本实用新型专利技术涉及一种辅助调节装置及光学检测设备，其包括：支撑体，所述支撑体设置有基准平面，且所述支撑体设有半透半反镜；以及透射标定点和反射标定点，所述透射标定点和所述反射标定点均固设于所述支撑体，且所述透射标定点和所述反射标定点分布于所述半透半反镜的相反两侧；所述透射标定点和所述反射标定点配置为当光线垂直所述基准平面入射至所述半透半反镜且部分光线透射至对准所述透射标定点时，所述光线部分反射至对准所述反射标定点。本实用新型专利技术涉及的一种辅助调节装置及光学检测设备，通过简单的结构就可以测出光机模组是否存在倾角，且不需用到特别昂贵的材料和加工方法，制作成本和难度较低。制作成本和难度较低。制作成本和难度较低。
【技术实现步骤摘要】
一种辅助调节装置及光学检测设备
[0001]本技术涉及半导体检测
，特别涉及一种辅助调节装置及光学检测设备。
技术介绍
[0002]随着半导体技术的发展，在半导体检测领域里光机模组的安装精度要求越来越高，尤其是高倍率成像装置，有一点倾斜都会导致成像画面整体不均匀，清晰度不一致等问题，导致缺陷检出困难。
[0003]相关技术中，一般采用相机等拍摄装置来辅助调整光机模组的角度，使光机模组与被测物所在平台保持水平。但是，采用相机等拍摄装置进行调整的方式结构复杂且制作成本较高。
[0004]因此，有必要设计一种新的辅助调节装置，以克服上述问题。
技术实现思路
[0005]本技术实施例提供一种辅助调节装置及光学检测设备，以解决相关技术中采用相机等拍摄装置进行调整的方式结构复杂且制作成本较高的问题。
[0006]第一方面，提供了一种辅助调节装置，其包括：支撑体，所述支撑体设置有基准平面，且所述支撑体设有半透半反镜；以及透射标定点和反射标定点，所述透射标定点和所述反射标定点均固设于所述支撑体，且所述透射标定点和所述反射标定点分布于所述半透半反镜的相反两侧；所述透射标定点和所述反射标定点配置为当光线垂直所述基准平面入射至所述半透半反镜且部分光线透射至对准所述透射标定点时，所述光线部分反射至对准所述反射标定点。
[0007]一些实施例中，所述半透半反镜相对于所述基准平面倾斜布置。
[0008]一些实施例中，所述支撑体上设置有标定板，所述标定板设置有两个标定面，两个所述标定面分别设置于所述半透半反镜的相反两侧，所述透射标定点和所述反射标定点分别位于两个所述标定面上。
[0009]一些实施例中，所述支撑体上设置有两个标定板，两个标定板分别位于所述半透半反镜的相反两侧，所述透射标定点和所述反射标定点分别位于两个所述标定板上。
[0010]一些实施例中，至少一个所述标定板上还设置有多个标定偏移点，多个所述标定偏移点分别对应朝向不同方向倾斜的入射光线，且该标定板上设置所述反射标定点。
[0011]一些实施例中，所述标定板的材质为玻璃、石英、陶瓷、哑光铝板或者菲林。
[0012]一些实施例中，所述支撑体内设有空腔，所述半透半反镜和所述透射标定点、所述反射标定点均设置于所述空腔内；所述支撑体于所述空腔的一侧设有光线入射窗口，且所述光线入射窗口中安装有透明玻璃。
[0013]一些实施例中，所述辅助调节装置还包括透镜，所述透镜安装于所述透明玻璃，且所述透镜的中心与所述透射标定点的连线垂直于所述基准平面。
[0014]一些实施例中，所述透射标定点和所述反射标定点处均设置有光敏传感器。
[0015]第二方面，提供了一种光学检测设备，其包括：载物平台，所述载物平台用于承载被测物；所述载物平台上设置有上述的辅助调节装置。
[0016]本技术提供的技术方案带来的有益效果包括：
[0017]本技术实施例提供了一种辅助调节装置及光学检测设备，由于支撑体设置有基准平面和半透半反镜，在辅助调节光机模组的角度时，可以将支撑体放置在使基准平面与被测物所在平台平行的位置，当光机模组打出的同轴光是沿垂直于所述基准平面入射至半透半反镜时，部分光线会透射至对准透射标定点，且部分光线反射至对准反射标定点，此时说明光机模组与被测物所在平台是平行的，若部分光线对准透射标定点，但是部分光线反射后没有对准反射标定点，则说明光机模组与被测物所在平台存在倾角，需要对光机模组进行调整；因此，通过简单的结构就可以测出光机模组是否存在倾角，且不需用到特别昂贵的材料和加工方法，制作成本和难度较低。
附图说明
[0018]为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1为本专利技术实施例提供的一种辅助调节装置的立体结构示意图；
[0020]图2为本专利技术实施例提供的一种辅助调节装置的主视示意图；
[0021]图3为本专利技术实施例提供的同轴光透射和反射简易示意图。
[0022]图中：
[0023]1、支撑体；11、基准平面；2、半透半反镜；3、透射标定点；4、反射标定点；5、标定板；6、透明玻璃；7、同轴光。
具体实施方式
[0024]为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0025]本技术实施例提供了一种辅助调节装置及光学检测设备，其能解决相关技术中采用相机等拍摄装置进行调整的方式结构复杂且制作成本较高的问题。
[0026]参见图1和图2所示，为本技术实施例提供的一种辅助调节装置，所述辅助调节装置可以针对高精度带内同轴光7的光机模组进行辅助调节，所述辅助调节装置可以包括：支撑体1，所述支撑体1设置有基准平面11，且所述支撑体1设有半透半反镜2，其中，所述支撑体1可以是一个平板结构，也可以是框架结构等多种结构形式，能够对半透半反镜2进行支撑即可，具体结构形式在此不做限定；以及透射标定点3和反射标定点4，所述透射标定点3和所述反射标定点4均固设于所述支撑体1，且所述透射标定点3和所述反射标定点4分
布于所述半透半反镜2的相反两侧，其中，所述透射标定点3和反射标定点4可以是直接设置在支撑体1上的，也可以是间接固定在支撑体1上的；所述透射标定点3和所述反射标定点4配置为当光线垂直所述基准平面11入射至所述半透半反镜2且部分光线透射至对准所述透射标定点3时，所述光线部分反射至对准所述反射标定点4。
[0027]本技术实施例提供的辅助调节装置可以检测入射光线是否与基准平面11垂直，也即当沿着垂直于基准平面11的方向照射至半透半反镜2时，才能在透射标定点3和反射标定点4处均接收到光，当光不是沿着垂直于基准平面11的方向照射至半透半反镜2时，透射标定点3可能会接收到光，但是反射标定点4不能接收到光，反射的光会偏移至其他位置。在使用该辅助调节装置辅助调节光机模组的角度时，可以将支撑体1放置在使基准平面11与被测物所在平台(也即载物平台)平行的位置，当光机模组打出的同轴光7是沿垂直于所述基准平面11入射至半透半反镜2时，部分光线会透射至对准透射标定点3，且部分光线反射至对准反射标定点4，此时说明光机模组与被测物所在平台是平行的，若部分光线对准透射标定点3，但是部分光线反射后没有对准反射标定点4，则说明光机模组与被测物所在平台存在倾角，需要对光机模组进行调整。
[0028]并且，本技术不需本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种辅助调节装置，其特征在于，其包括：支撑体(1)，所述支撑体(1)设置有基准平面(11)，且所述支撑体(1)设有半透半反镜(2)；以及透射标定点(3)和反射标定点(4)，所述透射标定点(3)和所述反射标定点(4)均固设于所述支撑体(1)，且所述透射标定点(3)和所述反射标定点(4)分布于所述半透半反镜(2)的相反两侧；所述透射标定点(3)和所述反射标定点(4)配置为当光线垂直所述基准平面(11)入射至所述半透半反镜(2)且部分光线透射至对准所述透射标定点(3)时，所述光线部分反射至对准所述反射标定点(4)。2.如权利要求1所述的辅助调节装置，其特征在于：所述半透半反镜(2)相对于所述基准平面(11)倾斜布置。3.如权利要求1所述的辅助调节装置，其特征在于：所述支撑体(1)上设置有标定板(5)，所述标定板(5)设置有两个标定面，两个所述标定面分别设置于所述半透半反镜(2)的相反两侧，所述透射标定点(3)和所述反射标定点(4)分别位于两个所述标定面上。4.如权利要求1所述的辅助调节装置，其特征在于：所述支撑体(1)上设置有两个标定板(5)，两个标定板(5)分别位于所述半透半反镜(2)的相反两侧，所述透射标定点(3)和所述反射标定点(4)分别位于...
【专利技术属性】
技术研发人员：韦晨，王进文，邓俊涛，张虎，欧昌东，
申请(专利权)人：武汉精测电子集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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