显示装置和电子设备制造方法及图纸

显示装置和电子设备。本发明专利技术的显示装置具有：基板；透镜层，其包含透镜；像素电极，其配置于所述基板与所述透镜层之间；以及滤色器，其配置于所述像素电极与所述透镜层之间，所述滤色器具有在所述基板与所述透镜层之间在俯视观察时与所述像素电极的一部分重叠的着色部，所述像素电极设置于显示图像的显示区域，所述透镜在所述俯视观察时与所述像素电极的一部分重叠，在所述俯视观察时，所述像素电极的中心与所述显示区域的显示中心之间的距离比所述透镜的中心与所述显示中心之间的距离短。述透镜的中心与所述显示中心之间的距离短。述透镜的中心与所述显示中心之间的距离短。

【技术实现步骤摘要】
显示装置和电子设备
[0001]本申请是基于专利技术名称为“显示装置和电子设备”，申请日为2020年05月07日，申请号为202010376665.8的专利技术专利申请的分案申请。


[0002]本专利技术涉及显示装置和电子设备。

技术介绍

[0003]公知有使用有机EL(场致发光)元件的有机EL显示装置等显示装置。在专利文献1中公开了一种有机EL装置，该有机EL装置包括具有像素电极的有机EL元件、以及使规定波段的光透过的滤色器。
[0004]专利文献1：日本特开2015
‑
153607号公报

技术实现思路

[0005]专利技术要解决的课题
[0006]关于专利文献1这样的具有滤色器的显示装置，期望视场角特性的提高或发射角的扩大。
[0007]用于解决课题的手段
[0008]本专利技术的显示装置的一个方式具有：基板；透镜层，其包含透镜；像素电极，其配置于所述基板与所述透镜层之间；以及滤色器，其配置于所述像素电极与所述透镜层之间，所述滤色器具有在所述基板与所述透镜层之间在俯视观察时与所述像素电极的一部分重叠的着色部，所述像素电极设置于显示图像的显示区域，所述透镜在所述俯视观察时与所述像素电极的一部分重叠，在所述俯视观察时，所述像素电极的中心与所述显示区域的显示中心之间的距离比所述透镜的中心与所述显示中心之间的距离短。
附图说明
[0009]图1是示出第1实施方式中的显示装置的俯视图。
[0010]图2是第1实施方式中的子像素的等效电路图。
[0011]图3是示出第1实施方式中的显示装置的部分截面的图。
[0012]图4是示出第1实施方式中的像素电极的俯视图。
[0013]图5是示出第1实施方式中的滤色器的一部分的俯视图。
[0014]图6是示出第1实施方式中的透镜层的一部分的俯视图。
[0015]图7是用于说明第1实施方式中的像素电极、透镜和着色部的配置的图。
[0016]图8是用于说明第1实施方式中的光路的图。
[0017]图9是用于说明第1实施方式中的光路的图。
[0018]图10是第1实施方式中的显示装置的制造方法的流程。
[0019]图11是用于说明第1实施方式中的透镜层形成工序的图。
[0020]图12是用于说明第1实施方式中的透镜层形成工序的图。
[0021]图13是用于说明第1实施方式中的透镜层形成工序的图。
[0022]图14是用于说明第1实施方式中的透镜层形成工序的图。
[0023]图15是用于说明第1实施方式中的透光层形成工序的图。
[0024]图16是示意地示出第2实施方式中的显示装置的图。
[0025]图17是示意地示出第2实施方式中的显示装置的图。
[0026]图18是示意地示出第3实施方式中的显示装置的图。
[0027]图19是用于说明第3实施方式中的显示装置的制造方法的图。
[0028]图20是示意地示出第4实施方式中的显示装置的图。
[0029]图21是示出像素电极和透镜的变形例的俯视图。
[0030]图22是示出着色部和透镜的变形例的剖视图。
[0031]图23是示出着色部和透镜的变形例的剖视图。
[0032]图24是示出滤色器的变形例的俯视图。
[0033]图25是示出像素电极、透镜和着色部的变形例的俯视图。
[0034]图26是示出像素电极、透镜和着色部的变形例的俯视图。
[0035]图27是示出像素电极、透镜和着色部的变形例的俯视图。
[0036]图28是示出像素电极、透镜和着色部的变形例的俯视图。
[0037]图29是示意地示出虚像显示装置的内部构造的一部分的图。
[0038]标号说明
[0039]1：元件基板；2：元件部；4：保护层；5：滤色器；7：平坦化层；9：透光性基板；10：基板；13：扫描线；14：数据线；15：馈电线；16：馈电线；20：有机EL元件；21：反射层；22：绝缘层；23：像素电极；23B：像素电极；23G：像素电极；23R：像素电极；23x：第1像素电极；23y：第2像素电极；23z：基准像素电极；24：功能层；25：公共电极；30：像素电路；31：开关用晶体管；32：驱动用晶体管；33：保持电容；41：第1层；42：第2层；43：第3层；51：着色部；51B：着色部；51G：着色部；51R：着色部；51x：第1着色部；51y：第2着色部；51z：基准着色部；61：透镜层；61a：透镜材料层；62：透光层；62a：堆积层；71：平坦面；80：黑矩阵；90：目镜；100：显示装置；100a：显示装置；100b：显示装置；100c：显示装置；101：数据线驱动电路；102：扫描线驱动电路；103：控制电路；104：外部端子；210：反射部；221：第1绝缘膜；222：第2绝缘膜；223：第3绝缘膜；224：第4绝缘膜；240：发光层；245：开口；246：开口；247：开口；519B：重复部；519G：重复部；610：透镜；610x：第1透镜；610y：第2透镜；610z：基准透镜；611：透镜面；611a：透镜用凸部；612a：透镜用覆膜；900：虚像显示装置；A1：主光线；A10：显示区域；A20：周边区域；D2x：距离；D2y：距离；D6x：距离；D6y：距离；Dx：距离；Dy：距离；EY：眼睛；L：影像光；L0：光学距离；LL：光束；LL0：光束；M1：掩模；M11：图案部；M12：凸部；O1：显示中心；O2：中心；O5：中心；O6：中心；P：像素；P0：子像素；PB：子像素；PG：子像素；PR：子像素；T6：高度；a：角度；a1：法线；dx：距离；dy：距离；θ：发射角；θ1：视场角；θa：倾斜角度；W2：宽度；W5：宽度；W6：宽度。
具体实施方式
[0040]下面，参照附图对本专利技术的优选实施方式进行说明。另外，在附图中，各部的尺寸、比例尺与实际情况适当不同，还存在为了容易理解而示意地示出的部分。此外，关于本专利技术
的范围，只要在以下的说明中没有特意限定本专利技术的意思的记载，则不限于这些方式。
[0041]1.第1实施方式
[0042]1A.显示装置100
[0043]图1是示出第1实施方式中的显示装置100的俯视图。下面，为了便于说明，适当使用图1所示的相互正交的x轴、y轴和z轴进行说明。后述的显示装置100具有的元件基板1与x
‑
y平面平行。此外，“俯视观察”是从
‑
z方向观察。后述的透光性基板9和元件基板1重叠的方向是与
‑
z方向平行的方向。后述元件基板1的厚度方向是与
‑
z方向平行的方向。此外，在以下的说明中，透光性意味着针对可见光的透过性，优选是指可见光的透过率为50％以上。
[0044]显示装置100是显示全彩色图像的有机EL(场致发光)显本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示装置，其特征在于，其具有：第1像素电极，其设置于显示区域；第2像素电极，其在显示区域中设置于比所述第1像素电极靠外侧的位置；公共电极；发光层，其设置于所述第1像素电极以及所述第2像素电极与所述公共电极之间；基板，其具有透光性；第1透镜，其设置于所述公共电极与所述基板之间，与所述第1像素电极对应；第2透镜，其设置于所述公共电极与所述基板之间，与所述第2像素电极对应；第1着色部，其设置于与所述第1透镜的第1透镜面相反的一侧，与所述第1像素电极对应；以及第2着色部，其设置于与所述第2透镜的第2透镜面相反的一侧，与所述第2像素电极对应，所述第1像素电极以及所述第2像素电极沿着第1方向配置，在沿着所述第1方向的剖视图中，在所述第1方向上，所述第1透镜相对于所述第1像素电极朝向所述显示区域的外侧偏移地配置，在所述第1方向上，所述第1着色部相对于所述第1像素电极朝向所述显示区域的外侧偏移地配置，在所述第1方向上，所述第2透镜相对于所述第2像素电极朝向所述显示区域的外侧偏移地配置，在所述第1方向上，所述第2着色部相对于所述第2像素电极朝向所述显示区域的外侧偏移地配置，在所述第1方向上，所述第2透镜相对于所述第2像素电极的位置的偏移大于所述第1透镜相对于所述第1像素电极的位置的偏移，在所述第1方向上，所述第2着色部相对于所述第2像素电极的位置的偏移大于所述第1着色部相对于所述第1像素电极的位置的偏移。2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置具有第1透光层，该第1透光层与所述第1透镜面以及所述第2透镜面接触。3.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：腰原健，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：