一种硅片清洗装置及其清洗方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及硅片生产技术领域，且公开了一种硅片清洗装置及其清洗方法，解决了水流不能冲洗硅片与硅片承载花篮相接触的位置，硅片清洗不够全面的问题，其包括清洗箱，所述清洗箱的底部固定连接有底座，清洗箱内固定连接有控制箱，控制箱上贯穿有若干第一转轴，第一转轴的两端分别套设有固定环，固定环和控制箱固定连接，第一转轴和固定环的连接处设有轴承，控制箱上设有用于驱动若干个第一转轴旋转的旋停器，第一转轴的一侧设有第二转轴，第二转轴远离第一转轴的一端和清洗箱的内壁通过轴承连接；可以调整硅片的位置，以使清洗液可以对硅片上的不同位置进行清洗，使得清洗效果更佳。佳。佳。

【技术实现步骤摘要】
一种硅片清洗装置及其清洗方法


[0001]本专利技术属于硅片生产
，具体为一种硅片清洗装置及其清洗方法。

技术介绍

[0002]硅片在生产过程中，需要对硅片的表面进行清洗，现有的硅片清洗工艺普遍是将硅片放置在硅片承载花篮内采用清洗液进行浸泡清洗，或者通过流动水来冲洗承载花篮中的硅片，从而实现清洗液冲洗硅片的表面实现硅片的清洗，而硅片承载花篮一般是不运动的，单单依靠水流来冲洗硅片表面，清洗力度小，而且水流不能冲洗硅片与硅片承载花篮相接触的位置，硅片清洗不够全面，存在一定的局限性。

技术实现思路

[0003]针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本专利技术提供一种硅片清洗装置及其清洗方法，有效的解决了上述
技术介绍
中水流不能冲洗硅片与硅片承载花篮相接触的位置，硅片清洗不够全面的问题。
[0004]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种硅片清洗装置，包括清洗箱，所述清洗箱的底部固定连接有底座，清洗箱内固定连接有控制箱，控制箱上贯穿有若干第一转轴，第一转轴的两端分别套设有固定环，固定环和控制箱固定连接，第一转轴和固定环的连接处设有轴承，控制箱上设有用于驱动若干个第一转轴旋转的旋停器，第一转轴的一侧设有第二转轴，第二转轴远离第一转轴的一端和清洗箱的内壁通过轴承连接，第一转轴和第二转轴相靠近的一侧分别固定连接有第一定位块，第一定位块上开设有第一滑槽，第一转轴和第二转轴的下方分别设有第一活动柱，相邻两个第一活动柱之间通过第一支撑单元连接，第一转轴和第二转轴分别通过第一缓冲件与第一活动柱连接，第一转轴和第二转轴的上方分别设有第二活动柱，第一转轴和第二转轴分别通过第二缓冲件与第二活动柱连接，第二活动柱上开设有矩形孔，矩形孔上贯穿有第一棱柱，第一棱柱和第二活动柱通过滑动定位结构连接，第一棱柱的顶部固定连接有第一限位板和第二限位板，且第一限位板和第二限位板分别位于第二活动柱的两侧，控制箱上设有分别与第一限位板和第二限位板相配合的推板，推板和控制箱通过往复转动件连接，相邻两个第一棱柱之间通过第二支撑单元连接，第二支撑单元的上方设有两个摆动管，摆动管的两端分别与清洗箱的内壁通过轴承连接，摆动管上设有若干喷头，清洗箱上设有与摆动管相配合的抽水机构，第一转轴和相邻两个摆动管通过摩擦摆动件连接。
[0005]优选的，所述摩擦摆动件包括套设于第一转轴外部的第一摩擦环，第一摩擦环和第一转轴通过若干第一连接柱连接，摆动管的外部固定套设有第二摩擦环，相邻两个第二摩擦环分别与相对应的第一摩擦环相接触，摆动管上固定连接有摆动板，摆动板的两侧分别设有止动板，且止动板与清洗箱的内壁固定连接。
[0006]优选的，所述抽水机构包括设置于清洗箱内的集水管，集水管和清洗箱通过若干第二连接柱连接，摆动管上设有进出管，集水管上设有若干第一排水管，进出管与相对应的
第一排水管通过软管连接，集水管上设有进水管，清洗箱上固定连接有水泵，清洗箱的底部设有第二排水管，进水管和水泵的输出端通过第一连接管连接，第二排水管和水泵的输入端通过第二连接管连接，清洗箱内固定连接有过滤网，且第一支撑单元位于过滤网的上方。
[0007]优选的，所述往复转动件包括固定安装于推板上的第三转轴，第三转轴远离推板的一端设有侧板，侧板和控制箱固定连接，第三转轴和侧板通过轴承连接，第三转轴的外部固定套设有齿轮，侧板的一侧设有与齿轮相啮合的齿板，齿板上固定连接有活动板，活动板的上方和下方分别设有连接板，连接板和侧板固定连接，相邻两个连接板之间通过两个固定柱固定连接，固定柱贯穿活动板，固定柱的外部套设有两个第一弹簧，相邻两个第一弹簧分别位于活动板的顶部和底部，第一弹簧的两端分别与连接板和活动板固定连接。
[0008]优选的，所述第一缓冲件包括分别固定安装于第一转轴和第二转轴上的第二棱柱，第一活动柱上开设有第一凹槽，且第二棱柱的底端位于第一凹槽内，第二棱柱的底端和第一凹槽的内壁通过第二弹簧连接。
[0009]优选的，所述第一支撑单元包括设置于相邻两个第一活动柱之间的第三连接柱，第三连接柱的两端分别与相邻两个第一活动柱固定连接，第三连接柱上固定连接有第二定位块，第二定位块上开设有第二滑槽。
[0010]优选的，所述第二缓冲件包括分别固定安装于第一转轴和第二转轴上的第三棱柱，第二活动柱上开设有第二凹槽，第三棱柱的顶端位于第二凹槽内，且第三棱柱的顶端和第二凹槽的内壁通过第三弹簧连接，第二支撑单元包括设置于相邻两个第一棱柱之间的第三定位块，第三定位块上固定连接有支架，支架的两端分别与相邻两个第一棱柱固定连接，第三定位块上开设有第三滑槽。
[0011]优选的，所述旋停器包括固定安装于控制箱内的电机，电机的输出端固定连接有蜗杆，第一转轴的外部固定套设有位于控制箱内的蜗轮，且蜗轮和蜗杆相啮合，蜗杆远离电机的一端和控制箱的内壁通过轴承连接。
[0012]优选的，所述滑动定位结构包括限位柱，矩形孔的内壁上开设有第三凹槽，第一棱柱上分别开设有第一限位槽和第二限位槽，限位柱的一端位于第一限位槽内，限位柱的另一端位于第三凹槽内，且限位柱的一端和第三凹槽的内壁通过第四弹簧连接。
[0013]本专利技术还提供了一种硅片清洗方法，包括如上述所述的硅片清洗装置，包括以下步骤：
[0014]步骤一：工作人员将硅片放入第一转轴和第二转轴之间，且硅片的两端分别滑入相邻两个第一滑槽内，通过第一支撑单元对硅片的底部进行支撑，当硅片放入完毕后，工作人员往清洗箱内加入清洗液，当清洗液加入完毕后，通过旋停器驱动第一转轴周期性正反转，即可使得位于两个第一定位块之间的硅片摆动；
[0015]步骤二：第一定位块摆动的同时，第一转轴通过摩擦摆动件驱动摆动管同步摆动，通过抽水机构抽取清洗箱内的清洗液进入到摆动管内，摆动管内的清洗液通过喷头喷射在硅片的上半部，且硅片摆动的同时，喷头的倾斜角度同步发生改变，以使喷头对硅片上的不同位置进行清洗，当第一转轴周期性正反转的时间达到预设值时，硅片处于竖直状态，硅片复位初始位置；
[0016]步骤三：通过旋停器驱动第一转轴旋转一百八十度，第一转轴旋转的过程中，第一转轴驱动第二活动柱旋转，第二活动柱驱动第一棱柱同步移动，以使第一限位板朝向推板
移动，当第一限位板和推板相接触时，随着第一转轴的持续旋转，推板推动第一限位板移动，以使第一棱柱、第一限位板和第二限位板移动，滑动定位结构解除第一棱柱和第二活动柱之间的固定关系，当第一限位板和第二活动柱相接触时，第一棱柱移动至预设位置，第一棱柱和第一限位板之间通过滑动定位结构进行固定，且第二支撑单元移动至硅片远离第一支撑单元的一侧，随着第一转轴的持续旋转，第一限位板和第一棱柱不会再相对第二活动柱移动，第一限位板推动推板转动，改变推板的倾斜角度，最终第一限位板从推板的一侧滑过，往复转动件驱动推板复位初始位置；
[0017]步骤四：当旋停器驱动第一转轴旋转九十度以后，随着第一转轴的持续旋转，硅片相对两个第一滑槽反向滑动，硅片与第一滑槽相接触的位置发生改变，第一支撑单元不再对硅片进行支撑，当旋停器驱动第本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗装置，包括清洗箱(1)，其特征在于：所述清洗箱(1)的底部固定连接有底座(2)，清洗箱(1)内固定连接有控制箱(3)，控制箱(3)上贯穿有若干第一转轴(4)，第一转轴(4)的两端分别套设有固定环(53)，固定环(53)和控制箱(3)固定连接，第一转轴(4)和固定环(53)的连接处设有轴承，控制箱(3)上设有用于驱动若干个第一转轴(4)旋转的旋停器，第一转轴(4)的一侧设有第二转轴(5)，第二转轴(5)远离第一转轴(4)的一端和清洗箱(1)的内壁通过轴承连接，第一转轴(4)和第二转轴(5)相靠近的一侧分别固定连接有第一定位块(6)，第一定位块(6)上开设有第一滑槽(7)，第一转轴(4)和第二转轴(5)的下方分别设有第一活动柱(8)，相邻两个第一活动柱(8)之间通过第一支撑单元连接，第一转轴(4)和第二转轴(5)分别通过第一缓冲件与第一活动柱(8)连接，第一转轴(4)和第二转轴(5)的上方分别设有第二活动柱(9)，第一转轴(4)和第二转轴(5)分别通过第二缓冲件与第二活动柱(9)连接，第二活动柱(9)上开设有矩形孔(10)，矩形孔(10)上贯穿有第一棱柱(11)，第一棱柱(11)和第二活动柱(9)通过滑动定位结构连接，第一棱柱(11)的顶部固定连接有第一限位板(12)和第二限位板(13)，且第一限位板(12)和第二限位板(13)分别位于第二活动柱(9)的两侧，控制箱(3)上设有分别与第一限位板(12)和第二限位板(13)相配合的推板(14)，推板(14)和控制箱(3)通过往复转动件连接，相邻两个第一棱柱(11)之间通过第二支撑单元连接，第二支撑单元的上方设有两个摆动管(15)，摆动管(15)的两端分别与清洗箱(1)的内壁通过轴承连接，摆动管(15)上设有若干喷头(16)，清洗箱(1)上设有与摆动管(15)相配合的抽水机构，第一转轴(4)和相邻两个摆动管(15)通过摩擦摆动件连接。2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于：所述摩擦摆动件包括套设于第一转轴(4)外部的第一摩擦环(17)，第一摩擦环(17)和第一转轴(4)通过若干第一连接柱(18)连接，摆动管(15)的外部固定套设有第二摩擦环(19)，相邻两个第二摩擦环(19)分别与相对应的第一摩擦环(17)相接触，摆动管(15)上固定连接有摆动板(20)，摆动板(20)的两侧分别设有止动板(21)，且止动板(21)与清洗箱(1)的内壁固定连接。3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于：所述抽水机构包括设置于清洗箱(1)内的集水管(23)，集水管(23)和清洗箱(1)通过若干第二连接柱(24)连接，摆动管(15)上设有进出管(25)，集水管(23)上设有若干第一排水管(26)，进出管(25)与相对应的第一排水管(26)通过软管(27)连接，集水管(23)上设有进水管(28)，清洗箱(1)上固定连接有水泵(29)，清洗箱(1)的底部设有第二排水管(30)，进水管(28)和水泵(29)的输出端通过第一连接管(31)连接，第二排水管(30)和水泵(29)的输入端通过第二连接管(32)连接，清洗箱(1)内固定连接有过滤网(57)，且第一支撑单元位于过滤网(57)的上方。4.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于：所述往复转动件包括固定安装于推板(14)上的第三转轴(33)，第三转轴(33)远离推板(14)的一端设有侧板(34)，侧板(34)和控制箱(3)固定连接，第三转轴(33)和侧板(34)通过轴承连接，第三转轴(33)的外部固定套设有齿轮(35)，侧板(34)的一侧设有与齿轮(35)相啮合的齿板(36)，齿板(36)上固定连接有活动板(37)，活动板(37)的上方和下方分别设有连接板(39)，连接板(39)和侧板(34)固定连接，相邻两个连接板(39)之间通过两个固定柱(38)固定连接，固定柱(38)贯穿活动板(37)，固定柱(38)的外部套设有两个第一弹簧(40)，相邻两个第一弹簧(40)分别位于活动板(37)的顶部和底部，第一弹簧(40)的两端分别与连接板(39)和活动板(37)固定连接。
5.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于：所述第一缓冲件包括分别固定安装于第一转轴(4)和第二转轴(5)上的第二棱柱(41)，第一活动柱(8)上开设有第一凹槽(42)，且第二棱柱(41)的底端位于第一凹槽(42)内，第二棱柱(41)的底端和第一凹槽(42)的内壁通过第二弹簧(43)连接。6.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于：所述第一支撑单元包括设置于相邻两个第一活动柱(8)之间的第三连接柱(44)，第三连接柱(44)的两端分别与相邻两个第一活动柱(8)固定连接，第三连接柱(44)上固定连接有第二定位块(45)，第二定位块(45)上开设有第二滑槽(46)。7.根据权利要求1所述的一种硅片清洗装置，其特征在于：所述第二缓冲件包括分别固定安装于第一转轴(4)和第二转轴(5)上的第三棱柱(...

【专利技术属性】
技术研发人员：宁志超，谭鹏，
申请(专利权)人：博也新材料佛山有限公司，
类型：发明
国别省市：