【技术实现步骤摘要】
一种单晶硅片表面缺陷检测设备
[0001]本专利技术涉及单晶硅片检测
，具体地说，涉及一种单晶硅片表面缺陷检测设备。
技术介绍
[0002]单晶硅片生产过程中，需要对其表面缺陷进行检测，需要观察单片硅片有无缺角、崩边、翘曲等，而这些都是发生在单片硅片的边缘位置。传统的人工目检是将单晶硅片放置于背光灯下，一点点仔细的观察单晶硅片表面，效率低下，且如果长时间用眼检测，在背光灯的影响下，眼睛很容易出现视觉疲劳。如果利用手来触碰单晶硅片边缘以辨别是否缺角、崩边、翘曲的话，万一误操作划伤单晶硅片的话，又有些得不偿失。
技术实现思路
[0003]为达到上述目的，本专利技术公开了一种单晶硅片表面缺陷检测设备，包括底座，还包括：
[0004]背光单元，所述背光单元嵌设安装于底座顶端；
[0005]图形采集单元，所述图像采集单元位于背光单元上方，所述图像采集单元用于采集硅片的边缘图像信息；
[0006]传送皮带单元，硅片行走于所述传送皮带单元上；
[0007]姿态调整单元，所述姿态调整单元...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种单晶硅片表面缺陷检测设备，包括底座(10)，其特征在于，还包括：嵌设安装于底座(10)顶端的背光单元(11)，图像采集单元(12)位于背光单元(11)上方，所述图像采集单元(12)用于采集硅片(14)的边缘图像信息，硅片(14)行走于传送皮带单元(13)上，姿态调整单元(15)安装于所述底座(10)内，所述姿态调整单元(15)包括可升降的吸附块(16)，所述吸附块(16)用于吸附硅片(14)，并带动硅片(14)可90
°
翻转的行走于图形采集单元(12)下方。2.根据权利要求1所述的一种单晶硅片表面缺陷检测设备，其特征在于，所述传动皮带单元(13)包括两个并列设置的传送皮带。3.根据权利要求1所述的一种单晶硅片表面缺陷检测设备，其特征在于，所述图像采集单元(12)包括：上壳体(17)，所述上壳体(17)安装于底座(10)上方，传动皮带单元(13)行走于上壳体(17)下方；弓形安装架(18)，所述弓形安装架(18)连接于上壳体(17)底部；高清摄像头(19)，两个所述高清摄像头(19)分别安装于弓形安装架(18)两端，并一一对应采集硅片(14)的边缘图像信息。4.根据权利要求1所述的一种单晶硅片表面缺陷检测设备，其特征在于，所述姿态调整单元(15)还包括：位于底座(10)内的动作室，横移槽(21)开设于底座(10)顶端，并连通于动作室内，横移块滑动连接于横移槽(21)内，竖杆(22)底端滑动连接于动作室内底部，竖杆(22)顶端穿设横移块，吸附块(16)安装于竖杆(22)顶端，外安装环(23)套设于竖杆(22)上，传动杆(24)位于动作室内，并通过连接块安装于外安装环(23)上，传动槽(25)开设于传动杆(24)上，转臂(26)一端安装有滑动连接于传动槽(25)内的第一滑块(27)，转臂(26)另一端安装有驱动电机(28)，驱动电机(28)固定安装于动作室内。5.根据权利要求4所述的一种单晶硅片表面缺陷检测设备，其特征在于，所述姿态调整单元(15)还包括：安装于动作室内的90
...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵亮，孙烨昕，李鸿邦，郭跃，闫贺舜，
申请(专利权)人：曲靖阳光新能源股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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