【技术实现步骤摘要】
可浇注生产的中空硅芯及其浇注工艺和模具
[0001]本专利技术涉及硅芯
,具体为可浇注生产的中空硅芯及其浇注工艺和模具。
技术介绍
[0002]硅材料是一种半导体材料,具有良好的导电性和绝缘性能,可以制成各种电子元器件,包括晶体管、集成电路等,是目前常用的电子元器件,其分为方硅芯和圆硅芯,不同形状的硅芯用于不同的电子设备上。
[0003]硅芯多是采用切割加工,可使用切割机加工出不同的尺寸,再对其进行其他机加工,但是,切割加工的方式,在生产过程中,不同硅芯尺寸通常需要改动相关辅材配件,例如,对应的切割支架需要对应的尺寸,支架上的胶圈和铝轮需要对应的尺寸,导轮的槽需要对应的尺寸。辅材的变动影响生产的连续性,而且备货也需要周期,在一定程度上限制了生产效率。
[0004]切割硅芯的前提是需要有晶棒,而晶棒需要拉晶制备,拉晶车间投资比例较大,整体工艺包括:装料、抽真空、检漏、加热熔料、引晶、放肩、转肩、等径生长、停炉、拆炉、清炉、取硅芯圆棒,还包括相关辅材和气体,整体投资比例份额较大,且晶棒的出芯率也较低,其中, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.可浇注生产中空硅芯的模具,其特征在于:包括左模具(1a)、右模具(1b)、内模芯(1c)和模芯底座(1d),所述内模芯(1c)位于模芯底座(1d)顶面的中部,所述左模具(1a)和右模具(1b)左右平行放置,内模芯(1c)位于二者之间的中部,且留有空间,形成模腔,其上方开口,四个部件组成一个完整的模具,所述模具外部的上下方分别安装有上紧固件(3)和下紧固件(4),所述模具的外部设置有可上下往复运动的加热系统(5),所述加热系统(5)用于加热和保温。2.根据权利要求1所述的可浇注生产中空硅芯的模具,其特征在于:所述模腔整体为圆柱形结构,且一端向内收缩成锥面,形成锥端,其朝上并开口,所述模腔锥端的角度为17.4
°
、锥端长度为41毫米,所述模腔内径为18毫米、总长度为3200毫米。3.根据权利要求1所述的可浇注生产中空硅芯的模具,其特征在于:所述内模芯(1c)的总长度为3150毫米、直径为10毫米,其外部的一端为半球面,其靠近锥端,半球面最高点与锥端大口之间的距离为9毫米,半球面的直径为10毫米。4.根据权利要求1所述的可浇注生产中空硅芯的模具,其特征在于:所述上紧固件(3)的顶面开设有排气孔(6)。5.依据权利要求1所述的模具用于生产中空硅芯的浇注工艺,其特征在于,包括有以下步骤:S1、将左模具(1a)、右模具(1b)、内模芯(1c)以及模芯底座(1d)装配在一起,并将下紧固件(4)安装在下方,组成一个模具;S2、在真空状态下向模具内通入惰性气体;S3、将模具进行高温加热;S4、从模腔的开口处向其内注入硅溶液,再使用上紧固件(3)封闭模具的上方;S5、启动加热系统(5)对模具的下方进行稳定加热,调整加热系统(5)的保温方式对模...
【专利技术属性】
技术研发人员:李帅,刘小明,雍定利,吴海啸,汪万贵,覃荣化,邢瑞栋,
申请(专利权)人:宁夏和光新材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
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