一种投影擦写膜及其制备方法和应用技术

本发明专利技术公开了一种投影擦写膜及其制备方法和应用。这种投影擦写膜包括层叠设置的表面结构化层、膜基材层和安装层；其中，表面结构化层为表面具有粗糙化结构的哑光涂层，安装层为铁磁性层或胶粘层。本发明专利技术提供了一种既能满足投影效果，又能兼顾擦写功能，还有磁吸附功能，抗菌等多功能的投影擦写膜。这种投影擦写多功能膜的表面具有粗糙化结构，光泽度较低，形成细腻稳定的哑光表面，达到漫反射的目的，投影效果较好，可用于办公、教学、家庭影院式投影，应用前景广阔。应用前景广阔。应用前景广阔。

【技术实现步骤摘要】
一种投影擦写膜及其制备方法和应用


[0001]本专利技术涉及投影材料
，特别涉及一种投影擦写膜及其制备方法和应用。

技术介绍

[0002]一般来讲，白板擦写产品要求表面光滑，水性笔能轻松书写，字迹清晰，同时，字迹也容易被擦拭。这样的书写和擦拭功能，带来诸多便利，在办公，文具，教育有广泛的应用。白板多为高光泽度产品，光泽度在90
°
以上，表面粗糙度小，书写擦写效果好。
[0003]在办公会议投影时，由于投影仪亮度大，如果投影的地方不能将其均匀分散，易出现以下两种情况：一是强烈的反光导致看不清楚，即眩光，二是容易引起观看者眼睛疲劳，故不适合用于投影。为了解决眩光问题，技术工作者多采用添加消光粉来处理，实现表面的凹凸不平，达到一定的消光效果。消光粉的粉体粒度一般控制在3
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5μm消光效果比较好。消光粉主要代表为二氧化硅，其密度为2.22
‑
2.65g/cm3，比树脂和溶剂密度高。如果哑光UV涂料的粘度偏低，容易出现分散和沉降引起涂料的均匀性问题，导致产品光泽度不稳定；粘度偏高，粉体不容易出现沉降，但分散性和流平性难度偏大，表观质量不理想。为此目前哑光白板产品其光泽度在40
°
左右，擦写效果下降明显，投影时还是存在光斑，也有部分反光，同样会引起观看者眼睛疲劳。另外，书写笔迹留板时间超过3天，墨水会渗透到消光粉或波谷之间，板擦没有接触机会，导致出现擦拭残留。
[0004]为了解决光泽度稳定性和墨水渗透问题，现有技术有公布一种白板和反射式投影屏，提出了采用压花的工艺将表面结构化处理，达到一定消光效果。其工艺为在薄膜表面上涂料，涂料先经UV固化，然后再从涂层面或基材面加热压花处理。该表面算术平均粗糙度数Ra为1.0μm
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4.0μm，压花辊筒表面轮廓平均宽度RSm为30μm
‑
300μm，对比了从涂层正面和基材面压花擦写和投影效果，基材面压花效果最理想，但超过相应范围就不理想，且未阐述光泽度和投影增益效果，以及可视角度等参数。而压花辊筒的制作难度大，成本高，且产品宽幅有限。
[0005]现有技术还公布了一种组合干擦板/投影屏，该方案使用氟化低聚物或氟化单体提高擦写性能，但该类物质普遍价格高昂。其工艺为先涂布UV涂料，经紫外光固化，然后再加热(50℃
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270℃)压花处理，压强为0.4
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1.0MPa，产品表面算术平均粗糙度Ra为1μm
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5μm，相邻凸起之间平均隆起间隔RSm为200μm
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800μm，最大粗糙度深度为Rt为1μm
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30μm，其光泽度为30度以下。基材表面再贴合压敏胶粘合剂以便与其他材料结合。
[0006]压花表面可以做到细腻度有限，粗糙度Ra为1.0
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4.0μm，以及表面相邻凸起平均间距为30
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300μm，说明存在较多的平整和高光泽度的区域，随着投影仪亮度增加，还是存在一定的光斑。如果粗糙度Ra小于1.0μm就存在擦写残留问题。另外，加热压花工艺存在一些不足，一是膜基材在后加工生产时存在不稳定，如高温涂布加工热熔胶，二是在线无胶贴合其它产品，一定的温度和压力会导致花纹消失。

技术实现思路

[0007]本专利技术旨在至少解决现有技术中无法实现投影和擦写兼顾的技术问题，为此，本专利技术的目的在于提供一种投影擦写膜，既能满足投影效果，兼顾擦写功能，还有磁吸附功能，抗菌等多种功能。本专利技术的目的之二在于提供这种投影擦写膜的制备方法。本专利技术的目的之三在于提供这种投影擦写膜的应用。
[0008]为了实现上述目的，本专利技术所采取的技术方案是：
[0009]本专利技术的第一方面提供了一种投影擦写膜，包括层叠设置的表面结构化层、膜基材层和安装层；
[0010]所述表面结构化层为表面具有粗糙化结构的哑光涂层；
[0011]所述安装层为铁磁性层或胶粘层。
[0012]根据本专利技术所述投影擦写膜的一些实施方式，所述表面结构化层具有以下(a)～(d)中至少一个特征：
[0013](a)表面光泽度≤30
°
；
[0014](b)Ra为0.10μm～1.0μm；
[0015](c)Rt为1.0μm～5.0μm；
[0016](d)厚度为1μm～20μm。
[0017]其中，Ra表示算术平均粗糙度；Rt表示最大峰
‑
谷垂直距离。
[0018]根据本专利技术所述投影擦写膜的一些实施例，所述表面结构化层的表面光泽度≤25
°
。
[0019]根据本专利技术所述投影擦写膜的一些实施例，所述表面结构化层的Ra为0.15μm～1μm。
[0020]根据本专利技术所述投影擦写膜的一些具体实施例，所述表面结构化层的Ra为0.2μm～0.8μm。
[0021]根据本专利技术所述投影擦写膜的一些实施例，所述表面结构化层的Rt为1.5μm～4.5μm。
[0022]根据本专利技术所述投影擦写膜的一些具体实施例，所述表面结构化层的Rt为2.0μm～4.0μm。
[0023]根据本专利技术所述投影擦写膜的一些实施例，所述表面结构化层的Rz(微观平度十点高度)为1μm～5μm。
[0024]根据本专利技术所述投影擦写膜的一些具体实施例，所述表面结构化层的Rz为1.2μm～4μm。
[0025]根据本专利技术所述投影擦写膜的一些实施例，所述表面结构化层的Rq(轮廓均方根偏差)为0.1μm～1μm。
[0026]根据本专利技术所述投影擦写膜的一些具体实施例，所述表面结构化层的Rq为0.2μm～0.8μm。
[0027]根据本专利技术所述投影擦写膜的一些实施例，所述表面结构化层的膜厚为1μm～10μm。
[0028]根据本专利技术所述投影擦写膜的一些实施方式，所述表面结构化层是由投影擦写可固化涂料与表面具有粗糙化结构的软膜复合后，经固化定型，再与软膜分离后形成的。
[0029]根据本专利技术所述的投影擦写可固化涂料，其中的“可固化”是指可进行紫外光(UV)固化或者电子束(EB)固化。
[0030]根据本专利技术所述投影擦写膜的一些实施方式，所述投影擦写可固化涂料包括以下制备组分：基料、光引发剂、抗菌剂、擦写助剂；所述基料包括丙烯酸酯树脂预聚体和丙烯酸酯类单体；所述擦写助剂为氟硅共改性的聚丙烯酸酯树脂。
[0031]根据本专利技术所述投影擦写膜的一些实施方式，所述投影擦写可固化涂料包括以下质量份的制备组分：25～55份丙烯酸酯树脂预聚体，12～48份丙烯酸酯类单体，1.0～4.0份光引发剂，1～8份抗菌剂，1～5份擦写助剂；所述擦写助剂包括以下质量份的制备组分：8～12份含氢硅油，3～8份硅烷单体，20～55份双官能度(甲基)丙烯酸酯单体，1～3份含氟(甲基)丙烯酸酯单体，7
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种投影擦写膜，其特征在于，包括层叠设置的表面结构化层、膜基材层和安装层；所述表面结构化层为表面具有粗糙化结构的哑光涂层；所述安装层为铁磁性层或胶粘层。2.根据权利要求1所述的一种投影擦写膜，其特征在于，所述表面结构化层具有以下(a)～(d)中至少一个特征：(a)表面光泽度≤30
°
；(b)Ra为0.10μm～1.0μm；(c)Rt为1.0μm～5.0μm；(d)厚度为1μm～20μm。3.根据权利要求1或2所述的一种投影擦写膜，其特征在于，所述表面结构化层是由投影擦写可固化涂料与表面具有粗糙化结构的软膜复合后，经固化定型，再与软膜分离后形成的。4.根据权利要求3所述的一种投影擦写膜，其特征在于，所述投影擦写可固化涂料包括以下制备组分：基料、光引发剂、抗菌剂、擦写助剂；所述基料包括丙烯酸酯树脂预聚体和丙烯酸酯类单体；所述擦写助剂为氟硅共改性的聚丙烯酸酯树脂。5.根据权利要求4所述的一种投影擦写膜，其特征在于，所述投影擦写可固化涂料包括以下质量份的制备组分：25～55份丙烯酸酯树脂预聚体，12～48份丙烯酸酯类单体，1.0～4.0份光引发剂，1～8份抗菌剂，1～5份擦写助剂；所述擦写助剂包括以下质量份的制备组分：8～12份含氢硅...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶荣根，吴国明，陈志强，汪小明，
申请(专利权)人：广州新莱福新材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：