内窥镜系统、控制装置和控制气流的方法制造方法及图纸

一种内窥镜系统，包括：内窥镜；包括电极和第一气体通道的处置管；通过第一气体通道供应第一气体的第一气体源；通过不包括在处置管内并沿插入通道的远端方向供应第二气体的第二气体通道供应第二气体的第二气体源；向电极提供第一高频电流以将第一气体离子化成等离子体状态的电源；用于控制电源、第一气体源和第二气体源的控制电路。第一气体以第一高频安培数离子化成等离子体状态，第二气体以第二高频安培数离子化成等离子体状态，并且第二高频电流高于第一高频安培数。流高于第一高频安培数。流高于第一高频安培数。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】内窥镜系统、控制装置和控制气流的方法


[0001]本专利技术涉及内窥镜系统、控制装置和控制用于消融过程(ablation procedure)的处置装置的气流的方法。特别地，本公开涉及用于射频消融的处置装置，其中气体从处置装置发射并形成用于消融过程的放电气氛，特别地用于处置胃食道反流病。
[0002]本申请基于并要求均在2021年3月1日提交的美国临时申请No.63,154,841；No.63/154,847；No.63/154,854；No.63/154,856和No.63/154,857的优先权。这些申请中的每一者的全部内容通过引用合并于此。

技术介绍

[0003]在下面的讨论中，参考某些结构和/或方法。然而，以下引用不应被解释为是对这些结构和/或方法构成现有技术的认可。申请人明确地保留证明这种结构和/或方法不符合本专利技术的现有技术的权利。
[0004]当主要是胃酸的胃内容物反向移动进入食道，引起诸如烧心或胃酸过多等不愉快的主观症状(subjective symptom)时，引起胃食道反流病，胃食道反流病是食道的炎症性疾病，其引起诸如食道炎、巴雷特氏食道(Barrett'sesophagus)或由巴雷特氏食道引起的食道腺癌等病理状况。
[0005]当贲门松弛或腹部压力增加时，经常发生胃酸反流到食道中。当存在滑动性食道裂孔疝时，由于隔膜对贲门的夹持不够，很可能发生胃酸反流到食道中。
[0006]为了防止胃酸反流到食道中，开发了一种通常被称作防反流粘膜切除术(Anti
‑r/>Reflux MucoSectomy(ARMS))的医疗过程。在该医疗过程中，切除胃食道连接处附近的粘膜，以在切除部位产生瘢痕，这将最终形成不完全的瘢痕狭窄。食道和胃中的一者或两者中的不完全瘢痕狭窄形成开口，该开口能够减少食物通过时发生的吞咽困难并防止胃酸反流，从而防止胃酸到达食道。在专利文献1中公开了这种医疗过程的示例。
[0007]另一种通常被称作抗反流粘膜消融(anti
‑
reflux mucosal ablation(ARMA))的医疗过程是内窥镜处置方法，其中通过消融粘膜层下面的粘膜基底细胞而损伤粘膜，并且通过修复受损区域在消化道中形成不完全瘢痕狭窄。在专利文献2中公开了这种医疗过程的示例。
[0008]在专利文献3中公开了一种用于氩等离子体凝固(Argon
‑
plasma coagulation(APC))的示例性内窥镜手术设备。现有技术的内窥镜
‑
手术设备仪器被公开为具有探头，所述探头被构造为用于氩等离子体凝固(APC)的探头。借助于内窥镜，在这种情况下在患者的声带区域中，探头已经被引导到待处置的组织。探头包括用于氩等离子体凝固的第一作业通道和布置为与第一作业通道同轴的第二作业通道。在每个通道的远端处分别是出口开口。电极向探针的远端供应高频电流，从而向待处置的组织供应高频电流。电极布置在第一作业通道内。电极借助于电流输送装置连接到用于产生高频电压的高频(HF)发生器。在APC期间，优选为氩的惰性气体围绕电极流动，使得由于HF电流和气体之间的相互作用而产生等离子体。在探头内，电极开口到喷嘴装置，以便获得尽可能良好地定向的等离子体流。借
助于等离子体流，可以将HF电流引导到组织，从而使组织凝固。
[0009]借助于相对于第一通道同轴布置的第二通道，可以将另一气流引导到操作区域。这可以在电离之前或在氩等离子体凝固期间发生。该气流、优选为氩气的流，包围等离子体流，使得在等离子体流的直接周围由保护性气流建立惰性气体的包络。也就是说，可电离气体不仅填充在探头的出口开口和待处置的组织之间的空间中，这将与单腔探头的情况相同；而且，可电离气体填充了更大的体积，凝固电流可以通过该体积找到它的路。该气体包络起保护性气氛的作用，从操作区域中取代了诸如氧气或一氧化碳等的反应性气体，使得防止将对患者是危险的这些气体与等离子流相关的点燃。
[0010]第二通道的出口开口参考探头的轴线延伸方向朝向探头的远端并且在第一通道的出口开口之前布置。也就是说，第一通道突出于第二通道。因此，因为确保第一通道的远端和等离子体流完全位于保护性气氛内，所以可以建立具有极高可靠性的保护性气氛。
[0011]因为用于向操作区域供应附加氩气的第二通道布置在APC探头内，因此包封等离子体流、即保护性气氛的氩云的形成与探头的关于内窥镜的位置无关。另外，附加氩流可以根据保护性气流的期望程度任意地打开和关闭。
[0012]现有技术处置装置的缺点是探头结构的复杂性。除了用于供应高频电流的电极之外，第一作业通道和第二作业通道还需要被构造为具有足够的宽度，用以允许惰性气体和气流从中流过，这对于探头的总体尺寸最小化引起了问题。现有技术处置装置也没有公开如何控制高频电的施加、惰性气体的注入和气流的注入。
[0013]引用列表
[0014]专利文献
[0015]专利文献1：美国专利No.9,592,070
[0016]专利文献2：美国专利申请公开No.2020/0261069A1
[0017]专利文献3：美国专利申请公开No.2009/0024122A1

技术实现思路

[0018]技术问题
[0019]然而，夹持单元和处置工具主体之间的传统连接结构在一个或多个方面存在缺陷。例如，传统连接结构缺乏足够的强度来确保当夹持单元旋转时夹持单元围绕按压管的轴线的旋转运动。又如，传统连接结构缺乏足够的强度来确保当夹持单元被操纵线拉动时夹持单元在按压管的轴线方向上的直线移动。结果，在结扎过程成功完成之前，夹持单元可能意外地从处置工具主体的钩部脱出。
[0020]因此，鉴于实际使用，需要设计一种以有效结构用于消融过程的处置装置，该处置装置将基本上避免由于现有技术处置装置的限制和缺点而导致的一个或多个问题。本公开的目的是提供一种改进的处置装置，其具有有效结构和相关医疗过程的实际管理。至少一个或一些目的是通过本文公开的处置装置实现的。
[0021]解决问题的方案
[0022]根据一个方面的内窥镜系统，包括：内窥镜，其包括插入通道；处置管，其被插入穿过所述插入通道并从所述插入通道的远端突出，其中所述处置管包括电极和第一气体通道；第一气体源，其被构造成通过所述第一气体通道供应第一气体；第二气体源，其被构造
成通过第二气体通道供应第二气体。所述第二气体通道不包括在所述处置管内，并且所述第二气体通道沿所述插入通道的远端的方向供应所述第二气体。电源被构造为向所述电极供应足以将所述第一气体离子化成等离子体状态的第一高频电流。控制电路控制所述电源、所述第一气体源和所述第二气体源。所述第一气体以第一高频安培数离子化成等离子体状态，所述第二气体以第二高频安培数离子化成等离子体状态，并且所述第二高频电流高于所述第一高频安培数。
[0023]根据一个方面的控制装置，包括：控制器，其包括用于控制第一气体源、第二气体源和电源的控制电路本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种内窥镜系统，包括：内窥镜，其包括插入通道；处置管，其被插入穿过所述插入通道并从所述插入通道的远端突出，其中所述处置管包括电极和第一气体通道；第一气体源，其被构造成通过所述第一气体通道供应第一气体；第二气体源，其被构造成通过第二气体通道供应第二气体，其中所述第二气体通道不包括在所述处置管内，并且所述第二气体通道沿所述插入通道的远端的方向供应所述第二气体；电源，其被构造为向所述电极供应足以将所述第一气体离子化成等离子体状态的第一高频电流；以及控制电路，其控制所述电源、所述第一气体源和所述第二气体源，其中，所述第一气体以第一高频安培数离子化成等离子体状态，所述第二气体以第二高频安培数离子化成等离子体状态，并且所述第二高频电流高于所述第一高频安培数。2.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，所述第二气体是二氧化碳。3.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，所述第一气体是氩并且所述第二气体是二氧化碳，其中所述第一高频电流足以将氩离子化成等离子体状态，但不足以将二氧化碳离子化成等离子体状态。4.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，在所述电极的壁的外表面和所述处置管的壁的内表面之间的空间形成所述第一气体通道。5.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，在所述处置管的壁的外表面和所述插入通道的壁的内表面之间的空间形成所述第二气体通道。6.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，所述第二气体通道形成在所述内窥镜内并独立于所述插入通道，其中所述第二气体通道在所述内窥镜的远端中具有开口，所述开口与所述内窥镜的远端中的用于所述处置管的开口间隔开。7.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，所述控制电路被编程为在供应所述第一气体之前或同时供应所述第二气体，或者在施加所述第一高频电流之前或同时供应所述第二气体。8.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，所述控制电路被编程为在供应所述第一气体和施加所述第一高频电流之后供应所述第二气体。9.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，所述控制电路被编程为在停止所述第一气体的供应或停止所述第一高频电流的施加之前停止所述第二气体的供应。10.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，所述控制电路被编程为在停止所述第一气体的供应或停止所述第一高频电流的施加之后停止所述第二气体的供应。11.一种控制装置，包括：控制器，其包括用于控制第一气体源、第二气体源和电源的控制电路；其中，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：松尾伸子，梶国英，中村好翔，
申请(专利权)人：奥林巴斯医疗株式会社，
类型：发明
国别省市：