一种涂布模头间隙测量方法及涂布装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种涂布模头间隙测量方法，包括：将第一位移传感器固定在涂布平台上，第二位移传感器固定在涂布模头上，并将顶块固定在机架上；在所述涂布平台上设置精密制块，使所述第一位移传感器打在所述精密制块的下表面上，然后将所述第一位移传感器的数值归零；驱动所述涂布模头下降与所述第一位移传感器接触，同时所述第二位移传感器打在所述顶块上，当所述涂布模头下降至所述第一位移传感器的数值为零时，将所述第二位移传感器的数值也归零；此后所述第二位移传感器与所述顶块之间的测量数值即为涂布模头与涂布平台的间隙数值。本发明专利技术还公开了一种涂布装置。本发明专利技术采用非直接接触方式，精度高。精度高。精度高。

【技术实现步骤摘要】
一种涂布模头间隙测量方法及涂布装置


[0001]本专利技术涉及涂布领域，更确切地说是一种涂布模头间隙测量方法及涂布装置。

技术介绍

[0002]传统涂布设备的涂布模头与涂布平台之间的间隙调节有两种方式：
[0003]1、涂布模头与涂布平台完全贴紧接触，接触后把相应的测量传感器数值归零，测量传感器数值“0”代表涂布模头与涂布平台接触，之后涂布模头与涂布平台的间隙的变化通过传感器的数值反馈，例如传感器数值变为“1”时，代表涂布模头与涂布平台的间隙为1。
[0004]2.用标准测量工具塞尺，对涂布模头与涂布平台直接的间隙进行标定，例如涂布工作需要的涂布间隙大小为0.5mm，那么选用厚度为0.5mm的塞尺，紧密的塞入涂布模头与涂布平台之间的间隙，使塞尺与涂布模头和涂布平台贴紧接触，这样就代表涂布模头与涂布平台的间隙为0.5mm。
[0005]以上两种方法虽均能得出所需的涂布工作间隙，但涂布模头与涂布平台属于高精密部件，长期使用这种直接接触测量的方式，会对涂布模头与涂布平台造成损伤，破坏两者的精密度。另外涂布模头与涂布平台的接触，或者塞尺与涂布模头和涂布平台的接触，都是通过肉眼观察和操作手感进行判断，这样的方式存在一定的误差，使调节间隙的数值出现不准确性。

技术实现思路

[0006]本专利技术为了解决现有技术涂布模头与布图平台之间的间隙采用直接接触测量的方式，会对涂布模头与涂布平台造成损伤，破坏两者的精密度的技术问题，提供了一种涂布模头间隙测量方法及涂布装置。
[0007]为解决上述技术问题，本专利技术采用的技术方案为设计一种涂布模头间隙测量方法，包括：
[0008]将第一位移传感器固定在涂布平台上，第二位移传感器固定在涂布模头上，并将顶块固定在机架上，且使所述顶块位于所述第二位移传感器的正下方；
[0009]在所述涂布平台上设置精密制块，使所述精密制块的下表面处于所述涂布平台的上表面所在的平面，使所述第一位移传感器打在所述精密制块的下表面上，然后将所述第一位移传感器的数值归零；
[0010]驱动所述涂布模头下降与所述第一位移传感器接触，同时所述第二位移传感器打在所述顶块上，当所述涂布模头下降至所述第一位移传感器的数值为零时，将所述第二位移传感器的数值也归零；此后所述第二位移传感器与所述顶块之间的测量数值即为涂布模头与涂布平台的间隙数值。
[0011]所述涂布模头间隙测量方法还包括：
[0012]根据所述第二位移传感器的测量数值调整所述涂布模头与所述涂布平台之间的间隙。
[0013]所述在涂布平台上设置精密制块包括：将精密制块放置在所述涂布平台上，并且露出一段在所述涂布平台之外；
[0014]所述第一位移传感器打在所述精密制块露出涂布平台的一段的下表面上；
[0015]所述驱动所述涂布模头下降与所述第一位移传感器接触之前还包括：取走所述精密制块。
[0016]所述在涂布平台上设置精密制块之前还包括：前后移动所述涂布平台，使所述第一位移传感器正对所述涂布模头。
[0017]所述将所述第二位移传感器的数值也归零之后还包括：将所述第一位移传感器缩回。
[0018]所述第一位移传感器和第二位移传感器均为接触式位移传感器。
[0019]所述涂布平台设置在机台上，且可相对机台前后运动，所述机架设置在所述机台上方，涂布模头设置在所述机架上且可相对所述机架上下运动。
[0020]本专利技术还提供了一种涂布装置，包括机台、设于机台上方的机架、设于机台上且可相对所述机台前后运动的涂布平台设于所述机台上且驱动所述涂布平台前后运动的第一驱动装置、设于所述机架上且可相对所述机架上下运动的涂布模头和设于所述机架上且驱动所述涂布模头上下运动的第二驱动装置，所述涂布模头位于所述涂布平台上方；所述涂布装置还包括：
[0021]第一位移传感器，其固定于所述涂布平台上；
[0022]第二位移传感器，其固定于所述涂布模头上；
[0023]顶块，其固定于所述机架上且位于所述第二位移传感器的正下方；
[0024]将所述第一位移传感器与所述涂布平台的上表面所在的平面接触，并将所述第一位移传感器的数值归零；驱动所述涂布模头下降与所述第一位移传感器接触，同时所述第二位移传感器打在所述顶块上，当所述涂布模头下降至所述第一位移传感器的数值为零时，将所述第二位移传感器的数值也归零；此后所述第二位移传感器与所述顶块之间的测量数值即为涂布模头与涂布平台的间隙数值。
[0025]所述第一位移传感器和第二位移传感器均为接触式位移传感器。
[0026]所述涂布装置还包括：
[0027]间隙调整模块，其与所述第二位移传感器连接，且根据所述第二位移传感器的测量数值驱动所述涂布模头上下运动，调整所述涂布模头与涂布平台之间的间隙。
[0028]本专利技术通过在涂布平台上设置第一位移传感器，在涂布模头上设置第二位移传感器，在机架上设置顶块，且使所述顶块位于所述第二位移传感器的正下方。并在所述涂布平台上设置精密制块，使所述精密制块的下表面处于所述涂布平台的上表面所在的平面，使所述第一位移传感器打在所述精密制块的下表面上，然后将所述第一位移传感器的数值归零；再驱动所述涂布模头下降与所述第一位移传感器接触，同时所述第二位移传感器打在所述顶块上，当所述涂布模头下降至所述第一位移传感器的数值为零时，将所述第二位移传感器的数值也归零；此后所述第二位移传感器与所述顶块之间的测量数值即为涂布模头与涂布平台的间隙数值。从而不需要长期使用直接接触的测量方式，不会对涂布模头与涂布平台造成损伤，避免了因测量破坏涂布模头和涂布平台的精密度的问题。
[0029]而且，后续还可以通过第二位移传感器的测量数值来自动调整涂布模头与涂布平
台之间的间隙，在间隙的调节过程中，动作的实现均由电机完成，全程无人员手工操作，避免了操作误差，而间隙数值大小的反馈由第二位移传感器完成，避免了人工肉眼观察的误差，通过第二位移传感器的闭环反馈，保证间隙调节准确性，误差精确控制在微米级别。
附图说明
[0030]下面结合实施例和附图对本专利技术进行详细说明，其中：
[0031]图1是本专利技术涂布装置的结构图；
[0032]图2是本专利技术涂布装置另一视角的结构图；
[0033]图3是本专利技术涂布装置另一视角的结构图。
具体实施方式
[0034]下面结合附图进一步阐述本专利技术的具体实施方式：
[0035]请一并参见图1至图3。本专利技术涂布模头间隙测量方法包括：
[0036]第一步：将第一位移传感器5固定在涂布平台3上，第二位移传感器6固定在涂布模头4上，并将顶块7固定在机架2上，且使所述顶块7位于所述第二位移传感器6的正下方。
[0037]第二步：在所述涂布平台3上设置精密制块，使所述精密制块的下表面处于所述涂布平台3的上表面所在的平面，使所述第一位移传感器5打在所述精密制块的下表面上，然后将所述第一位移传感器5的数本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种涂布模头间隙测量方法，其特征在于包括：将第一位移传感器固定在涂布平台上，第二位移传感器固定在涂布模头上，并将顶块固定在机架上，且使所述顶块位于所述第二位移传感器的正下方；在所述涂布平台上设置精密制块，使所述精密制块的下表面处于所述涂布平台的上表面所在的平面，使所述第一位移传感器打在所述精密制块的下表面上，然后将所述第一位移传感器的数值归零；驱动所述涂布模头下降与所述第一位移传感器接触，同时所述第二位移传感器打在所述顶块上，当所述涂布模头下降至所述第一位移传感器的数值为零时，将所述第二位移传感器的数值也归零；此后所述第二位移传感器与所述顶块之间的测量数值即为涂布模头与涂布平台的间隙数值。2.根据权利要求1所述的涂布模头间隙测量方法，其特征在于：所述涂布模头间隙测量方法还包括：根据所述第二位移传感器的测量数值调整所述涂布模头与涂布平台之间的间隙。3.根据权利要求1所述的涂布模头间隙测量方法，其特征在于：所述在涂布平台上设置精密制块包括：将精密制块放置在所述涂布平台上，并且露出一段在所述涂布平台之外；所述第一位移传感器打在所述精密制块露出所述涂布平台的一段的下表面上；所述驱动所述涂布模头下降与所述第一位移传感器接触之前还包括：取走所述精密制块。4.根据权利要求3所述的涂布模头间隙测量方法，其特征在于：所述在涂布平台上设置精密制块之前还包括：前后移动所述涂布平台，使所述第一位移传感器正对所述涂布模头。5.根据权利要求4所述的涂布模头间隙测量方法，其特征在于：所述将所述第二位移传感器的数值也归零之后还包括：将所述第一位移传感器缩回。6.根据权利要求1所述的涂布模头间隙测量方...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡顺锋，
申请(专利权)人：深圳市善思创兴科技有限公司，
类型：发明
国别省市：