烯酸树脂；所述可自由基聚合单体包含季戊四醇丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯中的至少一种。3.根据权利要求1所述负性感光涂料，其特征在于，所述红外染料的最大吸收波长在760nm
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1200nm范围内。4.根据权利要求1所述负性感光涂料，其特征在于，所述自由基引发剂为鎓盐类、三嗪化合物中的一种；所述表面活性剂为非离子性表面活性剂、两性表面活性剂和含氟表面活性剂中的至少一种。5.根据权利要求1所述负性感光涂料，其特征在于，所述增粘聚合物的制备方法包含如下步骤：S1：将芳香族羧酸酯类化合物、醇类化合物、酸度调节剂和烷氧基钛催化剂依次加入到反应容器中，搅拌均匀后，加热并用惰性气体进行吹扫，进行反应；S2：在S1中反应1.5
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2h的反应体系基础上再次升温，持续反应3
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3.5h后，将所得产物冷却过滤，即得所述增粘聚合物。6.根据权利要求5所述负性感光涂料，其特征在于，S...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘宇，吴文垚，
申请(专利权)人：上海有聿树脂有限公司，
类型：发明
国别省市：