一种防残留的清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及热敏电阻芯片电极清洗技术领域，具体为一种防残留的清洗装置，清洗室的前侧安装有控制器，且清洗室的下方安装有排液口，用于排出清洗液，清洗室的内部设置有活动盘，且活动盘的中部固定有连接轴，通过连接轴可控制活动盘进行移动，活动盘的表面开设有贯通状的置物槽，用于放置待清洗的产品。该防残留的清洗装置设置有可拆卸的活动盘，通过活动盘上的置物槽可对热敏电阻芯片电极进行单独的放置，避免热敏电阻芯片电极清洗时出现剐蹭，可通过盖板将热敏电阻芯片电极限制在置物槽内，使其能随活动盘被浸入到清洗液内，提高清洗效果，避免后续出现残留，且活动盘后续可直接从清洗室内取出，也方便对热敏电阻芯片电极进行拿取和放置。极进行拿取和放置。极进行拿取和放置。

【技术实现步骤摘要】
一种防残留的清洗装置


[0001]本技术涉及热敏电阻芯片电极清洗
，具体为一种防残留的清洗装置。

技术介绍

[0002]在对热敏电阻芯片电极进行加工处理过程中，为避免热敏电阻芯片电极和表面的残留物以及加工附着物影响后续热敏电阻芯片电极的使用效果，可通过清洗装置对热敏电阻芯片电极进行清洗，但现有的清洗装置还存在一些不足之处：
[0003]现有的清洗装置在对热敏电阻芯片电极进行清洗时，一般是直接将热敏电阻芯片电极直接放入到清洗液内进行清洗，但热敏电阻芯片电极质量较小时在清洗室很容易上浮到清洗液表面，导致热敏电阻芯片电极清洗不彻底，容易出现残留，且多个热敏电阻芯片电极直接在清洗液内容易发生相互剐蹭造成热敏电阻芯片电极的损坏，降低了装置对热敏电阻芯片电极的整体清洗效果。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种防残留的清洗装置，以解决上述
技术介绍
提出的现有的清洗装置在对热敏电阻芯片电极进行清洗时，一般是直接将热敏电阻芯片电极直接放入到清洗液内进行清洗，但热敏电阻芯片电极质量较小时在清洗室很容易上浮到清洗液表面，导致热敏电阻芯片电极清洗不彻底，容易出现残留，且多个热敏电阻芯片电极直接在清洗液内容易发生相互剐蹭造成热敏电阻芯片电极的损坏的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种防残留的清洗装置，包括清洗室、控制器和排液口，所述清洗室的前侧安装有控制器，且清洗室的下方安装有排液口，用于排出清洗液，所述清洗室的内部设置有活动盘，且活动盘的中部固定有连接轴，通过连接轴可控制活动盘进行移动，所述活动盘的表面开设有贯通状的置物槽，用于放置待清洗的产品，所述活动盘呈网孔状结构设计，方便液体在其内部流动，所述活动盘的上方设置有遮盖机构，对置物槽的开口进行遮挡，防止产品从置物槽内浮出，所述连接轴的下方贯穿活动盘的下表面，且连接轴的下方连接有对接头，并且对接头呈矩形结构设计，对接头和连接轴的下方构成凹凸配合结构，所述对接头的下方固定有传动轴，且传动轴的下方连接有电机，通过电机控制传动轴的旋转，为活动盘提供驱动力。
[0006]进一步优化本技术方案，所述清洗室的上方设置有盖体，且盖体和清洗室之间构成螺纹连接，所述清洗室的内部设置有声波发射器，提高后续清洗效果。
[0007]进一步优化本技术方案，所述遮盖机构包括盖板和连接机构；
[0008]盖板，关于活动盘的中心线左右对称设置在活动盘的上方，且盖板呈网孔状结构设计；
[0009]连接机构，设置在盖板的外侧，且盖板通过连接机构和活动盘之间构成可拆卸连接。
[0010]进一步优化本技术方案，所述连接机构包括安装杆和连接槽；
[0011]安装杆，贯穿遮盖板和盖板之间构成嵌套连接；
[0012]连接槽，开设在活动盘的上方，且连接槽和安装杆之间构成螺纹连接，通过旋转安装杆可将盖板固定在活动盘的上方。
[0013]进一步优化本技术方案，所述传动轴的外侧设置有辅助搅拌机构，对清洗室内的液体进行搅动。
[0014]进一步优化本技术方案，所述辅助搅拌机构包括传动齿轮、连接齿轮、安装轴、横杆、齿圈、辅助杆和定位块；
[0015]传动齿轮，固定在传动轴的外侧；
[0016]连接齿轮，设置在传动齿轮的外侧和传动齿轮之间构成啮合连接；
[0017]安装轴，固定在连接齿轮的中部，且安装轴转动安装在清洗室的内部；
[0018]横杆，固定在安装轴的表面，对液体进行搅拌；
[0019]齿圈，设置在连接齿轮的外侧和连接齿轮之间构成啮合连接；
[0020]辅助杆，固定在齿圈的上方随齿圈的旋转进行移动；
[0021]定位块，固定在齿圈的外侧，且齿圈通过定位块和清洗室之间构成转动连接。
[0022]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0023](1)该防残留的清洗装置设置有可拆卸的活动盘，通过活动盘上的置物槽可对热敏电阻芯片电极进行单独的放置，避免热敏电阻芯片电极清洗时出现剐蹭，且可通过盖板将热敏电阻芯片电极限制在置物槽内，使其能随活动盘被浸入到清洗液内，提高清洗效果，避免后续出现残留，且活动盘后续可直接从清洗室内取出，也方便对热敏电阻芯片电极进行拿取和放置；
[0024](2)该防残留的清洗装置可通过横杆和辅助杆的旋转对清洗室内的液体进行搅拌，且辅助杆的旋转方向和活动盘的旋转方向相反，为清洗液提供多方向的搅动，从而使其能对热敏电阻芯片电极提供更好的清洗效果。
附图说明
[0025]图1为本技术立体结构示意图；
[0026]图2为本技术仰视结构示意图；
[0027]图3为本技术清洗室俯视结构示意图；
[0028]图4为本技术清洗室主剖结构示意图；
[0029]图5为本技术活动盘主剖结构示意图；
[0030]图6为本技术活动盘俯视结构示意图。
[0031]图中：1、清洗室；2、盖体；3、控制器；4、排液口；5、活动盘；6、连接轴；7、置物槽；8、盖板；9、安装杆；10、连接槽；11、对接头；12、传动轴；13、电机；14、传动齿轮；15、连接齿轮；16、安装轴；17、横杆；18、齿圈；19、辅助杆；20、定位块；21、声波发射器。
具体实施方式
[0032]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的
实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0033]请参阅图1
‑
6，本技术提供一种技术方案：一种防残留的清洗装置，包括清洗室1、控制器3和排液口4，清洗室1的前侧安装有控制器3，且清洗室1的下方安装有排液口4，用于排出清洗液，清洗室1的内部设置有活动盘5，且活动盘5的中部固定有连接轴6，通过连接轴6可控制活动盘5进行移动，活动盘5的表面开设有贯通状的置物槽7，用于放置待清洗的产品，活动盘5呈网孔状结构设计，方便液体在其内部流动，活动盘5的上方设置有遮盖机构，对置物槽7的开口进行遮挡，防止产品从置物槽7内浮出，连接轴6的下方贯穿活动盘5的下表面，且连接轴6的下方连接有对接头11，并且对接头11呈矩形结构设计，对接头11和连接轴6的下方构成凹凸配合结构，对接头11的下方固定有传动轴12，且传动轴12的下方连接有电机13，通过电机13控制传动轴12的旋转，为活动盘5提供驱动力，清洗室1的上方设置有盖体2，且盖体2和清洗室1之间构成螺纹连接，清洗室1的内部设置有声波发射器21，提高后续清洗效果，遮盖机构包括盖板8和连接机构，盖板8，关于活动盘5的中心线左右对称设置在活动盘5的上方，且盖板8呈网孔状结构设计，连接机构，设置在盖板8的外侧，且盖板8通过连接机构和活动盘5之间构成可拆卸连接，连接机构包括安装杆9本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种防残留的清洗装置，包括清洗室(1)、控制器(3)和排液口(4)，所述清洗室(1)的前侧安装有控制器(3)，且清洗室(1)的下方安装有排液口(4)，用于排出清洗液；其特征在于：所述清洗室(1)的内部设置有活动盘(5)，且活动盘(5)的中部固定有连接轴(6)，通过连接轴(6)可控制活动盘(5)进行移动，所述活动盘(5)的表面开设有贯通状的置物槽(7)，用于放置待清洗的产品，所述活动盘(5)呈网孔状结构设计，方便液体在其内部流动，所述活动盘(5)的上方设置有遮盖机构，对置物槽(7)的开口进行遮挡，防止产品从置物槽(7)内浮出，所述连接轴(6)的下方贯穿活动盘(5)的下表面，且连接轴(6)的下方连接有对接头(11)，并且对接头(11)呈矩形结构设计，对接头(11)和连接轴(6)的下方构成凹凸配合结构，所述对接头(11)的下方固定有传动轴(12)，且传动轴(12)的下方连接有电机(13)，通过电机(13)控制传动轴(12)的旋转，为活动盘(5)提供驱动力。2.根据权利要求1所述的一种防残留的清洗装置，其特征在于：所述清洗室(1)的上方设置有盖体(2)，且盖体(2)和清洗室(1)之间构成螺纹连接，所述清洗室(1)的内部设置有声波发射器(21)。3.根据权利要求1所述的一种防残留的清洗装置，其特征在于：所述遮盖机构包括盖板(8)和连接机构；盖板(8)，关于活动盘(5)的中心线左右对称设置在活动盘(5)的上方，且盖板(8)...

【专利技术属性】
技术研发人员：付志勇，张春林，黄海，
申请(专利权)人：上海领技智能科技有限公司，
类型：新型
国别省市：