一种缓解摄像头镜片面压衰减的镀膜方法技术

本发明专利技术涉及镜片镀膜技术领域，具体涉及到一种缓解摄像头镜片面压衰减的镀膜方法，包括以下步骤：设计常规AR膜，使得常规AR膜的透过率满足设计要求；测量镜片面压值，在镜片上镀上常规AR膜，测量镀常规AR膜后镜片面压值；在镜片上镀上单一的膜层材料，并测量面压值，以分析AR膜中不同膜层材料对面压值的影响；根据不同膜层材料对面压值的影响，设计满足面压值设计要求的优化AR膜。本发明专利技术的缓解摄像头镜片面压衰减的镀膜方法通过对常规AR膜的进行面压测量及分析，并分析AR膜中不同膜层材料对面压值的影响，以优化改进AR膜，得到满足面压值设计要求和满足透过率设计要求的优化AR膜，提高镜片的面压值。高镜片的面压值。高镜片的面压值。

【技术实现步骤摘要】
一种缓解摄像头镜片面压衰减的镀膜方法


[0001]本专利技术涉及镜片镀膜
，具体涉及到一种缓解摄像头镜片面压衰减的镀膜方法。

技术介绍

[0002]随着5G时代的到来，智能手机、手表等电子产品广泛普及，消费者对电子产品的要求不仅仅局限于性能、寿命，对视觉效果及外观的要求也越来越高。其中，外观炫酷只是一方面，消费者对产品抗划伤、耐摔等方面也看得尤为重要，手机后盖玻璃相对较厚，约1.1mm，而手机摄像头镜片仅0.4
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0.5mm，且镀膜也会降低摄像头镜片的面压，镀膜后其面压远低于手机后盖，为了使其与后盖相匹配，缓解镀膜对摄像头镜片面压的影响，开发出一种降低摄像头镜片面压衰减的薄膜制备方法具有很大的研究意义。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种缓解摄像头镜片面压衰减的镀膜方法。
[0004]为实现上述目的，本专利技术采用的技术方案如下：一种缓解摄像头镜片面压衰减的镀膜方法，包括以下步骤：
[0005]步骤1，设计常规AR膜，使得常规AR膜本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种缓解摄像头镜片面压衰减的镀膜方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1，设计常规AR膜，使得常规AR膜的透过率满足设计要求；步骤2，测量镜片的面压值，在镜片上镀上常规AR膜，测量镀膜后镜片的面压值；步骤3，在镜片上镀上单一的膜层材料，并测量镜片的面压值，以分析AR膜中不同膜层材料对面压值的影响；步骤4，根据不同膜层材料对面压值的影响，设计满足面压值设计要求的优化AR膜。2.根据权利要求1所述的一种缓解摄像头镜片面压衰减的镀膜方法，其特征在于，在步骤1中，采用TFC膜系设计软件，设计出常规AR膜，透过率设计要求为：对于550nm的光线，透过率>94.5％，膜层材料选用高折射率的五氧化三钛Ti3O5和低折射率的二氧化硅SiO2，设计出膜系膜厚如下表：对于550nm的光线，透过率为94.6
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94.7％，满足透过率设计要求。3.根据权利要求1所述的一种缓解摄像头镜片面压衰减的镀膜方法，其特征在于，在步骤2中，取10组镜片进行镀膜前与镀膜后的面压值检测，面压的单位为Kgf；镀膜前面压值数据为：28、27.84、27.48、25.35、26.06、24.93、25.97、27.57、24.54、25.28；镀膜后面压值数据为：7.85、7.91、7.32、8.04、9.13、6.92、6.87、6.46、8.13、8.97；镀膜后面压值降低较多，不能达到全部面压值大于7Kgf的设计要求。4.根据权利要求1所述的一种缓解摄像头镜片面压衰减的镀膜方法，其特征在于，在步骤3中，单一的膜层材料包括单一的五氧化三钛Ti3O5和单一的二氧化硅SiO2，在镜片上分别单独镀上五氧化三钛Ti3O5和二氧化硅SiO2，6个镜片的面压值数据如下表：通过分析单层膜厚的面压数据，得出二氧化硅的厚度是五氧化三钛的两倍多，但二氧化硅面压大于五氧化三钛面压，因此可知导致面压衰减明显的是五氧化三钛的厚度。5.根据权利要求1所述的一种缓解摄像头镜片面压衰减的镀膜方法，其特征在于，在步骤...

【专利技术属性】
技术研发人员：田兴波，吴明山，袁振兴，陈赐予，
申请(专利权)人：抚州联创恒泰光电有限公司，
类型：发明
国别省市：