调色剂、调色剂的生产方法和双组分显影剂技术

本发明专利技术涉及调色剂、调色剂的生产方法和双组分显影剂。调色剂包括调色剂颗粒和在调色剂颗粒的表面的二氧化硅细颗粒A，其中：调色剂的重均粒径为4.0至15.0μm；二氧化硅细颗粒A为已经进行了表面处理的处理过的二氧化硅细颗粒；通过二氧化硅细颗粒A和用己烷洗涤后的二氧化硅细颗粒A的固态DD/MAS 29

【技术实现步骤摘要】
调色剂、调色剂的生产方法和双组分显影剂


[0001]本公开涉及用于使电子照相法和静电记录法等中使用的静电图像显影的调色剂和双组分显影剂、以及调色剂的生产方法。

技术介绍

[0002]近年来，基于电子照相系统的全色复印机广泛普及，开始应用于印刷市场。印刷市场要求提供宽范围的介质(纸张类型)，同时还要求高速、高图像品质以及通过延长的连续操作实现的高生产率。
[0003]为了提高图像品质，调色剂带电特性的稳定是必要的。为了使调色剂的带电特性稳定化，已经进行了外部添加剂的各种研究。例如，日本专利申请特开No.2016
‑
167029公开了通过外部添加用环状硅氧烷进行了表面处理的二氧化硅细颗粒颗粒来实现改善的带电特性的调色剂。日本专利申请特开No.2009
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031426公开了在表面具有环状硅氧烷的调色剂。

技术实现思路

[0004]然而，为了在高速、高图像品质以及通过延长的连续操作实现的高生产率方面达到更高的水平，对于调色剂的带电性能，除了要求环境依赖性低以外，还要求经时稳定性高。即，要求带电本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种调色剂，其特征在于，其包括调色剂颗粒和在所述调色剂颗粒的表面的二氧化硅细颗粒A的调色剂，其中：所述调色剂的重均粒径为4.0至15.0μm；所述二氧化硅细颗粒A为已经进行表面处理的处理过的二氧化硅细颗粒；和在所述二氧化硅细颗粒A的固态DD/MAS
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Si
‑
NMR测量中，在测量与由式(1)表示的结构中由Si
a
表示的硅原子对应的峰PD1、与由式(2)表示的结构中由Si
b
表示的硅原子对应的峰PD2，和与由式(3)表示的结构中由Si
c
表示的硅原子对应的峰PQ，并且将所述峰PD1的面积设为SD1，所述峰PD2的面积设为SD2，所述峰PQ的面积为SQ时，和在用己烷清洗后的所述二氧化硅细颗粒A的固态DD/MAS
29
Si
‑
NMR测量中，在测量与由式(1)表示的结构中由Si
a
表示的硅原子对应的峰PD1w，与由式(2)表示的结构中由Si
b
表示的硅原子对应的峰PD2w，和与由式(3)表示的结构中由Si
c
表示的硅原子对应的峰PQw，并且将所述峰PD1w的面积设为SD1w，所述峰PD2w的面积设为SD2w，和所述峰PQw的面积设为SQw时，SD1和SD2满足1.2≤(SD1+SD2)/SD1≤3.8，WD2为0.1至6.0ppm，其中WD2为所述峰PD2的半值宽度，和使用SD1、SD2和SQ由式(a)算出的Ca与使用SD1w、SD2w和SQw由式(b)算出的Cb满足式(c)，Ca＝(SD1+SD2)/SQ
×
100
ꢀꢀ
(a)Cb＝(SD1w+SD2w)/SQw
×
100
ꢀꢀ
(b)(Ca
‑
Cb)/Ca
×
100≤5.0
ꢀꢀ
(c)(c)在式(1)和(2)中，R各自独立地为氢原子、甲基或乙基。2.根据权利要求1所述的调色剂，其中(SD1+SD2)/SD1为1.5至3.0。3.根据权利要求1或2所述的调色剂，其中WD2为1.0至4.0ppm。4.根据权利要求1或2所述的调色剂，其中，SD1、SD2和SQ满足(SD1+SD2)/SQ
×
100≥1.0。5.根据权利要求1或2所述的调...

【专利技术属性】
技术研发人员：北村伸，高桥徹，辻本大祐，松尾龙一郎，村山隆二，佐野仁思，藤田信幸，山田修嗣，军司由香，小堀尚邦，小川吉宽，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：