基于(甲基)丙烯酸酯单体的组合物制造技术

本发明专利技术涉及一种可交联的双组分组合物，其包含：

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基于(甲基)丙烯酸酯单体的组合物
专利

[0001]本专利技术涉及一种基于(甲基)丙烯酸酯单体的组合物。
[0002]本专利技术还涉及所述组合物用于在运输、航海、装配、电子或建筑领域中的材料的修复和/或半结构或结构粘合中的用途。
技术背景
[0003]丙烯酸类组合物是已知的通过自由基聚合交联的反应体系。它们用作粘合剂、胶粘剂和涂料。自由基聚合通常由氧化还原系统引发，氧化还原系统通过氧化还原反应导致自由基的产生。
[0004]大多数丙烯酸类系统是双组分系统。第一组分通常含有还原剂和反应性单体，第二组分含有氧化剂。一旦两种组分混合，还原剂就会引起有机过氧化物的O
‑
O键断裂，并引发聚合。
[0005]通常，(甲基)丙烯酸类组合物包含过氧化物(氧化剂)/叔胺(还原剂)类型的氧化还原体系。然而，这些体系在(甲基)丙烯酸酯单体存在下可能存在储存稳定性问题。
[0006]需要允许在反应性和储存稳定性之间取得良好折衷的新型(甲基)丙烯酸类组合物。
[0007]此外，还需要具有良好粘合性能的新型(甲基)丙烯酸类组合物。

技术实现思路

[0008]A、组合物
[0009]本专利技术涉及一种可交联的双组分组合物，其包含：
[0010]‑
组分A，其包含：
[0011]‑
具有下式(Ia)或(Ib)之一的化合物：
[0012][0013]其中：
[0014]‑
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R
a
和R
b
中的每一个彼此独立地表示选自氢原子或卤素原子、烷基、环烷基或芳基的基团；
[0015]‑
R
f
表示全卤代烷基或卤代烷基；
[0016]‑
X
‑
表示阴离子；
[0017]和
[0018]‑
至少一种具有下式(II)、(III)或(IV)之一的(甲基)丙烯酸酯单体M1：
[0019][0020]其中：
[0021]‑
R9表示H或甲基；
[0022]‑
R
10
表示H、甲基或乙基；
[0023]‑
p表示0或1；和
[0024]‑
Z表示H、O、S、烷基、苄基、芳基或烷氧基；
[0025]‑
Y表示O、S、NH或CH2；
[0026]是单键或双键，
[0027]条件是当Z表示O时，则该键为双键；
[0028]‑
组分B，其包含至少一种具有下式(V)的化合物：
[0029]R
c
‑
SO2‑
,Q
+
(V)
[0030]其中：
[0031]‑
R
c
表示选自以下的基团：杂芳基、芳基、烷基，所述杂芳基、芳基和烷基任选地被以下基团中的至少一个取代：F、OH、C(O)OMe、NHC(O)Me、甲基(Me)、CF3、OH或SO2‑
；
[0032]‑
Q
+
表示选自Li
+
、Na
+
或K
+
的阳离子。
[0033]在本专利技术的上下文中，术语“烷基”是指直链或支链基团，优选包含1至20个碳原子。例如可以提及甲基、乙基和丙基。
[0034]在本专利技术的上下文中，术语“芳基”是指单环或双环芳族基团，优选包含6至12个碳原子。例如可以提及苯基。
[0035]在本专利技术的上下文中，术语“环烷基”是指饱和的单环或多环系统，优选单环或双环系统，优选包含3至12个碳原子，所述环可以成对桥接或稠合，例如环丙基，环戊基、环己基或降冰片基。
[0036]在本专利技术的上下文中，术语“烷氧基”是指
‑
O
‑
烷基。
[0037]组份A
[0038]式(Ia)或(Ib)的化合物
[0039]组分A包含如上所定义的式(Ia)或(Ib)化合物。
[0040]阴离子X
‑
可以选自FSO3‑
、CF3SO3‑
、CF2HSO3‑
、Cl
‑
、Br
‑
、BF4‑
、BF3Cl
‑
和PF6‑
。
[0041]在上述式(Ia)或(Ib)中，R
f
可以表示卤代烷基。例如，它可以是氟代烷基，例如CHF2或CH2F。
[0042]优选地，在式(Ia)或(Ib)中，R
f
表示全氟烷基，甚至更优选CF3、C2F5、C3F7或C4F9。根据特别优选的实施方案，R
f
表示CF3。
[0043]式(Ia)或(Ib)的化合物可以选自这样化合物，其中：
[0044]‑
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R
a
和R
b
中的每一个彼此独立地表示选自氢或卤素原子，或烷基的基团，优选氢或氟原子；
[0045]‑
R
f
表示全氟烷基或氟代烷基，优选全氟烷基；
[0046]‑
X
‑
表示阴离子，优选地选自FSO3
‑
、CF3SO3
‑
和BF4
‑
。
[0047]根据一个优选的实施方案，组分A包含式(Ia)的化合物，特别是选自由以下化合物组成的组：
[0048][0049]甚至更优选来自以下化合物之一：
[0050][0051]式(Ia)的化合物可以如在WO2016/107578中所述地进行制备。式(Ib)化合物可以如在WO2011/013307中所述地进行制备。
[0052]式(Ia)或(Ib)化合物的总含量可以为0.05重量％至5.0重量％，优选0.1重量％至3.0重量％，甚至更优选0.1重量％至1.5重量％，相对于可交联双组分组合物的总重量计。
[0053](甲基)丙烯酸酯单体M1
[0054]根据本专利技术的组分A包含至少一种具有下式(II)、(III)或(IV)之一的(甲基)丙烯酸酯单体M1：
[0055][0056]其中：
[0057]‑
R9表示H或甲基；
[0058]‑
R
10
表示H、甲基或乙基；
[0059]‑
p表示0或1；和
[0060]‑
Z表示H、O、S、烷基、苄基、芳基或烷氧基；
[0061]‑
Y表示O、S、NH或CH2；
[0062]是单键或双键，
[0063]条件是当Z表示O时，则该键是双键。
[0064](甲基)丙烯酸酯单体M1可以选自以下单体：
[0065]单体M1优选地选自式(II)或本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种可交联的双组分组合物，其包含：
‑
组分A，其包含：
‑
具有下式(Ia)或(Ib)之一的化合物：其中：
‑
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R
a
和R
b
中的每一个彼此独立地表示选自氢原子、卤素原子、烷基、环烷基或芳基的基团；
‑
R
f
表示全卤代烷基或卤代烷基；
‑
X
‑
表示阴离子；和
‑
至少一种具有下式(II)、(III)或(IV)之一的(甲基)丙烯酸酯单体M1：其中：
‑
R9表示H或甲基；
‑
R
10
表示H、甲基或乙基；
‑
p表示0或1；和
‑
Z表示H、O、S、烷基、苄基、芳基或烷氧基；
‑
Y表示O、S、NH或CH2；是单键或双键，
条件是当Z表示O时，则该键为双键；
‑
组分B，其包含至少一种具有下式(V)的化合物：R
c
‑
SO2‑
,Q
+
(V)其中：
‑
R
c
表示选自杂芳基、芳基、烷基的基团，所述杂芳基、芳基和烷基任选地被以下基团中的至少一个取代：F、OH、C(O)OMe、NHC(O)Me、甲基(Me)、CF3、OH或SO2‑
；
‑
Q
+
表示选自Li
+
、Na
+
或K
+
的阳离子。2.根据权利要求1所述的组合物，其特征在于，在式(Ia)或(Ib)中，阴离子X
‑
选自FSO3‑
、CF3SO3‑
、CF2HSO3‑
。
、Cl
‑
、Br
‑
、BF4‑
、BF3Cl
‑
、PF6‑
。3.根据权利要求1或2所述的组合物，其特征在于，在式(Ia)或(Ib)中：
‑
R1、R2、R3、R4、R5、R6...

【专利技术属性】
技术研发人员：J，
申请(专利权)人：上阿尔萨斯大学国家科学研究中心，
类型：发明
国别省市：