一种中底结构及鞋制造技术

本发明专利技术公开了一种中底结构，包括：中底本体；晶格，设置于中底本体的背对大底的一侧，且晶格为布置于中底本体上的多个，晶格内设置有填充物。本发明专利技术提供的一种中底结构，在中底本体的背对大底的一侧设置有多个晶格，并且晶格的内腔中布置有填充物，从而对脚底进行支撑。通过排列的晶格，对脚底实现了多点接触支撑，即将现有的平面结构转化为点阵结构。因而，在不规则形态的脚底的不同位置点和不同压力区时，晶格中的填充物则会产生不同形态变化，以适应对脚底各个部位的支撑，进而更好适应了脚底结构，实现了舒缓脚底压力，提高了脚底的舒适度。本发明专利技术还公开了一种鞋。本发明专利技术还公开了一种鞋。本发明专利技术还公开了一种鞋。

【技术实现步骤摘要】
一种中底结构及鞋


[0001]本专利技术涉及鞋材制备
，尤其涉及一种中底结构和鞋。

技术介绍

[0002]目前常见鞋底的中底大多为平板形结构，因此穿着后，则是以平板形式的平面与脚底接触，并且中底的材质通常为单种或几种材质的材料拼接配合形成，因此平板形的中底对脚型的适应性较差，脚底缓压性能弱，久穿会因为脚底压力分布不均匀而产生疲劳感。
[0003]因此，如何舒缓脚底压力，提高舒适度，是本领域技术人员目前需要解决的技术问题。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种中底结构，以舒缓脚底压力，提高舒适度；
[0005]本专利技术的另一目的在于提供一种具有上述中底结构的鞋。
[0006]为了实现上述目的，本实专利技术提供了如下技术方案：
[0007]一种中底结构，包括：
[0008]中底本体；
[0009]晶格，设置于所述中底本体的背对大底的一侧，且所述晶格为布置于所述中底本体上的多个，所述晶格内设置有填充物。
[0010]可选地，在上述中底结构中，依据所述中底本体的受力情况，将所述中底本体划分多个承载区，且各个所述承载区的所述晶格填充不同种类的填充物或相同种类的填充物。
[0011]可选地，在上述中底结构中，所述中底本体与所述晶格为一体结构。
[0012]可选地，在上述中底结构中，所述中底本体的边缘设置有侧沿，所述侧沿的外凸于所述中底本体背对所述大底的一侧，且所述侧沿外凸于所述中底本体的高度不小于所述隔层的高度。
[0013]可选地，在上述中底结构中，所述承载区至少包括前掌承载区、足弓承载区和后掌承载区，且位于所述前掌承载区的所述晶格的数量多余位于所述足弓承载区和所述后掌承载区的所述晶格的数量。
[0014]可选地，在上述中底结构中，沿所述前掌承载区至所述后掌承载区的方向，所述晶格内部的填充物的厚度尺寸逐渐增大。
[0015]可选地，在上述中底结构中，还包括隔垫，所述隔垫设置于所述晶格背对所述中底本体的一侧，以对所述晶格背对所述中底本体的端部进行覆盖。
[0016]可选地，在上述中底结构中，所述晶格和所述中底本体为透明材质。
[0017]本专利技术提供的一种中底结构，在中底本体的背对大底的一侧设置有多个晶格，并且各个晶格内部填充有填充物，以对脚底进行支撑。本专利技术提供的中底结构通过排列的多个晶格和晶格中填充物，实现了将现有平板式的整体面支撑转换为多点接触支撑，即将平面结构转化为点阵结构。因而，在不规则形态的脚底的不同位置和不同的压力情况下，各个
晶格中的填充物则会产生不同形态变化，以适应对脚底各个部位的支撑状态，进而更好适应了脚底不规则的结构。与现有技术中以整体平面的支撑相比，本专利技术提供的中底结构可更好的适应脚底的不同形态的位置，对脚底各个位置紧密贴合进行有效的支撑，缓解了以平板式的支撑面的应力集中问题，实现了舒缓脚底压力，显著提高了脚底的舒适度。
[0018]一种鞋，包括中底结构，所述中底结构为如上任一项所述的中底结构。
[0019]可选地，在上述鞋中，所述中底结构的材质为具有弹性的发泡材料。
[0020]本专利技术提供的鞋，由于具有上述中底结构，因此兼具上述中底结构的所有技术效果，本文在此不再赘述。
附图说明
[0021]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0022]图1为本专利技术实施例公开的中底结构的结构示意图；
[0023]图2为本专利技术另一实施例公开的中底结构的结构示意图。
[0024]其中，100为晶格；
[0025]200为中底本体；
[0026]300为填充物；
[0027]400为大底。
具体实施方式
[0028]本专利技术的核心在于提供一种中底结构，以舒缓脚底压力，提高舒适度；
[0029]本专利技术的另一核心在于提供一种具有上述中底结构的鞋。
[0030]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0031]如图1所示，本专利技术实施例公开了一种中底结构，在中底本体200背对大底400的一侧设置有多个晶格100，并在晶格100放置有填充物300，对脚底进行支撑。本实施例提供的中底结构，用于支撑脚底是由多个排列的晶格100组成的，在对脚底支撑过程中，成点阵化分布的各个晶格100中的填充物300的对脚底的各个部位进行支撑，因而在受到脚底的压力时，对应脚底不同位置和不同压力的晶格100中的填充物300的形态变化则也随之不同，以满足脚底不同区域的需不同的支撑形态的情况。并且点阵化结构分散了脚底的受力，缓解了现有技术中以整体平板式的支撑面对脚底不同形态部位支撑不到位，且不能适应脚底的不规则形态而产生的应力集中的问题。因而，本实施例提供的中底结构可提高脚底舒适度，舒缓脚底压力。在一具体的实施例中，在中底本体200背对大底400的一侧的整个表面都排列有晶格100，以对整个脚底面支撑。或者，可根据实际需求，对中底本体200的部分区域设置晶格100和填充物300。
[0032]进一步地，本实施例提供的中底结构，依据中底本体200的受力情况，可将中底本体200划分多个承载区，并在各个承载区的晶格100填充不同种类填充物300，以使各个承载区和各个晶格100的具有不同材质、硬度和弹性能力等参数的填充物300，适应不同的受力情况和应用场景。如在需要经常保持站立的场景下，晶格100中的填充物300具有较好的柔软性。而在需经常跑步运动的情况下，晶格100的填充物300可具有较好的缓震性，同时在脚部发力过程中，脚底前掌区内侧为主要发力区域，可在此处区域对应的晶格100中填充具有较优弹性能力的填充物300，而在脚部到地面时，前掌区的外侧一般先与地面接触，可在此处区域对应的晶格100内填充具有较优缓冲性能的填充物300，进一步提高本实施例提供的中底结构对脚底的舒适、减震和缓压能力。或者，根据实际需求和其他应用场景，各个承载区的各个晶格100的填充物300种类相同。
[0033]在一具体的实施例中，中底本体200与容纳填充物300的晶格100为一体结构，提高了加工制作的效率和降低了生产成本。而且晶格100的侧壁与中底本体200为一体结构，还提高了晶格100的侧壁与中底本体200连接的可靠性。另外，在填充物300受力过程中，晶格100的侧壁还避免了各个晶格100内填充物300相互挤压干涉和填充物300偏移出晶格100的内腔的问题，使得各个晶格100内填充物300相互独立，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种中底结构，其特征在于，包括：中底本体(200)；晶格(100)，设置于所述中底本体(200)的背对大底(400)的一侧，且所述晶格(100)为布置于所述中底本体(200)上的多个，所述晶格(100)内设置有填充物(300)。2.根据权利要求1所述的中底结构，其特征在于，依据所述中底本体(200)的受力情况，将所述中底本体(200)划分多个承载区，且各个所述承载区的所述晶格(100)填充不同种类的填充物(300)或相同种类的填充物(300)。3.根据权利要求1所述的中底结构，其特征在于，所述中底本体(200)与所述晶格(100)为一体结构。4.根据权利要求3所述的中底结构，其特征在于，所述中底本体(200)的边缘设置有侧沿，所述侧沿外凸于所述中底本体(200)背对所述大底(400)的一侧，且所述侧沿外凸于所述中底本体(200)的高度不小于所述晶格(100)的高度。5.根据权利要求2所述的中底结构，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡国勳，曹雷涛，张峥，胡荣波，
申请(专利权)人：安踏中国有限公司，
类型：发明
国别省市：