内窥镜系统、控制装置和控制气流的方法制造方法及图纸

一种内窥镜系统，包括：内窥镜；包括电极和第一气体通道的处置管；通过第一气体通道供应第一气体的第一气体源；通过不包括在处置管内并沿插入通道的远端方向供应第二气体的第二气体通道供应第二气体的第二气体源；向电极提供第一高频电流以将第一气体离子化成等离子体状态的电源；用于控制电源、第一气体源和第二气体源的控制电路。第一气体以第一高频安培数离子化成等离子体状态，第二气体以第二高频安培数离子化成等离子体状态，并且第二高频电流高于第一高频安培数。流高于第一高频安培数。流高于第一高频安培数。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】内窥镜系统、控制装置和控制气流的方法


[0001]本专利技术涉及内窥镜系统、控制装置和控制用于消融过程(ablation procedure)的处置装置的气流的方法。特别地，本公开涉及用于射频消融的处置装置，其中气体从处置装置发射并形成用于消融过程的放电气氛，特别地用于处置胃食道反流病。
[0002]本申请基于并要求均在2021年3月1日提交的美国临时申请No.63,154,841；No.63/154,847；No.63/154,854；No.63/154,856和No.63/154,857的优先权。这些申请中的每一者的全部内容通过引用合并于此。

技术介绍

[0003]在下面的讨论中，参考某些结构和/或方法。然而，以下引用不应被解释为是对这些结构和/或方法构成现有技术的认可。申请人明确地保留证明这种结构和/或方法不符合本专利技术的现有技术的权利。
[0004]当主要是胃酸的胃内容物反向移动进入食道，引起诸如烧心或胃酸过多等不愉快的主观症状(subjective symptom)时，引起胃食道反流病，胃食道反流病是食道的炎症性疾病本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种内窥镜系统，包括：内窥镜，其包括插入通道；处置管，其被插入穿过所述插入通道并从所述插入通道的远端突出，其中所述处置管包括电极和第一气体通道；第一气体源，其被构造成通过所述第一气体通道供应第一气体；第二气体源，其被构造成通过第二气体通道供应第二气体，其中所述第二气体通道不包括在所述处置管内，并且所述第二气体通道沿所述插入通道的远端的方向供应所述第二气体；电源，其被构造为向所述电极供应足以将所述第一气体离子化成等离子体状态的第一高频电流；以及控制电路，其控制所述电源、所述第一气体源和所述第二气体源，其中，所述第一气体以第一高频安培数离子化成等离子体状态，所述第二气体以第二高频安培数离子化成等离子体状态，并且所述第二高频电流高于所述第一高频安培数。2.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，所述第二气体是二氧化碳。3.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，所述第一气体是氩并且所述第二气体是二氧化碳，其中所述第一高频电流足以将氩离子化成等离子体状态，但不足以将二氧化碳离子化成等离子体状态。4.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，在所述电极的壁的外表面和所述处置管的壁的内表面之间的空间形成所述第一气体通道。5.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，在所述处置管的壁的外表面和所述插入通道的壁的内表面之间的空间形成所述第二气体通道。6.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，所述第二气体通道形成在所述内窥镜内并独立于所述插入通道，其中所述第二气体通道在所述内窥镜的远端中具有开口，所述开口与所述内窥镜的远端中的用于所述处置管的开口间隔开。7.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，所述控制电路被编程为在供应所述第一气体之前或同时供应所述第二气体，或者在施加所述第一高频电流之前或同时供应所述第二气体。8.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，所述控制电路被编程为在供应所述第一气体和施加所述第一高频电流之后供应所述第二气体。9.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，所述控制电路被编程为在停止所述第一气体的供应或停止所述第一高频电流的施加之前停止所述第二气体的供应。10.根据权利要求1所述的内窥镜系统，其中，所述控制电路被编程为在停止所述第一气体的供应或停止所述第一高频电流的施加之后停止所述第二气体的供应。11.一种控制装置，包括：控制器，其包括用于控制第一气体源、第二气体源和电源的控制电路；其中，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：松尾伸子，梶国英，中村好翔，
申请(专利权)人：奥林巴斯医疗株式会社，
类型：发明
国别省市：